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[发明专利]用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置及方法-CN201811243262.5有效
发明人： 蒋一岚;苗心向;贾宝申;吕海兵;周国瑞;牛龙飞;刘昊;马志强;邹睿;刘青安;姚彩珍;蒋晓东;周海 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2018-10-24 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置及方法，包括：光学元件表面颗粒物在线检测系统，其暗场成像系统位于光学元件的上方且垂直与光学元件；用于对光学元件进行洁净处理的洁净处理装置，其通过水平运动机构和竖直伸缩机构实现对擦拭机构的位置移动，进而可实现对光学元件的表面擦拭；上位机，其与光学元件表面颗粒物在线检测系统和洁净处理机构通信连接。本发明的装置及方法可用于对光学元件的表面进行实时在线监测，同时根据暗场监测的结果来进行非常及时的洁净处理，操作简单便捷，也避免了人工作业带来二次污染的风险，从而减少了光学元件的损伤，有效保障了高功率固体激光装置的稳定运行。
用于光学元件在线表面洁净监测处理装置方法

[实用新型]用于大口径光学元件损伤观测的无线侧照明装置-CN202320340631.2有效
发明人：栾晓雨;蒋一岚;王海军;蒋晓龙;陈静;张传超;廖威;张丽娟 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于大口径光学元件损伤观测的无线侧照明装置，包括对大口径光学元件进行固定的装调组件，还包括设置在待测大口径光学元件侧面，以提供损伤检测光源的照明模块；其中，所述照明模块通过相配合的线缆、接插件与装调组件上的供电模块电性连接。本实用新型提供一种用于大口径光学元件损伤观测的无线侧照明装置，该装置无需单独外接有线电源，从而极大地扩展了大口径光学元件损伤观测的使用场景，观测时侧照明LED灯条可均匀辐照于整个大口径光学元件，根据观测距离和角度的不同，可分辨出表面或体内损伤。
用于口径光学元件损伤观测无线照明装置

[发明专利]用于大口径光学元件损伤观测的无线侧照明装置及方法-CN202310175409.6在审
发明人：栾晓雨;蒋一岚;王海军;蒋晓龙;陈静;张传超;廖威;张丽娟 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于大口径光学元件损伤观测的无线侧照明装置及方法，包括对大口径光学元件进行固定的装调组件，还包括设置在待测大口径光学元件侧面，以提供损伤检测光源的照明模块；其中，所述照明模块通过相配合的线缆、接插件与装调组件上的供电模块电性连接。本发明提供一种用于大口径光学元件损伤观测的无线侧照明装置及方法，该装置无需单独外接有线电源，从而极大地扩展了大口径光学元件损伤观测的使用场景，观测时侧照明LED灯条可均匀辐照于整个大口径光学元件，根据观测距离和角度的不同，可分辨出表面或体内损伤。
用于口径光学元件损伤观测无线照明装置方法

[发明专利]基于单模-多模-无芯光纤结构的磁场强度检测传感器-CN201710631839.9有效
发明人：牛龙飞;周国瑞;吕海兵;苗心向;刘昊;蒋一岚;袁晓东;周海;马志强;邹睿;刘青安 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2017-07-28 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： G01R33/032 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于单模‑多模‑无芯光纤结构的磁场强度检测传感器，包括：单模光纤；多模光纤，其输入端与单模光纤的输出端熔接；无芯光纤，其一端与多模光纤的输出端偏心熔接；无芯光纤与多模光纤偏心熔接后的不重叠位置处包覆第一金属膜层；无芯光纤的另一端面附着第二金属膜层；无芯光纤的表面包覆超磁致伸缩材料层。将磁场强度检测传感器置于磁场中，磁场强度发生变化，会导致有超磁致伸缩材料薄膜发生形变及波导折射率发生变化，从而引起无芯光纤纵向长度产生微小形变及谐振条件发生变化，使马赫‑泽德混合干涉中一干涉臂光程发生变化导致整个波导干涉条件发生变化，通过光电探测器接收信号，并进行处理即可反推外部环境磁场强度。
基于单模多模光纤结构磁场强度检测传感器

[发明专利]基于单模-多模-无芯光纤结构的分子态有机污染物监测传感器-CN201710631796.4有效
发明人：周国瑞;牛龙飞;苗心向;吕海兵;蒋一岚;刘昊;袁晓东;周海;马志强;邹睿;刘青安;李可欣 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2017-07-28 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： G01N21/45 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于单模‑多模‑无芯光纤结构的分子态有机污染物监测传感器，包括：单模光纤；多模光纤，其与单模光纤的熔接；表面包覆溶胶‑凝胶二氧化硅薄膜的无芯光纤，其一端与多模光纤的输入端偏心熔接；无芯光纤与多模光纤偏心熔接后的不重叠位置处包覆第一金属膜层，其另一端面附着第二金属膜层。将在线监测传感器置于被监测环境中，当分子态有机污染物浓度发生变化，会导致表面薄膜折射率发生变化，从而引起整个波导结构有效折射率发生变化导致谐振条件发生变化，使马赫‑泽德混合干涉中一干涉臂光程发生变化导致整个波导干涉条件发生变化，最后光谱仪监测输出信号波长，通过对输出信号进行处理即可反推外部环境分子态有机污染物浓度。
基于单模多模光纤结构分子有机污染物监测传感器

[发明专利]用于光学元件表面损伤坑修复的胶体的制备及应用-CN202210212658.3有效
发明人： 蒋一岚;吕海兵;牛龙飞;苗心向;周国瑞 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2022-03-04 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： C08L29/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于光学元件表面损伤坑修复的胶体的制备方法及应用，包括：将聚乙烯醇和高纯水混合搅拌，得到胶体A；将胶体A置于25℃恒温下，静置24‑36h，得到胶体B；将胶体B进行加热搅拌，得到胶体C；在胶体C中缓慢滴加刻蚀剂，并搅拌至充分溶解，得到用于光学元件表面损伤坑修复的胶体。该胶体可用于光学元件表面损伤坑的修复，修复效率高，且可修复800μm以上的损伤坑，从而提升光学元件的抗激光损伤阈值。此修复方法是利用HF的刻蚀性，对损伤坑内部进行轻度刻蚀，使其内部平滑，可减缓激光通过光学元件时由于损伤坑所引起的光场调制，一方面可以避免损伤坑尺寸的进一步扩大，另一方面也能避免引起下游光学元件的损伤。
用于光学元件表面损伤修复胶体制备应用

[发明专利]一种分子动力学模拟等离子体改性玻璃界面特性的方法-CN202211327781.6在审
发明人： 蒋一岚;李玉海;白清顺;苗心向;牛龙飞;吕海兵;周国瑞 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2022-10-26 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G16C60/00 文献下载
摘要：一种分子动力学模拟等离子体改性玻璃界面特性的方法，属于等离子体改性研究领域，利用Materials Studio软件构建等离子体改性玻璃和纳米水液滴的相互作用模型，通过分子动力学模拟研究等离子体改性玻璃表面的界面物理化学特性。揭示了等离子体改性后玻璃界面与水分子之间相互作用微观机理，为进一步探究提高玻璃表面的润湿性机理和粘结强度提供理论基础。
一种分子动力学模拟等离子体改性玻璃界面特性方法

[发明专利]一种在脆硬材料表面制备高增透亚波长结构的方法-CN202211439213.5在审
发明人：姚彩珍;蒋一岚;牛龙飞;向思衡;蒋晓龙;黄进;苗心向;吕海兵;周国瑞 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2022-11-17 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C04B41/91 文献下载
摘要：本发明公开了一种在脆硬材料表面制备高增透亚波长结构的方法，包括：制备待加工脆硬材料样品；对硬脆材料样品表面进行辐照改性，对硬脆材料样品表面进行扫描，对目标改性区域进行活化；在无掩模情况下，利用离子刻蚀技术对活化区域进行精准去除，获得亚波长增透结构；超声清洗，洁净空气吹干。本发明使用飞秒激光对硬脆材料表面进行精确辐照，使材料内部的结晶态发生转变，赋予材料表面一定的活性，在无掩模情况下利用离子刻蚀技术对改性区域进行精准去除，在硬脆材料表面获得亚波长增透结构，不但消除了飞秒激光加工过程中碎屑飞溅的影响，同时解决了离子刻蚀手段在面临超高硬度、低化学活性晶体材料时普遍存在的刻蚀效率低下的问题。
一种材料表面制备高增透亚波长结构方法

[发明专利]一种光学系统非金属密封材料的洁净处理方法和评价方法-CN202211455581.9在审
发明人：牛龙飞;蒋晓东;蒋一岚;吕海兵;尤辉;周国瑞;黄进;苗心向 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2022-11-21 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种光学系统非金属密封材料的洁净处理方法和评价方法，解决了真空环境中光学元件易受非金属密封材料污染的问题，本发明通过第一遍清洗、真空烘烤以及第二遍清洗，对光学系统中非金属密封材料进行洁净处理，使得非金属密封材料的污染得到有效去除，实现非金属密封材料的彻底洁净。本发明的洁净处理方法，处理效果好，具有可靠、经济、高效的特点，处理后的材料对光学系统影响小，能够确保光学元件维持较高光学特性。
一种光学系统非金属密封材料洁净处理方法评价

[发明专利]钝化液辅助飞秒激光加工金属表面三维精细结构的方法-CN202211424095.0在审
发明人：姚彩珍;蒋一岚;牛龙飞;向思衡;苗心向;吕海兵;周国瑞 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2022-11-15 - 公布日： 2023-01-20 - 主分类号： B23K26/122 文献下载
摘要：本发明公开了钝化液辅助飞秒激光加工金属表面三维精细结构的方法，包括：金属样品预处理；搭建飞秒激光加工系统；将预处理的金属样品固定在盛有钝化液的容器底部，在空间光调制器上加载预先设计好的全息图；在CCD相机视野范围下找到金属样品表面，通过控制容器内钝化液的量控制飞秒激光射入液体的深度，通过衰减片控制飞秒激光与金属样品接触面的功率密度；飞秒激光与钝化液发生耦合作用后到达金属样品表面；对金属样品进行直写加工；加工完成后将金属样品取下，依次用乙醇、去离子水超声清洗，晾干。钝化液可限制加工区域金属表面等离子体激元的生成，降低入射激光与等离子体激元的干涉作用，降低二维周期性亚波长结构的生成。
钝化辅助激光加工金属表面三维精细结构方法

[发明专利]一种微纳光纤制备装置及方法-CN202210690680.9在审
发明人：向思衡;周国瑞;尤辉;蒋一岚 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2022-06-17 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： C03B37/03 文献下载
摘要：本发明涉及微纳光子学器件领域，尤其涉及一种微纳光纤制备装置。本装置包括三个直线电机、两个光纤夹具、电加热装置、两个CCD相机、拉力计以及控制器。本装置通过电加热装置加热待拉伸光纤，并通过两个光纤夹具夹持待拉伸光纤两端，并通过拉力计保持待拉伸光纤的拉紧程度，加热后，通过两个直线电机将待拉伸光纤进行拉伸，将待拉伸光纤拉伸至预设精度，并由控制器控制预设精度，同时CCD相机对拉伸过程进行实时监测，并随时调整待拉伸光纤姿态。本发明的目的是提供一种微纳光纤制备装置及方法，以保证所拉制微纳光纤的高一致性和高精度。
一种光纤制备装置方法

[发明专利]一种用于光学元件表面荧光特性颗粒检测的装置及方法-CN202011417600.X有效
发明人： 蒋一岚;牛龙飞;贾宝申;苗心向;吕海兵;姚彩珍;周国瑞;刘青安 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2020-12-07 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： G01N21/64 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于光学元件表面荧光特性颗粒检测的装置及方法，包括：紫外荧光成像系统，其连接有控制电脑；运动机构，紫外荧光成像系统设置在运动机构上；将紫外荧光成像系统固定于运动机构上，将光学元件放置于底座内；通过运动机构的支架调整紫外荧光成像系统与光学元件的距离，使其成像最清晰；控制电脑控制紫外荧光成像系统，使用CCD相机拍照并分析检测结果；通过运动机构的纵向导轨、横向导轨和竖直导轨移动紫外荧光成像系统，并重复进行拍照分析，完成对光学元件的抽样检测。本发明可根据成像镜头的工作距离，通过运动机构调节紫外荧光成像系统与光学元件之间的距离。本发明检测方法为无损检测，与光学元件无接触，无二次污染产生。
一种用于光学元件表面荧光特性颗粒检测装置方法

[发明专利]一种低压氧等离子清洗有机污染物的工艺时长计算方法-CN202111385902.8在审
发明人：刘昊;杨敏;李玉海;蒋一岚;牛龙飞;苗心向;吕海兵;袁晓东 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2021-11-22 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： G01N21/31 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种低压氧等离子体清洗多孔增透膜内有机污染物的工艺时长计算方法，利用低压氧等离子体清洗性能与光谱激发谱线强度建立的先验数据库，根据拟处理的等离子体状态与目标污染物空间浓度计算得到达到指定状态所需的清洗时长，可以用于低压氧等离子体处理多孔增透膜内特定有机污染物的工艺控制，从而实现氧等离子体清洗多孔增透膜内有机污染物所需工艺时长的快速计算，减少由于过量清洗引起的光学元件表面的金属溅射粒子累积。
一种低压等离子清洗有机污染物工艺计算方法

[发明专利]一种低压氧等离子体清洗有机污染物的性能评价方法-CN202111388212.8在审
发明人：刘昊;杨敏;李玉海;苗心向;牛龙飞;蒋一岚;吕海兵;袁晓东 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2021-11-22 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： G01N15/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种低压氧等离子体清洗有机污染物的性能评价方法，包括：步骤一、测试膜层污染前的峰值透过率，进而计算得到膜层污染前的原孔隙率；步骤二、测试膜层污染后的峰值透过率，进而计算得到膜层污染后的现孔隙率；步骤三、根据原孔隙率和现孔隙率计算得到膜层污染后其中的有机污染物的空间浓度C1；步骤四、根据空间浓度C1计算得到等效空间浓度C2；步骤五、在膜层污染后使用等离子体对其进行清洗的过程中，重复步骤二到步骤四测试多次，对测得的多个等效空间浓度C2随清洗时间t的变化进行指数拟合，得到拟合公式：式中：β为有机污染物的初始浓度，α可作为用于评价该种状态等离子体对有机污染物清洗能力的评价系数。
一种低压等离子体清洗有机污染物性能评价方法

[发明专利]一种大口径光学元件真空应力测试仪-CN202110175452.3有效
发明人：贾宝申;姚彩珍;苏春洲;蒋一岚;廖威;唐洪平;张丽娟 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2021-02-06 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： G01L5/00 文献下载
摘要：本发明公开一种大口径光学元件真空应力测试仪，用于大口径光学元件在真空条件下的应力测量。本发明的大口径光学元件真空应力测试仪，采用不锈钢真空腔，连接分子泵实现高真空；在真空腔的底部铺设LED光源，光源上方分别放置偏振片和匀光片。真空腔室外侧布置支架，支架上布置二维导轨；导轨之上安装探测器，探测器内部自下而上分别布置四分之一波片和偏振片。本发明的大口径光学元件真空应力测试仪适用于大口径光学元件真空状态下的应力分布，具有结构简单，操作方便的优点。
一种口径光学元件真空应力测试仪

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