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- [实用新型]一种晶圆承载平台-CN202222809644.8有效
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程仙强;许忠晖;沈磊;张艳
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合肥晶合集成电路股份有限公司
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2022-10-24
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2023-02-10
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H01L21/67
- 本实用新型提供一种晶圆承载平台，具有承载面，所述承载面上设置有多个凹槽，每个所述凹槽的周围设置均有至少一个感测器，使得每个所述凹槽与至少一个所述感测器对应设置，且每个所述凹槽中能够设置一个晶圆，且所述感测器发出的感应光线在对应所述凹槽中晶圆表面所在平面的投影与所述晶圆具有重叠区域。本实用新型的每个凹槽中的晶圆均通过至少一个感测器来侦测其是否变形的问题，从而避免晶圆变形引起的两个晶圆组在合并时的破片或热应力破片的问题的发生，还减少了机台破片而导致的零件受损、机台零件受损，槽式清洗机的破损等问题的发生，从而提高了制程良率，降低了额外维修成本，还提高了人员在化学槽内捡碎片时的人员安全性。
- 一种承载平台
- [实用新型]一种晶圆转移平台-CN202222801476.8有效
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许忠晖;沈磊;程仙强
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合肥晶合集成电路股份有限公司
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2022-10-24
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2023-02-03
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G01B11/16
- 本实用新型提供一种晶圆转移平台，包括载台、晶圆装载部、第一侦测部和第二侦测部，载台具有承载面，晶圆装载部、第一侦测部和第二侦测部均设置在承载面上，第一感测器能够沿第一固定件的长度方向移动，第二感测器能够沿第二固定件的长度方向移动；工作时，第一感测器和第二感测器从所有晶圆的上方或下方同步移动，以对每个所述晶圆的厚度进行测量，以侦测是否存在晶圆变形的问题，从而避免晶圆变形引起的两个晶圆组在合并时的破片或热应力破片的问题的发生，还减少了机台破片而导致的零件受损、机台零件受损，槽式清洗机的破损等问题的发生，从而提高了制程良率，降低了额外维修成本，还提高了人员在化学槽内捡碎片时的人员安全性。
- 一种转移平台
- [发明专利]一种氨氮废水的处理方法-CN202010060735.9有效
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许忠晖;滕蔚珺;邓华芳
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上海天成环境保护有限公司
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2020-01-19
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2022-05-20
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C02F1/12
- 本发明涉及一种氨氮废水的处理方法，包括A1将氨氮废水预处理；A2将预处理后的氨氮废水先进行换热处理，再进行增浓升温处理；A3采用汽提塔对升温后的氨氮废水进行汽提处理，得到含氨蒸汽与脱氨废水；A4将步骤A3中的含氨蒸汽接入步骤A2中对氨氮废水进行增浓处理；A5将步骤A3中的脱氨废水加热处理，产生二次蒸汽以及高温脱氨废水，并将二次蒸汽接入汽提塔中补充汽提塔中的蒸汽。步骤A3中的汽提塔包括罐体、喷淋装置以及喷汽装置，喷淋装置包括喷淋管、转动安装于喷淋管端部上的喷淋头以及驱动部。喷汽装置包括蒸汽管、转动安装于蒸汽管端部上的喷汽头以及转动部。本发明具有脱氨效率高的效果。
- 一种废水处理方法
- [发明专利]一种含臭氧的废气处理装置-CN202010060741.4有效
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许忠晖;滕蔚珺;邓华芳
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上海天成环境保护有限公司
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2020-01-19
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2021-12-31
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B01D53/18
- 本发明公开了一种含臭氧的废气处理装置，涉及废气处理技术领域，其技术方案要点是包括塔体、第一隔板、第二隔板、加热板、进液管、储液盒、两个支撑轴以及底盘；第一隔板和第二隔板之间设置有阀门机构；第二隔板底部固定有电源；塔体内设置有开关装置；底盘顶部转动安装有螺杆，两个支撑轴外周面滑移设置有挡盖；塔体内设置有出液机构；阀门机构包括安装于塔体外周面的第一电机、固定于第一电机输出端的丝杠以及沿丝杠长度方向滑移设置于第一隔板和第二隔板相对内侧且与丝杠螺纹连接的阀门；丝杠外周面固定有第一带轮。本发明解决了臭氧含量过高导致的活性炭吸附不完全的问题，达到了在活性炭吸附之前降低废气中的臭氧含量的效果。
- 一种臭氧废气处理装置
- [发明专利]一种土壤修复系统及其修复方法-CN202010058202.7有效
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许忠晖;邓华芳;陶晨超;王艳青
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上海天成环境保护有限公司
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2020-01-18
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2021-08-17
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B09C1/00
- 本发明涉及一种土壤修复系统及其修复方法，其包括依次相连的破碎设备、振动筛分设备、洗石设备、沉淀池、脱滤设备以及搅拌设备，沉淀池内设置有第一清洁装置，第一清洁装置包括多个往复丝杠、清洁框以及多个第一刷毛；清洁框的形状呈环形，第一刷毛的一端与沉淀池的内壁抵接，沉淀池的顶部安装有驱动机构；清洁框上安装有第二清洁装置，第二清洁装置包括固接于清洁框顶部的安装架、转动连接于安装架底部的转块以及竖直安装于安装架的顶部用于驱动转块转动的第一气动马达；第一气动马达的输出轴竖直向下与转块的顶部固定连接，转块的底部安装有清洁块，清洁块的底部安装有多个第二刷毛。本发明便于对沉淀池的内壁进行清理。
- 一种土壤修复系统及其方法
- [实用新型]卡罗酸加热系统-CN202021816700.5有效
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许忠晖;王東銘;陈嘉勇;李嘉伦
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泉芯集成电路制造（济南）有限公司
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2020-08-26
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2021-02-05
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H01L21/67
- 本实用新型公开了一种卡罗酸加热系统，所述卡罗酸加热系统包括：光刻胶清洗室，所述光刻胶清洗室内具有第一加热器，所述第一加热器用于放置待处理芯片，将所述待处理芯片加热至第一温度；预热槽，所述预热槽用于将硫酸加热到第二温度；试剂管路，所述试剂管路用于将双氧水与加热到所述第二温度的硫酸混合为卡罗酸，通过所述卡罗酸清洗加热到所述第一温度的待处理芯片的表面，以去除所述待处理芯片表面的光刻胶；其中，所述第一温度大于所述第二温度。应用本实用新型提供的卡罗酸加热系统，系统结构简单，可以精确的控制芯片表面的温度，避免产片缺陷，提升良率，同时可以达到省电节能的作用。
- 卡罗酸加热系统
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