专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]畴壁存储器的制备方法以及畴壁存储器-CN202110851591.3在审
  • 胡来归;蔡依辰;詹义强;秦亚杰 - 光华临港工程应用技术研发(上海)有限公司
  • 2021-07-27 - 2021-11-16 - H01L51/00
  • 本发明提供了一种有机铁电畴壁存储器的制备方法,包括如下步骤:提供一衬底;在所述衬底上制作对置的金属梳状电极;对所述衬底表面进行亲疏水性处理;在所述衬底表面采用选区生长法形成分子铁电功能层;退火后获得畴壁存储器。上述技术方案实现了基于梳状对电极的多级长度沟道以及有机铁电层部分极化形成畴壁导电通道。利用低张力滴涂选区法,降低成本与复杂度的同时引导极化轴可控生长。与传统利用极化翻转与位移电流写入与读取的铁电存储器相比,具有非破坏性读取、电流信号大、寿命长等优势。本发明可用于新型存储阵列、柔性集成铁电芯片等领域。
  • 存储器制备方法以及
  • [发明专利]光电人工突触的制备方法以及光电人工突触-CN202110440689.X在审
  • 胡来归;蔡依辰;詹义强;秦亚杰 - 光华临港工程应用技术研发(上海)有限公司
  • 2021-04-23 - 2021-07-23 - H01L51/48
  • 本发明提供了一种光电人工突触的制备方法,包括如下步骤:提供一衬底;在所述衬底上制作具有沟道功能区的图形电极;在所述衬底表面制作覆盖所述图形电极的有机半导体光响应功能层;在所述光响应功能层表面制备铁电极化调控层;退火后获得人工突触。本发明人工突触的实现基于铁电极化的多级调控与有机光电半导体的光电响应。利用滴涂法获得高质量面内极化铁电薄膜构建平面多层结构。与依赖导电细丝与离子掺杂的其他忆阻器人工突触相比具有操作电压低、保持特性好、制备工艺简便可控等优势。本发明可模拟重要的突触功能,对光刺激响应快,能耗低,可用于神经形态计算、图像识别、机器视觉、卷积神经网络等领域。
  • 光电人工突触制备方法以及
  • [实用新型]一种普朗克常数测量实验装置-CN201621153423.8有效
  • 蔡依辰;卢忠;魏高尧;鄢波;隋成华 - 浙江工业大学
  • 2016-10-31 - 2017-08-08 - G09B23/22
  • 本实用新型涉及一种普朗克常数测量实验装置,包括设第一暗箱和第二暗箱的底座,第一暗箱和第二暗箱包括箱体和相对设置且中心轴重合的通光管道;第一暗箱的箱体内设与通光管道等高、连接有电源的复色光源;第二暗箱的通光管道上设侧部铰接设滤光片组的滤光片插槽,滤光片插槽背向复色光源侧的通光管道内同轴设光阑,第二暗箱的箱体内设与光阑同轴的连接有测试仪的光电发生管;测试仪上设RS232通信接口,通过RS232数据线连接至计算机。本实用新型的测量精度大幅提升,有助于更直观理解单色光单色性对普朗克常数测量的影响,理解能量量子化的概念,对误差形成更直观的认识,理解实验意义,更方便比较零点法、拐点法和曲率法的测量误差。
  • 一种普朗克常数测量实验装置

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