专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]轮廓经设计的薄膜器件和结构-CN200880109909.3无效
  • 阿尔万德·卡玛斯;艾瑞克·斯澈尔;帕特里克·史密斯;阿迪提·钱德拉;史蒂文·莫里萨 - 蔻维尔公司
  • 2008-10-01 - 2010-09-01 - H01L21/336
  • 本发明涉及具有带有光滑的和/或穹顶形轮廓的电介质、导体和/或半导体层的电活性器件(例如,电容器、晶体管、二极管和浮栅存储器单元等)以及通过沉积或印刷(例如,喷墨印刷)包括半导体、金属或电介质前驱物的墨水组合物来形成这种器件的方法。光滑的和/或穹顶形截面轮廓可以允许光滑的拓扑过渡,而没有尖锐的台阶,在沉积的过程中防止构件的不连续,并且允许更完整地台阶覆盖随后沉积的结构。该创造性的轮廓既允许通过热氧化来均匀地生长氧化物层,并且也允许结构的基本均匀的蚀刻速率。这种氧化物层可以具有均匀的厚度并且提供对于下层电活性构件的基本完全覆盖。均匀的蚀刻允许通过简单的各向同性蚀刻来减小电活性构件的临界尺寸的有效方法。
  • 轮廓设计薄膜器件结构

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