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[发明专利]基板处理系统-CN202110836298.X在审
发明人：山田建一郎;照内怜;中村健一郎;山本能吏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-06-20 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够实现载置台的小型化和构造的简化的基板处理系统。基板处理系统具备基板处理装置和控制装置。基板处理装置具有：腔室；载置台，其设置在腔室内，用于载置被处理基板；以及加热器，其被嵌入到载置台的内部的与各个分割区域对应的位置，该各个分割区域是将载置台的上表面分割为多个区域而得到的。控制装置具有：保持部，其按每个分割区域保持表示加热器的电阻值与分割区域的温度之间的关系的表；测定部，其针对每个分割区域测定加热器的电阻值；以及控制部，其针对每个分割区域，参照表来估计与由测定部测定出的加热器的电阻值对应的分割区域的温度，控制向加热器供给的电力以使得所估计出的温度变为目标温度。
处理系统

[发明专利]基板处理系统和温度控制方法-CN201710471019.8有效
发明人：山田建一郎;照内怜;中村健一郎;山本能吏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-06-20 - 公布日： 2021-08-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够实现载置台的小型化和构造的简化的基板处理系统和温度控制方法。基板处理系统具备基板处理装置和控制装置。基板处理装置具有：腔室；载置台，其设置在腔室内，用于载置被处理基板；以及加热器，其被嵌入到载置台的内部的与各个分割区域对应的位置，该各个分割区域是将载置台的上表面分割为多个区域而得到的。控制装置具有：保持部，其按每个分割区域保持表示加热器的电阻值与分割区域的温度之间的关系的表；测定部，其针对每个分割区域测定加热器的电阻值；以及控制部，其针对每个分割区域，参照表来估计与由测定部测定出的加热器的电阻值对应的分割区域的温度，控制向加热器供给的电力以使得所估计出的温度变为目标温度。
处理系统温度控制方法

[发明专利]载置台及等离子体处理装置-CN201580024261.X有效
发明人：喜多川大;小泉克之;永井力;林大辅;照内怜 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-06-01 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种载置台及等离子体处理装置。本发明的一实施方式的载置台具备支承部件及基座。支承部件具有：载置区域，具有加热器；及外周区域，围绕载置区域。基座具有：第1区域，在其上支承载置区域；及第2区域，围绕第1区域。第2区域中设有贯穿孔。电连接于加热器的配线穿过第2区域的贯穿孔。
载置台等离子体处理装置

[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理装置的运用方法-CN201580024624.X有效
发明人： 照内怜 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-06-01 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：一实施方式的等离子体处理装置具备处理容器、载置台、多个加热器及供电装置。载置台设置于处理容器内。多个加热器设置于载置台内。供电装置对多个加热器供给电力。供电装置具备多个变压器及多个零交控制型的固态继电器(SSR)。多个变压器构成为使来自交流电源的电压降压。多个变压器各自具有一次线圈及二次线圈。一次线圈与交流电源连接。多个SSR分别设置于多个加热器中对应的一个加热器与多个变压器中对应的一个变压器的二次线圈之间。
等离子体处理装置运用方法供电