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- [发明专利]药液排出机构-CN201910346132.2有效
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笹川典彦;稻田博一;浜田雅仁
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东京毅力科创株式会社
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2015-07-09
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2023-06-27
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H01L21/67
- 本发明提供一种药液排出机构，在用于排出粘度较高的药液的药液排出机构中，能够使该药液的排液路径所占的高度变小。该药液排出机构包括：储存部，其具有用于储存药液的储存空间；稀释液供给口，其开口于储存空间，以便供给用于使药液的粘度降低的稀释液；涡流形成部，其用于向储存空间供给流体而使稀释液和药液形成涡流，以便对稀释液和药液进行搅拌；以及排液口，其通过供给稀释液来使搅拌完成后的稀释液和药液流入到该排液口而自储存空间排出。采用这样的结构，能够使自排液口排出的废液的粘度降低，从而不必使与该排液口相连接的排液路径相对于水平面较大地倾斜。
- 药液排出机构
- [发明专利]基片处理装置-CN201810319692.4有效
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宫本哲嗣;稻田博一
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东京毅力科创株式会社
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2018-04-11
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2023-03-28
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H01L21/67
- 本发明提供一种基片处理装置。该基片处理装置的液处理单元(U1)包括：保持晶片(W)的旋转卡盘(61)；使旋转卡盘(61)旋转的旋转驱动部(64)；对由旋转驱动部(64)的驱动而旋转的旋转卡盘(61)所保持的晶片(W)供给涂敷液的涂敷液供给喷嘴(62)；回收从晶片(W)的与被供给涂敷液的面(表面(W1))相反一侧的面即背面(W2)落下的涂敷液的杯体基座(65)；和配置在背面(W2)与杯体基座(65)之间，用于收集由于对旋转的晶片W供给涂敷液而产生的线状物的收集板(30)。由此，能够抑制在对旋转的基片供给处理液时产生的线状物堆积在回收部。
- 处理装置
- [实用新型]液处理装置-CN202122398639.8有效
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柴崎健太;稻田博一;新村聪;高柳康治;矢田健二;关慎一;寺本昭宏
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东京毅力科创株式会社
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2021-09-30
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2022-05-31
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B05B15/555
- 本实用新型涉及液处理装置，其使附着于内杯的涂布液不会在清洗了液处理装置的内杯之后残留。一种在基板上涂布涂布液的液处理装置，其包括：保持部，其保持基板并使其旋转；涂布液供给部，其向被保持部保持着的基板供给涂布液；外杯，其围绕被保持部保持着的基板的周边；以及内杯，其设于外杯的内侧，自侧方包围保持部，该内杯的周缘侧上表面自顶部随着朝向径向外方去而下降倾斜，该顶部位于被保持部保持着的基板的周缘侧的下方，内杯具有在顶部沿着周向形成有多个的喷出孔，使自喷出孔喷出来的清洗液沿着附着有涂布液的内杯的周缘侧上表面流下，从而对该周缘侧上表面进行清洗，喷出孔形成为向径向外方且斜上方喷出清洗液。
- 处理装置
- [实用新型]喷嘴待机装置以及液处理装置-CN202122105214.3有效
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新村聪;川上浩平;稻田博一;高柳康治
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东京毅力科创株式会社
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2021-09-02
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2022-04-26
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H01L21/67
- 一种喷嘴待机装置以及液处理装置，喷嘴在喷嘴收容部待机并在顶端部吸入溶剂而形成液层时，即使喷出的处理液高粘度也能在顶端部形成溶剂的液层。包括：喷嘴收容部，包含以包围喷嘴顶端部的方式形成的内周面并与喷嘴的喷出口相对地形成排出口；溶剂喷出口，在喷嘴收容部内开口，使喷出的溶剂沿喷嘴收容部的内周面引导而自排出口排出，喷嘴收容部在排出口的上方侧在溶剂呈涡流下落的部位具有缩径部，缩径部包括相对于喷嘴收容部的中心线的角度不同的第1内周面和第2内周面，在以包含喷嘴收容部的中心线的方式沿其剖切的剖面中，沿相对的各第1内周面延伸的两直线交点位于比当喷嘴的顶端部配置于缩径部时的喷嘴的喷出口靠上方。
- 喷嘴待机装置以及处理
- [实用新型]清洗用治具-CN202120566987.9有效
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新村聪;高柳康治;柴崎健太;稻田博一
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东京毅力科创株式会社
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2021-03-19
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2022-01-11
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B08B9/08
- 本实用新型提供一种清洗用治具，当对旋转涂布装置的容器内进行清洗时，与以往相比在高度方向上清洗更广的范围。该清洗用治具呈圆盘状，用于在向配置于容器内的旋转保持装置所保持的基板上供给处理液并通过所述基板的旋转来在所述基板上形成所述处理液的膜的旋转涂布装置中清洗所述容器内，在所述清洗用治具的周缘部整周地形成有周缘顶部和周缘底部，在所述周缘顶部与所述周缘底部之间整周地形成有喷出口，在所述周缘底部沿周向隔开间隔地形成有多个通往所述喷出口的孔，所述周缘顶部的下表面朝向外周上方倾斜。
- 清洗用治具
- [发明专利]基片处理装置-CN202010736750.0在审
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新村聪;坂井勇治;柴崎健太;高柳康治;矢田健二;稻田博一;关慎一;绪方健人
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东京毅力科创株式会社
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2020-07-28
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2021-02-09
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G03F7/16
- 本发明提供一种基片处理装置。基片处理装置包括：遮罩部件，其配置成包围由旋转保持部保持的基片的周围；收集部件，其配置于遮罩部件与旋转保持部之间的排气路径；和溶剂供给部，其配置在收集部件的上方，构成为能够对收集部件供给溶剂。溶剂供给部包括：内侧贮存室，其构成为当从上方观察时包围基片的周围；外侧贮存室，其构成为当从上方观察时包围内侧贮存室的周围；和分隔壁，其以划分出内侧贮存室和外侧贮存室的方式沿周向延伸。多个连通孔以被导入到外侧贮存室的溶剂能够向内侧贮存室流通的方式贯通分隔壁地形成。多个滴落孔以内侧贮存室内的溶剂能够向收集部件滴落的方式贯通内侧贮存室的底壁地形成。本发明能够有效地除去棉状块。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质-CN201980012129.5在审
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稻田博一;梶原英树;永金拓;水篠真一
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东京毅力科创株式会社
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2019-02-04
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2020-09-18
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H01L21/027
- 涂布/显影装置(2)具备：去除液供给部(50)，其具有用于向晶圆(W)的周缘部喷出去除液的去除液喷嘴(52)；驱动部(60)，其使包括去除液喷嘴(52)的移动体(51)移动；传感器(70)，其检测与移动体(51)的位置有关的信息；以及控制部(100)，其构成为执行以下控制：向驱动部(60)输出用于使移动体(51)从将去除液喷嘴(52)配置于晶圆(W)的周缘(Wc)外的第一位置(P1)移动至将去除液喷嘴(52)配置于晶圆(W)的周缘部上的第二位置(P2)的控制指令；以及基于在移动体(51)从第一位置(P1)向第二位置(P2)移动的中途由传感器(70)检测出的信息同控制指令的关系来校正控制指令，以使移动体(51)的移动完成位置与第二位置(P2)的偏差缩小。
- 处理装置方法以及存储介质
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