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[发明专利]等离子体处理装置和清洁方法-CN202111581735.4在审
发明人： 清水涉 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及等离子体处理装置和清洁方法。高效地去除附着于腔室的内壁的沉积物。电极配置于腔室内。多个气体喷出口以朝向电极侧喷出气体的方式配置于电极的周边。气体供给部向多个气体喷出口供给处理气体。高频电源向电极供给能够使处理气体等离子体化的高频电力。控制部控制为，一边自气体供给部供给处理气体并使处理气体自气体喷出口喷出，一边自高频电源向电极供给高频电力。
等离子体处理装置清洁方法

[发明专利]文本挖掘的方法和装置-CN201510569585.3有效
发明人：张碧川;黄耀海;清水涉 -专利权人：佳能信息技术(北京)有限公司
申请日： 2015-09-09 - 公布日： 2019-04-30 - 主分类号： G06F17/27 文献下载
摘要：本发明提供了一种文本挖掘的方法和装置。该方法包括文本串接收步骤，用于接收输入文本串；状态对提取步骤，用于根据输入文本串提取状态对，该状态对包括第一状态和第二状态，第一状态包含第一满意度值和第一描述单元，第一满意度值为满意或不满意，第一描述单元包含第一名词和第一描述短语，其中，第一描述短语所描述的对象是第一名词，第一描述短语包含第一形容词或第一动词，且第二状态与第一状态相反；动作文本生成步骤，用于生成动作文本，动作文本描述了一个动作，该动作对应第一状态到第二状态的状态转移，动作文本包含第三动词和第三动词的宾语。利用本发明，能准确地生成动作文本并对输入文本串准确分类。
文本挖掘方法装置

[发明专利]用于创建网页特征图像和生成网页书签的方法和装置-CN201410491571.X有效
发明人：沈为正;李锴;清水涉;刘增卫 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2014-09-23 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： G06F16/955 文献下载
摘要：本发明公开了用于创建网页特征图像和生成网页书签的方法和装置。用于创建网页特征图像的方法包括：获得电子设备中正在浏览的网页的图像，其中获得的图像包括至少一个第一区域，并且在第一区域中渲染的网页内容能够表示所述网页；在获得的图像中确定至少一个第二区域；其中根据电子设备的显示因子确定第二区域的大小，并且根据第一区域在获得的图像上的位置确定第二区域的位置；以及通过根据所确定的第二区域，从获得的图像中提取至少一个子图像，创建网页的至少一个网页特征图像。使用本发明，在创建的网页特征图像上显示的网页内容总是可读并且用户总是能够容易进行识别，而且生成的网页书签总是能够使用户容易判断相应网页是否是目标网页。
用于创建网页特征图像生成书签方法装置

[发明专利]获得和共享网页的部分内容并生成网页书签的方法和装置-CN201510208644.4无效
发明人：沈为正;李锴;刘增卫;清水涉 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2015-04-28 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： G06F17/30 文献下载
摘要：本发明提供获得和共享网页的部分内容并生成网页书签的方法和装置。所述用于获得网页的部分内容的方法包括：从用户在显示在电子设备上的所述网页内选择的区域中渲染的元素中，确定第一类型的元素；根据所述第一类型的元素的渲染信息，针对所述第一类型的元素创建相应的HTML元素；捕获针对所选择的区域的图像；以及基于所捕获的图像以及所创建的HTML元素，生成HTML片段。通过利用本发明，所获得的网页的部分内容可以具有与用户所选择的完全相同的内容和排版。
获得共享网页部分内容生成书签方法装置

[发明专利]膜的处理方法-CN201210082484.X有效
发明人： 清水涉;前田清司;永岩利文 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-03-26 - 公布日： 2012-10-10 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明提供一种在进行低介电常数膜的损伤恢复处理时，能够维持较低相对介电常数和泄漏电流值，同时能够除去内部水分的处理方法。在对形成于被处理基板的、表面部分有损伤层的低介电常数膜实施恢复处理时，使第一处理气体和第二处理气体作用于低介电常数膜的损伤层，其中，上述第一处理气体，其分子小到能够渗透到低介电常数膜的损伤层的内部的程度，并且能够除去损伤层内的水分，上述第二处理气体，在损伤层的表面形成疏水性的致密的改性层。
处理方法

[发明专利]高强度、延展性和耐疲劳性优异的碳钢线材、其制造方法和评价方法-CN200980143615.7有效
发明人： 清水涉 -专利权人：株式会社普利司通
申请日： 2009-10-30 - 公布日： 2011-09-28 - 主分类号： B21C1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种迄今为止没有的高强度、延展性和耐疲劳性优异的碳钢线材、其制造方法和评价方法。一种碳钢线材，其中，碳含量为0.50～1.10质量％的碳钢线材(1)的横截面(12)的表层部(13)的硬度与纵截面(2)的表层部(3)的硬度之比即系数X(横截面硬度/纵截面硬度)、和横截面(12)的中心部(14)的硬度与纵截面(2)的中心部(4)的硬度之比即系数X(横截面硬度/纵截面硬度)均满足下式：0.9＜系数X≤1.10所表示的关系，且该碳钢线材具有4000MPa以上的拉伸强度。
强度延展性疲劳优异线材制造方法评价

[发明专利]聚焦环和等离子体处理装置-CN200710194607.8无效
发明人：輿石公;田中秀朗;冈山信幸;宫川正章;水上俊介;清水涉;广濑润;若木俊克;三轮智典;大薮淳;林大辅 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2004-09-06 - 公布日： 2008-04-16 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：提供一种聚焦环和等离子体处理装置，在可以提高处理的面内均匀性的同时，与现有技术比较，还可以减小淀积对半导体晶片的周缘部分背面一侧的发生。在真空室(1)内，设置有载置半导体晶片W的载置台(2)，以把载置到该载置台(2)上的半导体晶片W的周围围住的方式设置聚焦环(8)。聚焦环(8)由由介电物质构成的环状的下侧构件(9)、和配置在该下侧构件(9)的上部，由导电性材料构成的环状的上侧构件(10)构成，上侧构件(10)的上表面的外周一侧被作成为比半导体晶片W的被处理面还高的平坦部分(10a)，该平坦部分(10a)内周部分被作成为使得外周一侧变成为比内周一侧还高那样地进行倾斜的倾斜部分(10b)。
聚焦等离子体处理装置

[发明专利]聚焦环和等离子体处理装置-CN200410078499.4有效
发明人：輿石公;田中秀朗;冈山信幸;宫川正章;水上俊介;清水涉;广濑润;若木俊克;三轮智典;大薮淳;林大辅 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2004-09-06 - 公布日： 2005-03-09 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：提供一种聚焦环和等离子体处理装置，在可以提高处理的面内均匀性的同时，与现有技术比较，还可以减小淀积对半导体晶片的周缘部分背面一侧的发生。在真空室(1)内，设置有载置半导体晶片W的载置台(2)，以把载置到该载置台(2)上的半导体晶片W的周围围住的方式设置聚焦环(8)。聚焦环(8)由由介电物质构成的环状的下侧构件(9)、和配置在该下侧构件(9)的上部，由导电性材料构成的环状的上侧构件(10)构成，上侧构件(10)的上表面的外周一侧被作成为比半导体晶片W的被处理面还高的平坦部分(10a)，该平坦部分(10a)内周部分被作成为使得外周一侧变成为比内周一侧还高那样地进行倾斜的倾斜部分(10b)。
聚焦等离子体处理装置

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