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[发明专利]利用多个均匀加热的进料容积的原子层沉积-CN202180085940.3在审
发明人：尼廷·卡达姆;亚伦·布莱克·米勒;纳温·帕蒂尔;班亚·翁森纳库姆;戈鲁恩·布泰尔;施卢蒂·托姆贝尔;约瑟亚·科林斯;凯文·马丁戈尔;曼朱纳特·阿马纳特·萨蒂亚德文 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：将多个进料容积(CV)用于在每一处理室供应反应物及惰性气体以在衬底上执行原子层沉积(ALD)。在配料步骤期间可以高流动速率从两个CV供应一系列脉冲的反应物，从而延长配料时间。在第一和第二清扫步骤可在相等起始压力下从第一及第二CV供应惰性气体。加热脉冲阀岐管(PVM)最小化于ALD期间从PVM供应至相应处理室的工艺气体的温度变化。PVM在工艺气体进入相应的CV之前在PVM中预热工艺气体。PVM在CV上方及下方包括额外的辅助加热器以维持CV内工艺气体的温度。PVM可在执行维护之前快速地冷却，从而减少停机时间。
利用均匀加热进料容积原子沉积

[发明专利]使用下游压力感测的升华控制-CN202180078055.2在审
发明人：马文·克莱顿·布里斯;达温德·沙玛;班亚·翁森纳库姆 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-11-17 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：一种控制气体流动的系统包括用于储存固体前体的安瓿。加热器用于加热所述安瓿，以及将所述固体前体升华为气态前体。质量流量控制器用于调节所述气态前体从所述安瓿到衬底处理室的流动。压力传感器用于测量输入至所述质量流量控制器的所述气态前体的压力。控制器用于使用基于所述压力和压力设定点的闭环控制以向所述电加热器供给功率。
使用下游压力升华控制

[发明专利]用于高温工艺的具有独立面板的混合式喷头-CN202180063799.7在审
发明人：叶利耀;班亚·翁森纳库姆;尼温·维克拉曼;盖瑞·B·利德 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-09-09 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：一种用于处理室的喷头包含：金属板，其附接于该处理室上；陶瓷面板，其附接于该金属板上，并且包含在面向衬底的表面上的多个气体出口；以及金属环，其围绕该陶瓷面板，并且附接于该处理室上。
用于高温工艺具有独立面板混合式喷头

[发明专利]高温工艺用轴向冷却金属喷头-CN202180065552.9在审
发明人：叶利耀;尼温·维克拉曼;班亚·翁森纳库姆;盖瑞·B·利德 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-06-02 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：喷头的基部由第一金属材料制成、具有包含气体入口的第一表面及第二表面、且包含通道。面板由第二金属材料制成、且具有附接至该基部的侧表面及沿着该第二表面限定充气室的底表面。该面板包含自该底表面向上延伸通过充气室且与该第二表面接触的壁及沿着所述壁设置的出口。加热器被设置于沿着该基部的周边的沟槽中。冷却板被设置于该第一表面上且包含用于冷却剂的导管。板由第三材料制成并位于该冷却板与该基部之间，该第三材料的热导率低于该第一和该第二金属材料的热导率。
高温工艺轴向冷却金属喷头

[发明专利]用于化学品输送系统的加热器设计方案-CN202180032165.5在审
发明人：达温德·沙玛;克里斯多夫·J·劳;班亚·翁森纳库姆;查理·达马索;马文·克莱顿·布里斯 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-04-27 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： C23C16/448 文献下载
摘要：一种半导体衬底处理装置包含：化学品隔离室，其用于处理半导体衬底；化学品输送模块；以及控制模块。所述化学品输送模块与所述室流体连通，并且包含：罐式炉、控制炉以及加热元件。该罐式炉使用经加热的前体来产生工艺气体。所述控制炉经由第一气体管线来接收所述工艺气体，且经由第二气体管线将所述工艺气体供应到所述室。所述第一气体管线在所述罐式炉的内侧表面和所述控制炉的内侧表面之间延伸。所述加热元件将所述第一气体管线的在所述罐式炉的所述内侧表面和所述控制炉的所述内侧表面之间的部分加热。所述控制器模块基于所述部分的温度来调整所述加热元件的加热温度。
用于化学品输送系统加热器设计方案

[发明专利]具有清扫的用于腐蚀性气体的蒸气储蓄器-CN202080051881.3在审
发明人：盖瑞·布里杰·利德;班亚·翁森纳库姆;约瑟亚·科林斯;哈拉尔德·特妮珍惠斯 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2020-05-19 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：提供了用于半导体处理操作，例如原子层沉积操作的蒸气储蓄器。这种蒸气储蓄器可以包括填充有惰性气体的周边充气部容积，这可以减少或防止外部污染物泄漏到处理气体中。在一些实现方案中，储液器可由耐腐蚀材料构成以减少进入处理气体的内部污染物。
具有清扫用于腐蚀性气体蒸气储蓄

[发明专利]用于吹扫半导体处理室狭缝阀开口的装置-CN202010781138.5在审
发明人： 班亚·翁森纳库姆;彼得·科洛托夫 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2017-02-28 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及用于吹扫半导体处理室狭缝阀开口的装置。提供了一种半导体处理室，其可以包括：延伸穿过室壁并具有限定开口的内通道表面的晶片传送通道，包括限定插入件开口的插入件内表面的插入件，以及气体入口。所述晶片传送通道的至少部分地围绕所述内通道表面延伸并从所述内通道表面向外偏移的第一凹陷表面、至少部分地围绕所述插入件内表面延伸并从所述插入件内表面向外偏移的第一插入件外表面、以及在所述内通道表面和所述第一凹陷表面之间延伸的第一壁表面至少部分地限定流体连接到气体入口的气体分配通道，所述第一凹陷表面与所述第一插入件外表面分开第一距离，并且插入件前表面面向所述第一壁表面并与所述第一壁表面分开第一间隙距离。
用于半导体处理狭缝开口装置

[发明专利]用于吹扫半导体处理室狭缝阀开口的装置-CN201710112144.X有效
发明人： 班亚·翁森纳库姆;彼得·科洛托夫 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2017-02-28 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及用于吹扫半导体处理室狭缝阀开口的装置。提供了一种半导体处理室，其可以包括：延伸穿过室壁并具有限定开口的内通道表面的晶片传送通道，包括限定插入件开口的插入件内表面的插入件，以及气体入口。所述晶片传送通道的至少部分地围绕所述内通道表面延伸并从所述内通道表面向外偏移的第一凹陷表面、至少部分地围绕所述插入件内表面延伸并从所述插入件内表面向外偏移的第一插入件外表面、以及在所述内通道表面和所述第一凹陷表面之间延伸的第一壁表面至少部分地限定流体连接到气体入口的气体分配通道，所述第一凹陷表面与所述第一插入件外表面分开第一距离，并且插入件前表面面向所述第一壁表面并与所述第一壁表面分开第一间隙距离。
用于半导体处理狭缝开口装置

[发明专利]用于电感耦合等离子体系统的混合阻抗匹配-CN201610428220.3有效
发明人：乔治·托马斯;班亚·翁森纳库姆;弗朗西斯科·J·华雷斯 -专利权人：诺发系统公司
申请日： 2013-10-09 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及用于电感耦合等离子体系统的混合阻抗匹配。在一方面，一种系统包括被配置为产生并调谐供给信号的频率的发生器。该系统还包括自动匹配网络，该自动匹配网络被配置成接收该供给信号并产生用于给等离子体系统提供功率的阻抗匹配信号。在一些实施方式中，在阻抗匹配操作的第一阶段的过程中，该发生器被配置为调谐该供给信号的频率，直到该发生器确认使该发生器的电抗和该发生器上的负载的电抗最佳匹配的频率。在一些实施方式中，在该阻抗匹配操作的第二阶段的过程中，该自动匹配网络被配置为调谐该自动匹配网络内的调谐元件直到该自动匹配网络确认该调谐元件的使该发生器的电阻和该发生器上的负载的电阻最佳匹配的调谐。
用于电感耦合等离子体系统混合阻抗匹配

[发明专利]具有集成蒸气浓度传感器的蒸气歧管-CN201710399808.5在审
发明人：盖瑞·布里杰·利德;班亚·翁森纳库姆;埃里克·H·伦茨;约瑟亚·科林斯 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2017-05-31 - 公布日： 2017-12-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有集成蒸气浓度传感器的蒸气歧管。提供了用于诸如原子层沉积操作之类的半导体处理操作的蒸气积聚器储存器。这种蒸气积聚器储存器可以包括光束端口，以允许光束通过蒸气传输并允许测量储存器中的蒸气浓度。在一些实施方案中，储存器可以与真空泵送歧管集成，并且储存器和歧管可以由公共加热系统加热以防止蒸气冷凝。
具有集成蒸气浓度传感器歧管

[发明专利]用于电感耦合等离子体系统的混合阻抗匹配-CN201310467492.0有效
发明人：乔治·托马斯;班亚·翁森纳库姆;弗朗西斯科·J·华雷斯 -专利权人：诺发系统公司
申请日： 2013-10-09 - 公布日： 2014-04-09 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及用于电感耦合等离子体系统的混合阻抗匹配。在一方面，一种系统包括被配置为产生并调谐供给信号的频率的发生器。该系统还包括自动匹配网络，该自动匹配网络被配置成接收该供给信号并产生用于给等离子体系统提供功率的阻抗匹配信号。在一些实施方式中，在阻抗匹配操作的第一阶段的过程中，该发生器被配置为调谐该供给信号的频率，直到该发生器确认使该发生器的电抗和该发生器上的负载的电抗最佳匹配的频率。在一些实施方式中，在该阻抗匹配操作的第二阶段的过程中，该自动匹配网络被配置为调谐该自动匹配网络内的调谐元件直到该自动匹配网络确认该调谐元件的使该发生器的电阻和该发生器上的负载的电阻最佳匹配的调谐。
用于电感耦合等离子体系统混合阻抗匹配

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