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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种居民电力数据聚类方法及系统-CN202210399708.3在审
发明人：康兵;许志浩;丁贵立;王宗耀;荣仪;张亚楠;韩威;朱卓航;肖辉;肖相燕 -专利权人：南昌工程学院
申请日： 2022-04-15 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： G06K9/62 文献下载
摘要：本发明公开一种居民电力数据聚类方法及系统，方法包括：获取用户电力数据，对所述用户电力数据进行数据降维，使得到降维电力数据；采用改进精英蝴蝶算法选择所述降维电力数据的初始聚类点，将所述初始聚类点作为考虑距离和空间限制的多层模糊C均值算法的初始聚类中心，使基于所述多层模糊C均值算法对所述降维电力数据进行聚类。通过改进精英蝴蝶算法选择最优的聚类中心点，使得多层模糊C均值算法能够获得更好的初始迭代值，有效提高了常规FCM聚类算法的质量。
一种居民电力数据方法系统

[发明专利]反应腔空机后的热机处理方法-CN201410099645.5在审
发明人：欧少敏;贾敏;荣仪 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2014-03-18 - 公布日： 2015-09-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开一种反应腔空机后的热机处理方法，该方法包含：采用氮化硅晶圆进行反应腔空机后的热机处理。本发明通过氮化硅晶圆对用于氮化硅蚀刻制程的反应腔空机后进行热机处理，可以在比光刻胶晶圆更短的热机处理时间下，更有效地恢复第一片晶圆的蚀刻速率。从而解决了第一片晶圆良率损失的问题，提高设备利用率。
反应腔空机后热机处理方法

[发明专利]解决光刻胶不足的钝化层蚀刻方法-CN201410099789.0在审
发明人：王川;欧少敏;荣仪 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2014-03-18 - 公布日： 2015-09-23 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：本发明提供一种解决光刻胶不足的钝化层蚀刻方法，该方法包含以下步骤：在晶圆上进行钝化层沉积；对晶圆上钝化层进行化学机械抛光工艺，降低晶圆上钝化层的不平整度；涂覆光刻胶，进行光刻；对钝化层进行蚀刻工艺。本发明在钝化层沉积后对其进行化学机械抛光，要提高金属岛区域光刻胶一定厚度，只需相应增加氧化硅沉积的厚度，然后用化学机械抛光的方法让金属岛上的氧化硅沉积层减少相应厚度，减少沉积后晶圆顶部的不平整度，提高晶圆顶部突起区域光刻胶的厚度，从而保护需要保留的钝化层。
解决光刻不足钝化蚀刻方法

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