专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]磁性氧化硅球及其合成方法-CN200910212916.2有效
  • 陈名海;李清文;陈同来 - 苏州纳米技术与纳米仿生研究所
  • 2009-11-06 - 2010-07-28 - H01F1/01
  • 本发明揭示了一种磁性氧化硅球及其合成方法,该磁性氧化硅球为三层核壳结构,自内而外包括氧化硅球、磁性纳米颗粒、氧化硅壳层;磁性氧化硅球尺寸的调控范围介于50nm~5μm。其合成方法是:将预制的带正电的磁性纳米颗粒酸化,并依次加入体积比为40∶8∶1的蒸馏水、预制的氧化硅球乙醇悬浮液、氨水及足量的正硅酸乙酯室温搅拌,经产物过滤、收集并真空干燥获得磁性氧化硅球。本发明技术方案应用实施后,能够实现一步合成磁性氧化硅球,且具有产物尺寸可控性好,产率高的优点;外层氧化硅不仅作为保护层,通过简单的硅烷修饰和功能化,能够赋予磁性氧化硅球更广泛的功能性,是一种磁性多功能平台。
  • 磁性氧化及其合成方法
  • [发明专利]透明导电氧化物薄膜的低温制备方法-CN200810244715.6无效
  • 陈同来;李清文;陈名海 - 苏州纳米技术与纳米仿生研究所
  • 2008-11-26 - 2009-05-13 - C23C14/08
  • 本发明提供一种透明导电氧化物薄膜的低温制备方法,采用脉冲激光法制备籽晶层后,再分别采用脉冲激光法或磁控溅射法后续制备铌掺杂氧化钛透明导电薄膜材料,籽晶层为锐钛矿晶型的氧化钛单晶,脉冲激光沉积控制厚度在0.5~数个晶胞c轴长度;在带有籽晶层的衬底材料上采用脉冲激光法或磁控溅射法继续生长制备氧化钛基薄膜材料,其制备过程对制备工艺和生长条件的依赖性较小,制备工艺灵活,富有选择性,获得的氧化钛基透明导电薄膜可见光透过率优于90%,室温电阻率小于8×10-4ohm.cm;实现替代ITO用透明导电氧化物薄膜的低温生长与制备。
  • 透明导电氧化物薄膜低温制备方法

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