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[发明专利]研磨垫及研磨加工物的制造方法-CN202180094402.0在审
发明人： 立野哲平;松冈立马;栗原浩;山口早月;高见泽大和 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2021-03-22 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：研磨垫，其具备聚氨酯片材作为研磨层，该聚氨酯片材的、在频率1.6Hz的弯曲模式条件下进行的动态粘弹性测定中的40℃的储能模量E’B40相对于在频率1.6Hz的拉伸模式条件下进行的动态粘弹性测定中的40℃的储能模量E’T40之比(E’B40/E’T40)为0.60～1.60。
研磨加工制造方法

[发明专利]研磨垫及研磨垫的制造方法-CN202280015018.1在审
发明人： 立野哲平;栗原浩;山口早月;高见沢大和 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2022-03-23 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：一种研磨垫，包括研磨层，所述研磨层具有用于对被研磨物进行研磨加工的研磨面，所述研磨垫中，所述研磨层包含在所述研磨层内形成中空体的中空微小球体，所述研磨层的剖面具有10μm～14μm的平均开孔径，在将1μm的范围表示为1级的所述研磨层的剖面的开孔径直方图中，25μm以上的开孔数的总和相对于所述剖面的总开孔数而为5％以下，25μm以上的各级的开孔面积的总和相对于所述剖面的合计开孔面积而为20％以下。
研磨制造方法

[发明专利]研磨垫及研磨垫的制造方法-CN202280015335.3在审
发明人：川村佳秀;立野哲平;栗原浩;山口早月;高见沢大和;越智恵介;川崎哲明 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2022-03-18 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：一种研磨垫，具有包含聚氨基甲酸酯树脂发泡体的研磨层，所述聚氨基甲酸酯树脂发泡体包含异氰酸酯末端预聚物与硬化剂，所述研磨垫中，通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC80)相对于通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC40)的比(NC80/NC40)为1.5～2.5。
研磨制造方法

[发明专利]研磨垫-CN202280015016.2在审
发明人： 立野哲平;糸山光纪;関谷仁志;小池坚一;高见沢大和 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2022-02-18 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本发明可抑制对研磨性能的影响，并且防止由终点检测用窗所得的终点检测精度的降低。研磨垫3包括检查光L1可透过的终点检测用窗12，在研磨垫3的研磨面3A形成有多个同心圆状的环状槽11。所述终点检测用窗12的表面形成于与所述研磨面3A相同的高度，所述环状槽11中，形成于与形成有所述终点检测用窗12的位置相同的半径位置的多个环状槽11A在所述终点检测用窗12的表面未形成有槽，而在所述终点检测用窗12的附近包括端部11a。进而，通过连结槽13将形成于与所述终点检测用窗12相同的半径位置的多个环状槽11A的端部11a与端部11a连接。
研磨

[发明专利]研磨垫及研磨垫的制造方法-CN202280015279.3在审
发明人： 立野哲平;栗原浩;山口早月;高见沢大和;越智恵介;川崎哲明 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2022-03-29 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：一种研磨垫，具有包含聚氨基甲酸酯树脂发泡体的研磨层，所述聚氨基甲酸酯树脂发泡体源自异氰酸酯末端预聚物及硬化剂，所述研磨垫中，通过X射线小角散射法测定的所述研磨层中的硬链段间的距离为9.5nm以下，或者，通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC80)相对于通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC80)的比(NC80/CC80)为2.6～3.1，通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC40)相对于通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC40)的比(NC40/CC40)为0.5～0.9。
研磨制造方法

[发明专利]研磨垫、研磨垫的制造方法、以及对光学材料或半导体材料的表面进行研磨的方法-CN202280010154.1在审
发明人：川村佳秀;立野哲平;栗原浩;鸣岛早月;高见泽大和;越智惠介;川崎哲明 -专利权人：富士纺控股股份有限公司
申请日： 2022-01-11 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供使用与以往采用的PTMG等不同的多元醇作为形成研磨层的异氰酸酯末端氨基甲酸酯预聚物的高分子量多元醇而得到的研磨垫、该研磨垫的制造方法、以及对使用该研磨垫得到的光学材料或半导体材料的表面进行研磨的方法。一种研磨垫，其具有包含聚氨酯树脂的研磨层，前述聚氨酯树脂为包含异氰酸酯末端氨基甲酸酯预聚物和固化剂的固化性树脂组合物的固化物，前述异氰酸酯末端氨基甲酸酯预聚物为多元醇成分与多异氰酸酯成分的反应产物，前述多元醇成分包含在分子内具有碳酸酯基的多元醇。
研磨制造方法以及光学材料半导体材料表面进行

[发明专利]研磨垫和研磨垫的制造方法-CN202180067394.0在审
发明人： 立野哲平;田中启介;喜乐香枝;小池坚一;栗原浩;宫内庆树 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2021-09-16 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： B24B37/013 文献下载
摘要：根据本发明，提供能够抑制光透过率的不均的研磨垫或者能够减少研磨屑向透光性树脂构件(窗构件)的研磨面侧的表面的附着、固着的研磨垫。
研磨制造方法

[发明专利]研磨垫、及研磨加工物的制造方法-CN202180065924.8在审
发明人： 立野哲平;松冈立马;栗原浩;鸣岛早月;高见泽大和 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2021-09-27 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：本发明涉及具备研磨层和缓冲层的研磨垫，在干燥状态、频率10rad/s、20～100℃的弯曲模式条件下进行的动态粘弹性测定的40℃时的储能模量E’B40相对在干燥状态、频率10rad/s、20～100℃的压缩模式条件下进行的动态粘弹性测定的40℃时的储能模量E’C40之比E’B40/E’C40为3.0以上15.0以下，在前述弯曲模式条件下进行的动态粘弹性测定中的损耗因子tanδ在40℃以上70℃以下的范围内为0.10以上0.30以下。
研磨加工制造方法

[发明专利]研磨垫-CN202180064768.3在审
发明人：川村佳秀;立野哲平;松冈立马;栗原浩;鸣岛早月;高见沢大和;越智惠介;川崎哲明 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供无需变更研磨层的物性、气泡结构就能够实现端部塌边的改善和/或台阶消除性能的提高的研磨垫。一种研磨垫，其具备：研磨层，该研磨层具有用于对被研磨物进行研磨加工的研磨面；以及缓冲层，该缓冲层配置于所述研磨层的与研磨面相反一侧，关于通过以弯曲模式利用于25℃的频散进行的动态粘弹性试验得到的、研磨垫整体的储能弹性模量E’和损耗弹性模量E”之比(tanδ)，以100～1000rad/s测得的tanδ的最大值(tanδmax100‑1000)相对于以1～10rad/s测得的tanδ的最大值(tanδmax1‑10)的比值为0.75～1.30。
研磨

[发明专利]抛光垫、抛光单元、抛光装置、及抛光垫的制造方法-CN202180023262.8在审
发明人： 立野哲平;松冈立马;栗原浩;鸣岛早月;高见沢大和 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2021-03-19 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：提供能够减少抛光浆料向基材层的渗透且能够防止抛光性能降低的抛光单元。本发明的第一方面的抛光单元(10a)具备：具有抛光层(101)及基材层(103)的抛光垫(100a)、以及定盘(150)，其中，基材层(103)的直径小于抛光层(101)的直径且大于定盘(150)的直径。
抛光单元装置制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN201880066479.5有效
发明人：宫坂博仁;立野哲平;松冈立马;栗原浩;三国匠 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2018-10-12 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明提供一种能够在维持高研磨速率的同时减少划痕的产生的研磨垫及其制造方法。所述研磨垫是具备研磨层的研磨垫，所述研磨层具有包含大致球状的气泡的聚氨酯片，在将预先暴露于温度23℃、相对湿度30％环境下的所述聚氨酯片在40℃、初始载荷148g、变形范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的储能模量设为E’(90％)，将预先暴露于温度23℃、相对湿度30％环境下的所述聚氨酯片在40℃、初始载荷148g、变形范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的储能模量设为E’(30％)时，E’(90％)/E’(30％)在0.4～0.7的范围内。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫及研磨垫的制造方法-CN201380026114.7有效
发明人： 立野哲平;宫坂博仁;松冈立马;金泽香枝;宫泽文雄 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2013-03-26 - 公布日： 2017-07-07 - 主分类号： C08J5/14 文献下载
摘要：一种研磨垫的制造方法，所述研磨垫在膜基材上具有聚氨酯树脂薄膜作为研磨层，该方法包括如下工序将含有聚氨酯树脂和添加剂的聚氨酯树脂薄膜形成用组合物溶解在所述树脂的可溶性溶剂中的工序；除去不溶成分，使所述溶液中的不溶成分相对于聚氨酯树脂薄膜形成用组合物的总质量小于1质量％的工序；相对于树脂的固体成分质量1g，以通过式1聚氨酯树脂相对于不良溶剂的凝固值(ml)×A(A＝0.007～0.027)而计算的量(ml)向除去了所述不溶成分的溶液中添加不良溶剂并混合的工序；以及通过湿式凝固法使所述混合溶液在成膜基材上成膜，制作聚氨酯树脂薄膜的工序。通过该方法，提供一种能够进行研磨损伤少的研磨，并且能够形成稳定的膜的抛光用研磨垫的制造方法以及研磨垫。
研磨制造方法

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