专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]白光光源中心波长的测量装置-CN202310919910.9在审
  • 张和君;刘见桥;霍阔;陈世超 - 深圳市中图仪器股份有限公司
  • 2023-05-06 - 2023-10-24 - G01J9/02
  • 本公开描述一种白光光源中心波长的测量装置,包括发生模块、干涉物镜、采样模块、以及数据处理模块;发生模块用于经干涉物镜向待测样品发出测量光束,测量光束经待测样品反射在干涉物镜中形成反射光束;采样模块采集反射光束以获得用于形成关于待测样品的多帧图像的光干涉信号;数据处理模块用于:构建光干涉信号的信号强度和多帧图像的采样帧数的关系曲线;并且得到多帧图像的图像帧序和在每帧图像处关系曲线的相位的拟合斜率,根据拟合斜率求出光源的中心波长。由此,能够在测量装置上直接测量白光光源的中心波长,能够提升测量的效率和便捷性。
  • 白光光源中心波长测量装置
  • [发明专利]聚焦曲线的拟合方法、拟合装置及测量系统-CN202211476570.9有效
  • 张琥杰;张和君;许陈旭;刘怡;霍阔 - 深圳市中图仪器股份有限公司
  • 2022-11-23 - 2023-08-04 - G01B11/24
  • 本公开描述了一种聚焦曲线的拟合方法、拟合装置及测量系统,拟合方法包括:获取测量信息,测量信息包括多个第一测量信息、第二测量信息、以及多个第三测量信息;在多个第一测量信息中获取多个第一目标测量信息,在多个第三测量信息中获取多个第三目标测量信息,响应于第一测量信息与第三测量信息呈对称状态而基于第一目标测量信息和第三目标测量信息拟合聚焦曲线;响应于第一测量信息与第三测量信息呈非对称状态而基于靠近第二测量信息的多个第一测量信息、第二测量信息、以及靠近第二测量信息的多个第三测量信息拟合聚焦曲线。根据本公开,能够提供一种提高对待测物的测量精度的拟合方法、拟合装置及测量系统。
  • 聚焦曲线拟合方法装置测量系统
  • [发明专利]光源中心波长的测量方法及测量装置-CN202310501801.5有效
  • 张和君;刘见桥;霍阔;陈世超 - 深圳市中图仪器股份有限公司
  • 2023-05-06 - 2023-07-21 - G01J9/02
  • 本公开描述一种光源中心波长的测量方法及测量装置,测量方法包括:使用光源发出测量光束至待测样品;控制驱动模块以预设步长驱动干涉物镜移动的同时同步控制采样模块对待测样品进行均匀采样;构建采样帧数和形成每帧图像的光干涉信号的关系曲线,并对每帧图像的光干涉信号进行数字正交解调以得到在每帧图像处关系曲线的幅值和相位;构建关系曲线的包络高斯曲线,并获得包络高斯曲线的峰值位置;在峰值位置拟合多帧图像的图像帧序和在每帧图像处关系曲线的相位的拟合斜率,根据拟合斜率求出光源的中心波长。由此,通过该测量方法,能够在测量装置上直接测量并校准光源的中心波长,能够提升测量的效率和便捷性。
  • 光源中心波长测量方法测量装置
  • [发明专利]共聚焦显微镜的重建方法-CN202211685301.3有效
  • 张琥杰;许陈旭;张和君;霍阔 - 深圳市中图仪器股份有限公司
  • 2022-12-27 - 2023-06-23 - G01B11/24
  • 本公开描述了一种共聚焦显微镜的重建方法,包括:获取待测物的多组第一反射光束,基于多组第一反射光束获得多组第一测量信息;获取待测物的多组第二反射光束,基于多组第二反射光束获得多组第二测量信息;令包括第一反射光束的最大强度小于第一预设值的第一测量信息为第一目标信息,令包括第一反射光束的最大强度不小于第一预设值的第一测量信息为第二目标信息,令包括第二反射光束的最大强度小于第一预设值且大于第二预设值的第二测量信息为第三目标信息;并且基于第一目标信息、第二目标信息、以及第三目标信息中的至少两项获得目标图像以重建待测物。根据本公开,能够提供一种提高对待测物的重建精度的重建方法。
  • 聚焦显微镜重建方法
  • [发明专利]显微镜的场曲校正方法及其校正装置-CN202211730795.2在审
  • 张琥杰;张和君;许陈旭;霍阔 - 深圳市中图仪器股份有限公司
  • 2022-12-30 - 2023-04-25 - G01Q40/02
  • 本公开描述一种显微镜的场曲校正方法及其校正装置,校正方法包括:将标准工件置于承载平台,标准工件具有标准面;令标准面位于显微物镜的焦平面;令标准面的像面为初始像面,获取初始像面中的多个初始成像点,令多个初始成像点的空间位置坐标作为多个第一坐标,多个初始成像点与标准面中的各个待测点一一对应;将多个初始成像点映射至基准平面并得到多个与多个初始成像点相匹配的多个目标成像点,多个目标成像点与多个初始成像点一一对应;令多个目标成像点的空间位置坐标为多个第二坐标;在测量过程中,基于多个第一坐标和多个第二坐标校正显微镜的场曲。根据本公开,能够提供一种能够提高对待测工件的测量精度的场曲校正方法及其校正装置。
  • 显微镜校正方法及其装置
  • [发明专利]测量仪器的校准方法及其校准装置-CN202211251457.0在审
  • 张琥杰;霍阔;刘见桥;许陈旭;张和君 - 深圳市中图仪器股份有限公司
  • 2022-10-13 - 2023-01-17 - G01B11/24
  • 本公开描述了一种测量仪器的校准方法及其校准装置,包括:将具有十字图案的标准件置于承载平台;令多个物镜中的第一物镜作为工作物镜,令工作物镜对焦并对准于十字图案,将第一物镜在第一方向的位置作为第一位置,并将承载平台在预设平面的位置作为第二位置;令多个物镜中的第二物镜作为工作物镜,调整第二物镜的位置以使第二物镜对焦于十字图案并调整承载平台的位置以使第二物镜对准于十字图案,将第二物镜在第一方向的位置作为第三位置,并将承载平台在预设平面的位置作为第四位置;基于第一位置和第三位置对工作物镜进行齐焦校准;并且基于第二位置和第四位置对工作物镜进行同心校准。
  • 测量仪器校准方法及其装置
  • [发明专利]晶圆量测系统-CN202211274280.6在审
  • 许敢;张和君;霍阔;吴清文;王健强;王群波 - 深圳市中图仪器股份有限公司
  • 2022-10-18 - 2022-12-09 - H01L21/66
  • 本发明描述一种晶圆量测系统,包括储料设备、定位设备、检测设备、以及在储料设备、定位设备、以及检测设备之间转运晶圆的搬运设备,储料设备用于放置晶圆,晶圆具有第一定位标识和第二定位标识;搬运设备将晶圆搬运至定位设备,并且定位设备基于第一定位标识对晶圆进行姿态定位;搬运设备将经姿态定位的晶圆转运至检测设备,检测设备基于第二定位标识对经姿态定位的晶圆进行精确定位并对经精确定位的晶圆进行量测。由此,本发明能够提供一种晶圆量测系统,能够快速、精准地对晶圆进行量测。
  • 晶圆量测系统
  • [发明专利]一种自动找寻干涉条纹的方法和装置-CN201910164501.6有效
  • 张和君;霍阔 - 深圳市中图仪器股份有限公司
  • 2019-03-05 - 2020-09-11 - G01B11/25
  • 本发明提供了一种自动找寻干涉条纹的方法和装置,其中方法包括如下步骤:对白光干涉扫描图像在Z向等间隔依次采集图片,选取其中连续的N张图片,计算第n帧图片对应所述图像的像素条纹的特征值;所述N为大于或等于3的整数;计算第n帧图片对应所述图像的像素条纹的信噪比;依据当前第n帧图片的像素条纹的特征值与信噪比对当前状态进行检测;根据不同Z向位置的图片对应的像素条纹的特征值与信噪比,检测得到条纹干涉最亮的Z向位置和条纹干涉消失的Z向位置。采用本发明的技术方案,通过自动找寻并定位至干涉位置,从而实现安全、高效的找寻过程,无需操作人员实时操作和观察,省时省力,效率高,安全可靠。
  • 一种自动找寻干涉条纹方法装置

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