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[发明专利]用于过曝现象的重建方法、重建装置和重建系统-CN202310957918.4在审
发明人： 许陈旭;张和君;霍阔;张琥杰 -专利权人：深圳市中图仪器股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本公开描述了一种用于过曝现象的重建方法、重建装置和重建系统，重建方法包括：获取待测物在第一光束照明时多个待测区域的反射光束作为多组第一反射光束，基于多组第一反射光束获得与多个待测区域相匹配的多组第一测量信息，其中，第一测量信息包括第一反射光束的强度；令包括第一反射光束的最大强度小于第一预设值的第一测量信息为第一目标信息，令包括第一反射光束的最大强度不小于第一预设值的第一测量信息为第二目标信息；并且基于第一目标信息和第二目标信息重建待测物。根据本公开，能够提高重建待测物的重建精度。
用于现象重建方法装置系统

[发明专利]聚焦曲线的拟合方法、拟合装置及测量系统-CN202211476570.9有效
发明人：张琥杰;张和君;许陈旭;刘怡;霍阔 -专利权人：深圳市中图仪器股份有限公司
申请日： 2022-11-23 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本公开描述了一种聚焦曲线的拟合方法、拟合装置及测量系统，拟合方法包括：获取测量信息，测量信息包括多个第一测量信息、第二测量信息、以及多个第三测量信息；在多个第一测量信息中获取多个第一目标测量信息，在多个第三测量信息中获取多个第三目标测量信息，响应于第一测量信息与第三测量信息呈对称状态而基于第一目标测量信息和第三目标测量信息拟合聚焦曲线；响应于第一测量信息与第三测量信息呈非对称状态而基于靠近第二测量信息的多个第一测量信息、第二测量信息、以及靠近第二测量信息的多个第三测量信息拟合聚焦曲线。根据本公开，能够提供一种提高对待测物的测量精度的拟合方法、拟合装置及测量系统。
聚焦曲线拟合方法装置测量系统

[发明专利]共聚焦显微镜的重建方法-CN202211685301.3有效
发明人：张琥杰;许陈旭;张和君;霍阔 -专利权人：深圳市中图仪器股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本公开描述了一种共聚焦显微镜的重建方法，包括：获取待测物的多组第一反射光束，基于多组第一反射光束获得多组第一测量信息；获取待测物的多组第二反射光束，基于多组第二反射光束获得多组第二测量信息；令包括第一反射光束的最大强度小于第一预设值的第一测量信息为第一目标信息，令包括第一反射光束的最大强度不小于第一预设值的第一测量信息为第二目标信息，令包括第二反射光束的最大强度小于第一预设值且大于第二预设值的第二测量信息为第三目标信息；并且基于第一目标信息、第二目标信息、以及第三目标信息中的至少两项获得目标图像以重建待测物。根据本公开，能够提供一种提高对待测物的重建精度的重建方法。
聚焦显微镜重建方法

[发明专利]显微镜的场曲校正方法及其校正装置-CN202211730795.2在审
发明人：张琥杰;张和君;许陈旭;霍阔 -专利权人：深圳市中图仪器股份有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： G01Q40/02 文献下载
摘要：本公开描述一种显微镜的场曲校正方法及其校正装置，校正方法包括：将标准工件置于承载平台，标准工件具有标准面；令标准面位于显微物镜的焦平面；令标准面的像面为初始像面，获取初始像面中的多个初始成像点，令多个初始成像点的空间位置坐标作为多个第一坐标，多个初始成像点与标准面中的各个待测点一一对应；将多个初始成像点映射至基准平面并得到多个与多个初始成像点相匹配的多个目标成像点，多个目标成像点与多个初始成像点一一对应；令多个目标成像点的空间位置坐标为多个第二坐标；在测量过程中，基于多个第一坐标和多个第二坐标校正显微镜的场曲。根据本公开，能够提供一种能够提高对待测工件的测量精度的场曲校正方法及其校正装置。
显微镜校正方法及其装置

[发明专利]测量仪器的校准方法及其校准装置-CN202211251457.0在审
发明人：张琥杰;霍阔;刘见桥;许陈旭;张和君 -专利权人：深圳市中图仪器股份有限公司
申请日： 2022-10-13 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本公开描述了一种测量仪器的校准方法及其校准装置，包括：将具有十字图案的标准件置于承载平台；令多个物镜中的第一物镜作为工作物镜，令工作物镜对焦并对准于十字图案，将第一物镜在第一方向的位置作为第一位置，并将承载平台在预设平面的位置作为第二位置；令多个物镜中的第二物镜作为工作物镜，调整第二物镜的位置以使第二物镜对焦于十字图案并调整承载平台的位置以使第二物镜对准于十字图案，将第二物镜在第一方向的位置作为第三位置，并将承载平台在预设平面的位置作为第四位置；基于第一位置和第三位置对工作物镜进行齐焦校准；并且基于第二位置和第四位置对工作物镜进行同心校准。
测量仪器校准方法及其装置