“齐鹏煜”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果13个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]曝光装置-CN202310632211.6在审
发明人：王栋;齐鹏煜;万冀豫;段皓;肖宇;冯贺 -专利权人：北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2023-05-30 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开提供了一种曝光装置，包括：透光基板；环形框，设于透光基板的一侧，环形框围成的空间与透光基板形成一容置腔；在容置腔处于负压状态时，一掩模板可吸附于环形框背向透光基板的一侧；收纳机构和牵引机构，设于容置腔内；在与透光基板平行的方向上，牵引机构能够远离或靠近收纳机构；柔性遮光膜，柔性遮光膜的一侧与收纳机构连接，柔性遮光膜相反的一侧与牵引机构连接；其中，在牵引机构靠近收纳机构时，收纳机构能够折叠或卷绕柔性遮光膜，在牵引机构远离收纳机构时，柔性遮光膜的至少部分能够展开。本公开能够在曝光过程中进行遮光。
曝光装置

[发明专利]彩膜结构、制备的方法及显示装置-CN202310466479.7在审
发明人： 齐鹏煜;段皓;王栋;万冀豫 -专利权人：北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2023-04-26 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本公开提供一种彩膜结构、制备的方法及显示装置。该彩膜结构包括：基板；彩膜层，所述彩膜层包括多个色阻块，以及位于所述色阻块之间的黑矩阵；有机棱镜层，所述有机棱镜层具有多个棱镜结构，所述棱镜结构在所述基板上的正投影和所述色阻块在所述基板上的正投影之间具有重叠区域，所述棱镜结构的聚合度大于所述有机棱镜层中未设置所述棱镜结构处的聚合度。由此，可降低彩膜结构表面环境光的反射率，并通过棱镜结构提升利用该彩膜结构的显示装置的对比度。
膜结构制备方法显示装置

[实用新型]彩膜基板、显示装置及电子设备-CN202222432265.1有效
发明人：段皓;肖宇;万冀豫;齐鹏煜;杨同华;冯贺 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2022-09-14 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种彩膜基板、显示装置及电子设备，彩膜基板包括彩膜面板，所述彩膜面板包括彩膜滤光片、黑矩阵和基板，其中，所述黑矩阵的一侧与所述基板贴合，所述黑矩阵的另一侧与所述彩膜滤光片贴合；偏光板，其中，所述偏光板贴合在所述基板的远离所述黑矩阵的一侧上；密封机构，所述密封机构设置在所述基板和所述偏光板之间，所述密封机构包括橡胶圈和海绵圈，所述橡胶圈的一侧贴合在所述偏光板四周的边缘处，以阻挡侵蚀物，所述海绵圈的一侧贴合在所述基板四周的边缘处，以吸附侵蚀物。海绵圈对水汽进行吸附，当水汽侵蚀时，可保证彩膜面板整体的干燥度，保证了彩膜基板的使用寿命。
彩膜基板显示装置电子设备

[发明专利]掩膜装置和曝光设备-CN201810287984.4有效
发明人： 齐鹏煜;张思凯;汪栋 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2018-03-30 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： G03F1/50 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜装置，包括相对设置的掩膜板和半透光板，所述掩膜板包括多个透光区和位于该多个透光区以外的不透光区，所述半透光板被划分为与所述掩膜板的透光区一一对应的半透光区，所述半透光区中的一部分区域透光，另一部分区域不透光；每个所述半透光区中，不透光的区域在所述半透光区中均匀分布。相应地，本发明还提供一种曝光设备。本发明能够提高感光层接收到的有效照度，有利于高分辨率显示产品的制作。
装置曝光设备

[发明专利]用于黑矩阵的组合物及其制备方法、显示基板和显示装置-CN201710001229.0有效
发明人： 齐鹏煜;汪栋;郭杨辰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2017-01-03 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： G03F7/032 文献下载
摘要：本申请提供了一种用于黑矩阵的组合物及其制备方法、显示基板和显示装置，该用于黑矩阵的组合物包括：胶粘剂、遮光材料、溶剂、第一染料和单体，其中，所述遮光材料包括遮光颗粒、依次包覆所述遮光颗粒的电性隔绝材料和基底材料；所述单体连接所述胶粘剂和所述第一染料以及所述遮光材料。本发明的实施例提供的用于黑矩阵的组合物相比于常规的制备黑矩阵的材料具有更高的阻抗和光密度值。
用于矩阵组合及其制备方法显示显示装置

[发明专利]蒸镀方法以及蒸镀装置-CN201711338456.9有效
发明人：万冀豫;汪栋;宋勇志;姜晶晶;齐鹏煜 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2017-12-14 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本公开涉及蒸镀技术领域，公开了一种蒸镀方法，该蒸镀方法包括：给靶材施加激励声波，使靶材的设定部位的粒子的能量高于所述粒子脱离所述靶材需要的能量而脱离所述靶材附着于基板的设定区域。使用该蒸镀方法避免蒸镀材料的损失，提高蒸镀材料的利用率，从而降低成本。
方法以及装置

[发明专利]位置传感器以及包括其的运送装置和利用其进行位置修正的方法-CN201610635991.X有效
发明人： 齐鹏煜;汪栋;侯建 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2016-08-05 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明提出了一种改进的位置传感器、具有该位置传感器的运送装置以及利用该位置传感器进行位置修正的方法。该位置传感器包括至少两个光发射器、光接收器阵列以及基座，所述基座具有中心平面以及在相对的边缘处的向中心倾斜的至少两个斜面，所述至少两个发射器分别被设置所述至少两个斜面上，所述光接收器阵列被放置在所述基座的中心平面处。
位置传感器以及包括运送装置利用进行修正方法

[发明专利]一种显示基板、显示面板及显示装置-CN201710002757.8有效
发明人：郭杨辰;汪栋;齐鹏煜 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2017-01-03 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种显示基板、显示面板及显示装置，该显示基板包括多个呈阵列排布的亚像素单元；在至少一个亚像素单元所在区域内设置有一具有空心区域的对位标记；对位标记用于在曝光形成显示基板上的一膜层的图形时进行曝光设备的对位。这种对位标记由于位于亚像素单元内部，不占用基板空间，可以有效增加基板利用率，且在大尺寸拼接产品中，使用这种对位标记可以满足大尺寸拼接产品的曝光需求，提高了显示基板在制造过程中的灵活性与实用性。
一种显示面板显示装置

[实用新型]曝光机光学系统-CN201820002395.2有效
发明人： 齐鹏煜;姜晶晶;汪栋 -专利权人：北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-01-02 - 公布日： 2018-07-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开一种曝光机光学系统，属于显示技术领域。该曝光机光学系统包括：光源，用于提供初始光束；蝇眼透镜，位于所述初始光束的光路上，用于将所述初始光束分裂为多个细光束；光学过滤器，与所述蝇眼透镜相邻设置，用于控制所述蝇眼透镜出射所述细光束的照度以及扩散幅度。本实用新型的曝光机光学系统可以有效改变设备光路角度，提升光源利用率，确保设备的超细线化开发。
光学系统曝光机蝇眼透镜本实用新型细光束光学过滤器光源利用率改变设备确保设备相邻设置超细线出射光路照度光源扩散分裂开发

[发明专利]一种掩膜版、曝光装置及曝光方法-CN201510622624.1有效
发明人： 齐鹏煜;查长军;王艳萍;汪栋;袁剑峰;邵喜斌;张焱;肖金涛;郭杨辰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2015-09-25 - 公布日： 2017-12-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版、曝光装置及曝光方法。所述掩膜版，包括基板以及设置在基板上的多个开口图形，在利用所述掩膜版对目标基板进行曝光时，基板上第一区域中的开口图形的光线透过量大于基板第二区域中的光线透过量，使得第一区域中多于第二区域的光线透过量能够对第二区域所对应的产品区域中的线宽进行补偿，令产品线宽的一致度大于设定值；所述第一区域和第二区域为基板上的两个区域。所述曝光装置包括本发明任意一项实施例所提供的掩膜版。本发明所提供的曝光方法，采用本发明任意一项实施例所提供的曝光装置对目标基板进行曝光。
一种掩膜版曝光装置方法

[实用新型]一种彩膜基板及显示装置-CN201720005022.6有效
发明人：郭杨辰;汪栋;齐鹏煜 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2017-01-03 - 公布日： 2017-08-11 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本实用新型实施例提供一种彩膜基板及显示装置，涉及显示技术领域，相对现有技术，可避免对位标记图案占用较大的空间，且在曝光时检出系对同一对位标记图案只需检出一次，节省了对位工序的时间。该彩膜基板包括至少一个对位标记图案组；所述对位标记图案组包括第一对位标记图案、第二对位标记图案以及第三对位标记图案，所述第一对位标记图案、所述第二对位标记图案、所述第三对位标记图案均不相同。用于彩膜基板的对位曝光。
一种彩膜基板显示装置

[发明专利]一种涂胶装置及其出胶喷嘴的清洗方法-CN201510728745.4在审
发明人：郭杨辰;齐鹏煜 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2015-10-30 - 公布日： 2015-12-23 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种涂胶装置及其出胶喷嘴的清洗方法，以解决现有技术的涂布装置的出胶喷嘴的底端处无法清理干净，在凝结后所形成的光刻胶块掉落在正在涂布的基板表面时，会影响涂布质量的问题。所述涂胶装置，包括胶桶、与所述胶桶连接的出胶喷嘴、以及设置于所述出胶喷嘴下方的废胶槽；所述涂胶装置还包括清洗槽和清洗部件；所述清洗槽设置于所述废胶槽的一侧；所述清洗部件设置于所述清洗槽内，所述清洗部件用于在所述出胶喷嘴移动到所述清洗槽上方时，向所述出胶喷嘴喷射清洗液和清洁气体以清洗所述出胶喷嘴。
一种涂胶装置及其喷嘴清洗方法

[发明专利]一种光刻胶回收系统-CN201410024900.X有效
发明人：陈鹏;杜宏伟;吴凯民;肖金涛;齐鹏煜;孙培会 -专利权人：北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2014-01-20 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶回收系统，用于解决光刻胶涂布机排出的使用过的光刻胶浪费的问题。所述系统包括：接收装置，接收装置与光刻胶涂布装置连接，分别与第一缓冲装置和第二缓冲装置连接的输送装置，输送装置用于将第一缓冲装置中的光刻胶输送至第二缓冲装置；第二缓冲装置的顶部通过设置有第二控制阀的管道与干洁气源连接；第二缓冲装置的底部连接设置有第四控制阀的管道；第二缓冲装置用于容纳输送装置输送的使用过的光刻胶，并在干洁气源提供的气压下，通过所述设置有第四控制阀的管道将所述使用过的光刻胶输送至胶桶。光刻胶涂布机排出的使用过的光刻胶通过上述各装置进入胶桶，可以再次利用，从而降低生产成本。
一种光刻回收系统

1
共 13 条