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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]偏光元件及投影仪-CN201110041314.2有效
发明人： 泽木大辅 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2011-02-17 - 公布日： 2017-08-15 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明提供偏光元件及投影仪。该偏光元件具有基板，以及排列于上述基板的多个栅格部，上述栅格部具有在该栅格部的长度方向上以比入射光的波长短的周期交替排列的凸部和凹部，上述凸部的排列周期在相邻的上述栅格之间不同。
偏光元件投影仪

[发明专利]偏光元件及投影仪-CN201110025379.8有效
发明人： 泽木大辅 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2011-01-19 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明提供一种偏光元件及投影仪。偏光元件具备基板和在上述基板上排列的多个栅格部，上述栅格部具有沿该栅格部的长度方向以小于入射光的波长的周期交替排列的凸部及凹部，在上述多个栅格部中，上述凸部的排列周期P为一定，同时上述凸部的排列周期P与上述凸部的长度L的比率(D＝L/P)为一定，上述凸部的高度在相邻的上述栅格部中彼此不同。
偏光元件投影仪

[发明专利]偏光元件、偏光元件的制造方法、电子设备-CN201110006578.4有效
发明人： 泽木大辅 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2011-01-05 - 公布日： 2011-07-13 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明提供一种偏光元件、偏光元件的制造方法、电子设备。所述偏光元件具备：基板；多个反射层，其位于上述基板上，隔开一定间隔被排列成带状；形成在上述反射层上的电介质层；以及吸收层，其位于上述电介质层上，朝向邻接的一方的上述反射层侧和邻接的另一方的上述反射层侧分别具有凸部。
偏光元件制造方法电子设备

[发明专利]偏光元件、偏光元件的制造方法、电子设备-CN201010623804.9有效
发明人： 泽木大辅 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2010-12-31 - 公布日： 2011-07-13 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明涉及偏光元件、偏光元件的制造方法、电子设备。偏光元件具备：基板；在所述基板上隔开一定间隔且排列成带状的多个反射层；形成于所述反射层上的电介体层；以及无机微粒子层，其形成在所述电介体层上，由无机微粒子形成，并且具有分别朝向邻接的一个所述反射层侧和邻接的另一个所述反射层侧的凸部，其中，所述无机微粒子具有所述反射层的排列方向上的微粒子径长大于与所述反射层的排列方向正交的方向上的微粒子径长的形状各向异性。
偏光元件制造方法电子设备

[发明专利]镀覆基板及其制造方法-CN200710163831.0无效
发明人：金田敏彦;木村里至;降旗荣道;尼子淳;泽木大辅;木岛健 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2007-09-30 - 公布日： 2008-04-09 - 主分类号： H01B5/14 文献下载
摘要：本发明提供一种可形成精度良好的微细图形金属层的镀覆基板以及其制造方法。本发明的镀覆基板(100)的制造方法是通过化学镀法来形成金属层(33)的镀覆基板的制造方法，其包括：在基板(10)上形成一定图形的树脂成形体(22)的工序；在树脂成形体上形成催化剂层(31)的工序；通过将基板浸渍在化学镀液中，在催化剂层上析出金属从而形成金属层(33)的工序。
镀覆及其制造方法

[发明专利]激光加工方法及喷液头-CN200610094635.8无效
发明人： 泽木大辅;岛田胜人;梅津一成 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2003-11-14 - 公布日： 2006-12-06 - 主分类号： B23K26/36 文献下载
摘要：一种激光加工方法及喷液头，该激光加工方法是以从硅基板的端部突出的状态层叠金属薄膜在该硅基板的底面上的层叠部件的加工方法，将相对金属薄膜的光吸收率比相对硅基板的光吸收率高的波长的激光照射在硅基板端部与金属薄膜的边界部从而切断该金属薄膜。
激光加工方法喷液头

[发明专利]光学元件的制造方法-CN200610073901.9无效
发明人：熊井启友;泽木大辅 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2006-02-14 - 公布日： 2006-08-30 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明提供了一种在基板上具有多个金属线栅的光学元件的制造方法，其特征在于，采用电解电镀法制造所述金属线栅。这样，本发明的光学元件的制造方法，能制造比较廉价且大批量生产性高的偏光镜等。
光学元件制造方法

[发明专利]光学元件的制造方法-CN200610006679.0无效
发明人：熊井启友;泽木大辅 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2006-02-08 - 公布日： 2006-08-16 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明提供一种在基板上具备多个金属线栅的光学元件的制造方法，其特征在于，通过LSP(Liquid Self－patterning Process)制作所述金属线栅。从而本发明提供一种更廉价且批量生产性高的偏振镜等光学元件的制造方法。
光学元件制造方法

[发明专利]眼镜镜片的制造方法、标记装置、标记系统以及眼镜镜片-CN200480018230.5有效
发明人：伊藤步;泽木大辅 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2004-06-28 - 公布日： 2006-08-02 - 主分类号： G02C7/02 文献下载
摘要：使激光在眼镜镜片(L1)内部会聚，形成标记(10A)。标记(10A)形成为与眼镜镜片(L1)的光轴大致平行。并且，通过使眼镜镜片(L2)的光学基准位置(L0)和标记装置(3)的基准位置(T)吻合来进行对准，把眼镜镜片(L2)安装在标记装置(3)的保持部(11)上，之后根据眼镜镜片(L2)的光学基准位置(L0)进行定位。然后，使眼镜镜片(L2)移动到标记开始位置，进行标记。通过根据形成在眼镜镜片(L2)内的一对暗标记，进行眼镜镜片(L2)的位置调整，可使光学基准位置(L0)和标记装置(3)的基准位置(T)一致。
眼镜镜片制造方法标记装置系统以及

[发明专利]微细结构体的制造方法、曝光装置、电子仪器-CN200510075901.8有效
发明人：尼子淳;高桑敦司;泽木大辅 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2005-06-02 - 公布日： 2006-03-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种可以以低成本实现比可见光波长还短的数量级的微细加工的技术。一种微细结构体的制造方法，包括：感光膜形成工序，在被加工体(100)的上侧形成感光膜；曝光工序，使比可见光波长小的波长的2束激光束(B1、B2)交叉来产生干涉光、通过照射该干涉光来曝光上述感光膜；显影工序，显影曝光后的上述感光膜、在上述感光膜上呈现与上述干涉光的图案对应的形状；蚀刻工序，以显影后的上述感光膜为蚀刻掩膜进行蚀刻来加工上述被加工体。
微细结构制造方法曝光装置电子仪器

[发明专利]激光加工装置及激光加工方法-CN200410092705.7有效
发明人：梅津一成;泽木大辅 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2004-11-11 - 公布日： 2005-05-18 - 主分类号： B23K26/067 文献下载
摘要：本发明提供一种在批量生产方面性能出色的激光加工技术。激光加工装置(100)具有：产生光束的激光发生装置(10)、将光束(50)分成等间隔配置的多根光束(51)的分支装置(16、18)、将多根光束(51)以配置间隔的自然数倍的间距在对象体上进行相对移动的移动装置(30)、与多根光束(51)的该移动间距同步而控制该光束强度的控制装置(40)。
激光加工装置方法

[发明专利]液体喷出头及其制造方法-CN200410044711.5有效
发明人：高城富美男;黑泽龙一;泽木大辅 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2004-05-17 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： B41J2/005 文献下载
摘要：本发明提供一种液体喷出头，该液体喷出头至少包括容纳液体的容纳室，即储液器(22)、施加用于喷出液体的压力的加压室(6)、连结加压室(6)与储液器(22)的流路、和从加压室(6)中喷出液滴的喷孔(4)，前述流路的一部分由设在玻璃基板(7)上的微小通孔(10)形成，该微小通孔(10)的内径连续地减小或增大。由此，可以降低制造成本，不会发生与喷出的液体，即包含生物高分子的溶液产生反应的问题，而且可从各喷嘴中喷出一定量的液滴。
液体喷出及其制造方法

[发明专利]激光加工方法及喷液头-CN200310116199.6无效
发明人： 泽木大辅;岛田胜人;梅津一成 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2003-11-14 - 公布日： 2004-06-02 - 主分类号： B41J2/045 文献下载
摘要：一种激光加工方法及喷液头，该激光加工方法是以从硅基板的端部突出的状态层叠金属薄膜在该硅基板的底面上的层叠部件的加工方法，将相对金属薄膜的光吸收率比相对硅基板的光吸收率高的波长的激光照射在硅基板端部与金属薄膜的边界部从而切断该金属薄膜。
激光加工方法喷液头

[发明专利]掩模和电发光装置及其制造方法，以及电子仪器-CN03123132.2有效
发明人：四谷真一;梅津一成;泽木大辅 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2003-04-17 - 公布日： 2003-10-29 - 主分类号： G03F1/16 文献下载
摘要：本发明的目的是制造一种高精细掩模。在基板10上形成有多个穿孔20并且它们各自的第1开口22和比第1开口22大的第2开口24之间相互连通而形成的多个穿孔20。在基板10的第1面12上形成对应于第1开口22的耐蚀刻膜30，在基板10的第1面12的相反面第2面14上，可以使2个以上的第2开口24的形成区域能连续露出，让多个穿孔20的形成区域露出。在各自的穿孔20的形成区域里，形成小穿孔36。从基板10的第1及第2面的两方，能进行具有结晶表面方向依赖性的蚀刻。
发光装置及其制造方法以及电子仪器

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