专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]发光装置及其制造方法-CN202180061098.X在审
  • 长田昌也 - 索尼半导体解决方案公司
  • 2021-07-14 - 2023-05-16 - H01S5/183
  • [问题]为了防止在将输出驱动发光元件的驱动信号的第一基板上的第一焊盘接合至具有发光元件的第二基板上的第二焊盘时的缺陷。[解决方案]发光装置包括:第一基板,输出驱动发光元件的驱动信号;以及第二基板,层叠在第一基板上,第二基板具有发光元件。第一基板的第一表面侧具有:第一焊盘,向发光元件提供驱动信号;第一导电层,位于第一焊盘上;以及接合层,位于第一导电层上。第二基板的位于面向第一基板的第一表面的第二表面侧具有:台面形状的发光元件;以及第二焊盘,位于发光元件上并经由接合层接合至第一焊盘。
  • 发光装置及其制造方法
  • [发明专利]半导体器件-CN202110953737.5在审
  • 驹井尚纪;佐佐木直人;小川尚纪;井上孝史;岩元勇人;大冈豊;长田昌也 - 索尼公司
  • 2014-12-12 - 2021-12-14 - H01L27/146
  • 本发明涉及半导体器件。该半导体器件可包括:第一半导体基板和第二半导体基板,在所述第一半导体基板中形成有像素区域,在所述像素区域内二维布置有进行光电转换的像素部,在所述第二半导体基板中形成有用于处理从所述像素部输出的像素信号的逻辑电路,所述第一半导体基板与所述第二半导体基板被层叠,其中,在所述第一半导体基板的所述像素区域内的片上透镜上布置有用于保护所述片上透镜的保护基板,在所述保护基板与所述片上透镜之间设置有密封树脂。
  • 半导体器件
  • [发明专利]半导体装置、电子设备和制造方法-CN201680026938.8有效
  • 长田昌也;泷本香织 - 索尼公司
  • 2016-06-02 - 2021-08-17 - H01L23/29
  • 本公开涉及一种可以保持底部填充物的安装可靠性的半导体装置、电子设备和制造方法。在本公开中,芯片由在作为第一基板的Si基板上制作的成像元件的电路和在形成于电路上的粘合剂上制作的第二基板形成。在这种情况下,在芯片通过焊球安装在安装基板上之后或者在芯片的状态下,在芯片周围形成感光性材料,然后形成底部填充物,然后仅有感光性材料溶解。本公开适用于例如可以在诸如相机等成像装置中使用的CMOS固态成像传感器。
  • 半导体装置电子设备制造方法
  • [发明专利]半导体器件及制造半导体器件的方法-CN201710976438.7有效
  • 长田昌也 - 索尼公司
  • 2012-03-02 - 2021-04-20 - H01L21/768
  • 本公开涉及半导体器件及制造半导体器件的方法。所述半导体器件包括:半导体基板,包括半导体;玻璃基板,在所述半导体基板的上方;电极层,形成在所述半导体基板的第一表面侧上;导体层,形成在至少所述半导体基板的所述第一表面上;孔,形成为从所述半导体基板的第二表面穿过所述半导体基板和所述电极层至所述导体层;以及配线层,其形成于所述孔中,通过在所述半导体基板的所述第一表面上的所述导体层电连接至所述电极层,所述配线层通过设置在所述配线层和所述电极层之间的绝缘层从所述电极层物理分离。
  • 半导体器件制造方法
  • [发明专利]半导体器件及制造半导体器件的方法-CN201710300184.7有效
  • 长田昌也 - 索尼公司
  • 2012-03-02 - 2020-08-18 - H01L27/146
  • 本公开涉及半导体器件及制造半导体器件的方法。所述半导体器件包括:半导体基板,包括半导体;电极层,形成在所述半导体基板的第一表面侧上;导体层,形成在所述半导体基板的所述第一表面上;孔,形成为从所述半导体基板的第二表面穿过所述半导体基板和所述电极层至所述导体层;以及配线层,其形成于所述孔中,通过所述导体层在所述半导体基板的所述第一表面上方的一个位置电连接至所述电极层,并且延伸至所述半导体基板的所述第二表面,所述配线层通过设置在所述配线层和所述电极层之间的绝缘层从所述电极层物理分离。
  • 半导体器件制造方法
  • [发明专利]半导体装置和半导体装置的制造方法-CN201710161464.4有效
  • 长田昌也 - 索尼公司
  • 2012-05-17 - 2019-11-15 - H01L23/48
  • 本发明提供一种半导体装置,包括:基底材料部分,包括半导体基板和形成在该半导体基板的一个面上的绝缘膜,而且沿着半导体基板的厚度方向于该基底材料部分形成竖直孔;竖直孔配线部分,包括形成在该基底材料部分的形成该竖直孔的侧壁上的竖直孔电极;金属膜,形成在该绝缘膜内,并且电连接到竖直孔配线部分;以及导电保护膜,形成为与该绝缘膜内的该金属膜接触,并且形成在包括探针测试期间的探针接触区域的区域中,该探针测试于制造过程中在该金属膜的膜表面上进行。
  • 半导体装置制造方法

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