“阿瑟·凯格勒”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果15个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]湿式处理系统用工件固持器-CN201780040136.7有效
发明人： 阿瑟·凯格勒;大卫·G·瓜尔纳烚 -专利权人：先进尼克斯有限公司
申请日： 2017-06-20 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本文的技术提供可固持相对挠性及薄的工件的工件固持器，用于传送及电化学沉积，且同时避免电镀流体润湿一给定工件的接触件或接触区域。工件固持器框架藉由在工件的相反侧上夹持工件而固持工件。挠曲结构用于夹持一给定工件，及用于提供将电流供应至工件的电路径。弹性体覆盖件提供电性挠曲结构的密封及绝缘。工件固持器亦对工件提供张力，以在处理期间帮助使工件保持平坦。各挠曲结构可对工件表面提供独立的电路径。
处理系统用工件固持器

[发明专利]电化学沉积系统-CN202010684054.X有效
发明人： 阿瑟·凯格勒;戴夫·瓜尔纳烚;德梅特留斯·帕帕帕纳约图;乔恩·汉德;罗伯特·穆恩 -专利权人：先进尼克斯有限公司
申请日： 2020-07-16 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：一种用于将金属沉积到工件上的电化学沉积系统，包括：适于容纳镀覆液的沉积室；用于将工件固持于第一平面中的工件固持器；用于将屏蔽件固持于基本上平行于所述第一平面的第二平面中的屏蔽件固持器；以及具有异型表面以搅动所述镀覆液的搅动板，其中所述工件固持器、所述屏蔽件固持器以及所述搅动板均适于插入所述沉积室中并从所述沉积室中移除。所述电化学沉积系统还包括致动器，所述致动器可操作为当所述工件固持器和所述屏蔽件固持器位于所述沉积室内时，在垂直于所述第一平面和所述第二平面的方向上改变它们之间的相对距离。
电化学沉积系统

[发明专利]用于电镀的自适应聚焦和输送系统-CN202310063307.5在审
发明人： 阿瑟·凯格勒;大卫·瓜尔纳烚;弗里曼·费雪;德梅特留斯·帕帕帕纳约图;乔纳森·海恩斯;丹尼尔·古德曼 -专利权人：先进尼克斯有限公司
申请日： 2023-01-16 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：一种用于电镀工件的系统和方法。一方面，设备包括沉积室、适于插入和移出所述沉积室的工件固持器、具有与所述工件上的特征相对应的孔径图案的屏蔽件、同样适于插入和移出所述沉积室的屏蔽件固持器、以及将所述工件定位在所述工件固持器中的定位机构，使得当所述工件固持器和所述屏蔽件固持器插入所述沉积室时，所述屏蔽件上的所述孔径图案将与所述工件上的所述相应特征对齐。
用于电镀自适应聚焦输送系统

[发明专利]真空隔离的批处理系统-CN202111144244.3在审
发明人： 阿瑟·凯格勒;凯文·巴贝拉;丹尼尔·古德曼 -专利权人：先进尼克斯有限公司
申请日： 2019-09-12 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：一种气相沉积系统，包括：真空腔室；与真空腔室真空连通的两个或更多个处理模块；设置在真空腔室内的阀板；可旋转的多模块载体圆盘，所述多模块载体圆盘被配置成通过旋转将阀板运送并定位到至少一个处理模块的密封表面下方；以及锁环，所述锁环被配置成：当所述至少一个处理模块从与所述真空腔室的真空连通移除并进入大气压力时，使用足够的力将阀板固定抵靠在至少一个处理模块的密封表面上来保持所述真空腔室中的真空压力。
真空隔离批处理系统

[发明专利]真空隔离的批处理系统-CN201910867052.1有效
发明人： 阿瑟·凯格勒;凯文·巴贝拉;丹尼尔·古德曼 -专利权人：先进尼克斯有限公司
申请日： 2019-09-12 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：一种气相淀积系统包括一个真空腔室以及被配置成处理半导体衬底的两个或更多个处理模块。每个处理模块可移除地连接至所述真空腔室的相应端口，使得当连接到所述相应端口时，每个处理模块与所述真空腔室真空连通。端口密封机构，该端口密封机构被配置成在每个端口处形成真空密封，使得当第一端口被密封且第一处理模块与该第一端口断开连接时，在所述第一处理模块通向大气压力的同时在所述真空腔室内保持真空状态。
真空隔离批处理系统

[发明专利]湿式处理系统及其操作方法-CN201780040080.5在审
发明人： 阿瑟·凯格勒;乔纳森·韩德;弗里曼·费雪;乔纳森·海恩斯;盖瑞·博利特;大卫·瓜尔纳烚 -专利权人：先进尼克斯有限公司
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本文描述一种电化学沉积系统，该电化学沉积系统具有两个以上电化学沉积模块，该等电化学沉积模块是在一共同平台上加以配置且是配置成用于在一基板上沉积一种以上金属。每一电化学沉积模块包括配置成包含阳极电解液流体的容积的一阳极隔间、配置成包含阴极电解液流体的容积的一阴极隔间、及将该阳极隔间与该阴极隔间分隔开的一膜。每一电化学沉积模块更包含一工件固持器及一装载器模块，该工件固持器是配置成藉由一夹持机构将在第一和第二腿部构件之间的一挠性工件的相对的边缘加以固持，该装载器模块是配置成将该挠性工件定位在该工件固持器内，且同时在该挠性工件的每一相反的平坦表面上使用一气垫固持该挠性工件。
电化学沉积挠性工件配置固持器电化学沉积系统阳极隔间阴极隔间装载器流体固持阳极电解液阴极电解液夹持机构平坦表面湿式处理腿部构件基板沉积分隔金属

[发明专利]湿式处理系统用工件装载器-CN201780040079.2在审
发明人： 阿瑟·凯格勒;弗里曼·费雪;丹尼尔·古德曼 -专利权人：先进尼克斯有限公司
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：此处技术提供一种用于传送及电化学沉积的工件搬运及装载设备，该设备用于装载、卸除和搬运相对挠性及薄的基板。此种系统在递送筒或匣与工件固持器之间辅助工件固持器交换。实施例包含一工件搬运器，其是配置成对一给定工件提供气垫，及操纵至可边缘夹持该工件的一给定工件固持器。
固持器工件搬运电化学沉积气垫辅助工件湿式处理装载设备递送装载器成对基板夹持挠性搬运装载传送配置交换

[发明专利]具有远距离阴极电解液流体管理的电化学沉积设备-CN201480061551.7有效
发明人： 阿瑟·凯格勒;大卫·瓜尔纳恰;德梅特留斯·帕帕帕纳约图;乔纳森·汉德 -专利权人：东京毅力科创尼克斯公司
申请日： 2014-11-04 - 公布日： 2018-01-16 - 主分类号： C25D7/12 文献下载
摘要：本文中所公开的技术包括提供有效循环系统的电化学沉积设备；提供可靠且均匀镀覆的化学品管理；以及提供短的保养时间和更好的工具可用率的构造。技术包括含有阳极电解液流体的处理罐；以及均具有阴极电解液流体隔室的一个或更多个镀槽，阴极电解液流体隔室具有连接至单独的或远距离的阴极电解液储液器的循环路径。因此，利用这样的构造，可以使用单个泵来使阴极电解液(经由歧管)流过一个或更多个镀槽。因此，利用外接的阴极电解液储液器(而不是使阴极电解液溢出堰至储液器中)，使阴极电解液流体——在流过镀槽之后——返回至阴极电解液储液器。
具有远距离阴极电解液流体管理电化学沉积设备

[发明专利]使用改进的化学品来去除光致抗蚀剂的方法和设备-CN201480050598.3在审
发明人：丹尼尔·L·古德曼;马尼·索博希安;阿瑟·凯格勒 -专利权人：东京毅力科创尼克斯公司
申请日： 2014-07-09 - 公布日： 2016-04-27 - 主分类号： B08B3/00 文献下载
摘要：本文中所公开的技术包括在不使用高浓度的有毒化学品以及不需要频繁的浴更换的情况下用于从衬底剥除抗蚀剂的方法和设备。技术包括使用在没有充分溶解抗蚀剂的情况下剥离抗蚀剂的化学品，配合使用机械搅拌和高速流体流动来将所去除的抗蚀剂机械地破碎成小颗粒。然后可以通过高流量循环将抗蚀剂颗粒从晶片的附近去除出加工槽。接着可以对循环流进行过滤以从循环流体去除抗蚀剂颗粒并且将循环流再引入到加工槽中。过滤系统还可以在循环期间或循环停止时将颗粒从过滤器去除。
使用改进化学品去除光致抗蚀剂方法设备

[发明专利]电化学沉积设备和用于控制其中的化学反应的方法-CN201480038155.2在审
发明人：德梅特留斯·帕帕帕纳约图;阿瑟·凯格勒;乔纳森·汉德;约翰内斯·基乌;达维德·G·瓜尔纳恰;丹尼尔·L·古德曼 -专利权人：东京毅力科创尼克斯公司
申请日： 2014-07-01 - 公布日： 2016-03-02 - 主分类号： C25D21/16 文献下载
摘要：描述了一种电化学沉积系统。该电化学沉积系统包括：被布置在公共平台上的一个或更多个电化学沉积模块，其用于将一种或更多种金属沉积在基底上；以及化学品管理系统，其被耦接至一个或更多个电化学沉积模块。化学品管理系统被配置成向一个或更多个电化学沉积模块中的至少一个电化学沉积模块提供用于沉积一种或更多种金属的一种或更多种金属成分。化学品管理系统可以包括至少一个金属富集槽和至少一个金属浓缩物产生器槽。
电化学沉积设备用于控制中的化学反应方法

[发明专利]电化学沉积和补给设备-CN201280018375.X有效
发明人：德梅特留斯·帕帕帕纳约图;阿瑟·凯格勒;大卫·瓜尔纳恰;乔纳森·汉德;约翰内斯·基乌 -专利权人：东京毅力科创尼克斯公司
申请日： 2012-04-13 - 公布日： 2014-02-26 - 主分类号： C25D5/00 文献下载
摘要：一种工艺电解质补给模块，其适于在具有第一阳极和第一阴极的基底电化学沉积设备中补给工艺电解质中的离子，所述工艺电解质补给模块具有第二阳极。所述工艺电解质补给模块具有从化学沉积设备偏置的框。工艺电解质再循环隔室设置在所构造的框中，其配置为使得工艺电解质在补给模块与沉积设备之间再循环。
电化学沉积补给设备

[发明专利]电镀式无铅凸点沉积-CN201180059957.8无效
发明人：丹尼尔·L·古德曼;阿瑟·凯格勒;约翰内斯·基乌;刘震球 -专利权人： TEL内克斯有限公司
申请日： 2011-12-16 - 公布日： 2013-12-04 - 主分类号： H01L21/228 文献下载
摘要：本发明提供了一种使用沉积在工件上形成金属特征的方法。该方法包括：在工件上提供用于电子器件的钎料的凸点下金属层，将基本上纯的锡层直接沉积到凸点下金属层，并且将锡银合金层沉积到在基本上纯的锡层上。
电镀式无铅凸点沉积

[发明专利]用于对工件进行流体处理的方法和设备-CN200610110706.9有效
发明人： 阿瑟·凯格勒;刘震球;约翰·哈勒尔;吴群伟 -专利权人：内克斯系统公司
申请日： 2004-10-22 - 公布日： 2007-02-28 - 主分类号： C25D5/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于对工件进行流体处理的方法和设备。这种系统包括一个处理模块和一个由一个或者多个流体处理元件构成的系统，用以在对工件进行流体处理的过程中控制流体流动和/或电场分布。可以使用一个构件来在薄膜沉积过程中搅动流体(例如利用一种摆动)。可以使用一块板来对入射到工件表面上的电场进行整形。通过控制流体流动和电场分布，可以改善在工件表面上的薄膜沉积。还有，可以使用一种竖向构造和/或模块化体系结构来提高产量，提高生产率，并且降低成本。
用于工件进行流体处理方法设备

[发明专利]用于对工件进行流体处理的方法和设备-CN200480037097.8有效
发明人： 阿瑟·凯格勒;刘震球;约翰·哈勒尔;吴群伟 -专利权人：内克斯系统公司
申请日： 2004-10-22 - 公布日： 2007-01-10 - 主分类号： C25D7/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于对工件进行流体处理的方法和设备。这种系统包括一个处理模块和一个由一个或者多个流体处理元件构成的系统，用以在对工件进行流体处理的过程中控制流体流动和/或电场分布。可以使用一个构件来在薄膜沉积过程中搅动流体(例如利用一种摆动)。可以使用一块板来对入射到工件表面上的电场进行整形。通过控制流体流动和电场分布，可以改善在工件表面上的薄膜沉积。还有，可以使用一种竖向构造和/或模块化体系结构来提高产量，提高生产率，并且降低成本。
用于工件进行流体处理方法设备

[发明专利]工件湿法处理-CN02810215.0有效
发明人： 阿瑟·凯格勒 -专利权人：湿法技术公司
申请日： 2002-03-15 - 公布日： 2004-06-30 - 主分类号： C25D7/12 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于在湿法处理例如电解沉积等中对工件例如半导体晶片等的下侧进行流体密封的方法和装置，其中使用了一个由挠性指组成的弹性嵌入环，工件下侧周边顶靠在挠性指上，以使得挠性指向下偏移，且使一周向密封边缘贴合在工件下侧周边上。这样可以获得与工件之间的电接触，使电触点端和工件的下侧周边弹性贴合，所述电触点端从位于密封环内的弹性体覆盖物中的周边开口中突伸出来。
工件湿法处理

1
共 15 条