专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]真空处理装置-CN200580021978.5有效
  • 高桥诚一;宫谷武尚;林秀夫;佐藤真幸;堤贤吾;小野洋平 - 株式会社爱发科
  • 2005-06-28 - 2007-06-06 - H01L21/3065
  • 本发明提供一种处理室的更换容易的真空处理装置,本发明的真空处理装置(1)具有处理室(20)和输出输入室(10)。输出输入室(10)固定在处理室(20)的上方位置。另一方面,处理室(20)可通过升降机构(50)下降,所以若使处理室(20)下降,则处理室(20)从输出输入室(10)分离。此外,在处理室(20)上连接有搬运机构(30),所以在从输出输入室(10)拆下处理室(20)后,也容易搬运处理室(20)。这样,根据本发明,与以往相比更换处理室(20)的操作变得简单容易。
  • 真空处理装置

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