专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]在JVM平台调用opencv进行印章处理的方法及系统-CN202310681799.4在审
  • 陈克松;黄福桂;杨春来 - 欧冶工业品股份有限公司
  • 2023-06-08 - 2023-10-03 - G06T7/13
  • 本发明提供一种在JVM平台调用opencv进行印章处理的方法及系统,涉及图像处理技术领域,包括:步骤S1:在Java代码中定义一个opencv的封装类描述供调用的方法并编译,通过javah命令生成c++头文件;步骤S2:根据所述c++头文件编写c++代码调用opencv功能,并与opencv共同编译为目标运行生成环境的动态链接库;步骤S3:在JVM平台应用程序中载入所述动态链接库,并引入所述封装类;步骤S4:将盖有印章的模版文档扫描为图片;步骤S5:在程序中读取图片,调用所述封装类中的方法对图片进行处理,提取印章图像;步骤S6:将提取的印章图像保存为新的图片文件。本发明能够解决JVM平台上图形处理算法缺失,无法完成复杂的图形处理的问题。
  • jvm平台调用opencv进行印章处理方法系统
  • [发明专利]一种谱图的解析方法和装置-CN202211713225.2在审
  • 黄福桂;朱越就;许春华;谭国斌;吴曼曼 - 广州禾信仪器股份有限公司
  • 2022-12-27 - 2023-04-07 - G01N30/86
  • 本发明公开了一种谱图的解析方法和装置,其中谱图的解析方法包括以下标准成分分析过程:定位样品色谱图中各个色谱峰的峰位置,并获取所述峰位置的混合质谱图;对所述混合质谱图中的无效质谱峰进行过滤得到第一质谱图,将所述第一质谱图在数据库中进行匹配,得到得分排名前几的若干个匹配结果;计算各个标准成分的最终得分,将最高的所述最终得分对应的标准成分记为第一成分,在所述第一质谱图及其色谱峰中对所述第一成分进行成分扣除处理;重新计算所述第一质谱图的色谱峰,并重复执行所述标准成分分析过程直至所述样品色谱图不再含有成分。本发明提高了色谱峰解析技术的抗噪声干扰能力,拓宽了其适用范围。
  • 一种解析方法装置

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