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[发明专利]薄型电路板处理装置-CN201480003237.3有效
发明人：藤长徹志;松本昌弘;新井真;真濑江理子;岩井治宪;高桥康司;井堀敦仁 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2014-01-28 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：薄型电路板处理装置(10)具备处理薄型电路板(S)的电路板处理部(20A；20B)；以及在电路板处理部(20A；20B)处理薄型电路板(S)时冷却薄型电路板(S)的冷却部(31；101)。冷却部(31；101)由静电卡盘(31)或气体冷却部(101)构成，静电卡盘(31)通过吸附由电路板处理部(20A；20B)所处理的薄型电路板(S)的处理面相反侧的面来冷却薄型电路板(S)，气体冷却部(101)通过供应气体给由电路板处理部(20A；20B)所处理的薄型电路板(S)的处理面相反侧的面来冷却薄型电路板(S)。
电路板处理装置

[发明专利]真空处理装置以及真空处理方法-CN201280040387.2有效
发明人：前平谦;铃木大地;真濑江理子;不破耕 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2012-08-08 - 公布日： 2016-08-31 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：提供一种真空处理装置以及真空处理方法，能够在进行等离子处理时强力吸附保持绝缘性基板。真空处理装置（1）具有：接地的真空槽（11），与真空槽（11）相连的真空排气装置（19），配置在真空槽（11）内部的吸附装置（40），对设在吸附装置（40）上的单极（3）外加输出电压的吸附用电源（16），向真空槽（11）内导入等离子生成气体的等离子生成气体导入装置（21），以及使等离子生成气体为等离子的等离子生成部（20），将处理对象物（6）配置在吸附装置（40）上，当通过吸附用电源（16）对单极（3）外加输出电圧时，在真空槽内（11）内生成等离子，并且当将处理对象物（6）吸附在吸附装置上时，通过等离子进行处理，其中，处理对象物（6）使用绝缘性基板，吸附用电源（16）向单极（3）输出正电圧和负电圧周期地变化的输出电圧。
真空处理装置以及方法