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[发明专利]用于光学器件的载体布置-CN202310349897.8在审
发明人： 沃尔夫冈·泽希;达维德·阿尔马什;曼努埃尔·阿斯克万登 -专利权人：奥普托图尼瑞士股份公司
申请日： 2023-04-04 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G02B7/00 文献下载
摘要：用于光学器件的载体布置，包括第一载体和第二载体，其围绕第一轴线相对彼此可旋转，第一轴线由第一轴承装置限定，其中第一轴承装置布置在第一载体和第二载体之间，包括至少一个销、优选两个销，具有纵轴，其中销布置成其纵轴基本平行于第一轴线，其中销的第一部分附接到第一载体上，销的第二部分可移动地布置在第二载体的缺口中、或其中销的第一部分附接到第二载体，销的第二部分可移动地布置在第一载体的缺口中，缺口包括至少两个支撑面，其设计为使得销的第二部分在两个圆周部分被缺口支撑，载体布置进一步包括预加载元件，其设计用于对销施加预紧力。
用于光学器件载体布置

[发明专利]用于光学元件的载体设备-CN202310182003.0在审
发明人：斯蒂芬·斯莫尔卡;曼努埃尔·阿斯克万登;沃尔夫冈·泽希 -专利权人：奥普托图尼瑞士股份公司
申请日： 2023-03-01 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G02B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于承载光学元件的载体设备，包括：限定平面的平台，基座，弹簧结构，将平台连接至基座，以便实现平台相对于基座绕至少第一轴线的倾斜，第一轴线平行于所述平面延伸，第一磁体和第一线圈，其中第一磁体连接至平台且第一线圈连接至基座，或者其中第一磁体连接至基座且第一线圈连接至平台，并且其中第一磁体平行于所述平面进行磁化，其中第一线圈包括面对第一磁体的第一线圈段，使得流经第一线圈段的电流产生沿相对于所述平面在88°至92°范围内的角度的方向的洛伦兹力，使得引致平台的倾斜，并且其中平台、基座、第一磁体和第一线圈段布置在平行于所述平面延伸的共同延伸平面中。
用于光学元件载体设备

[发明专利]可倾斜反射镜装置-CN202210402753.X在审
发明人： 沃尔夫冈·泽希;曼纽尔·阿施万登;艾伦·科尔蒂佐;泽维尔·帕洛·加西亚;迈克尔·齐尔曼;菲利克斯·阿诺德 -专利权人：奥普托图尼股份公司
申请日： 2022-04-18 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种可倾斜反射镜装置，包括：可倾斜部分，包括具有用于反射电磁波的反射层的基板；固定部分，可倾斜部分能够相对于固定部分移动；轴承组件，其机械地连接固定部分和可倾斜部分，其中轴承组件被布置成使可倾斜部分能够围绕至少一个旋转轴线相对于固定部分倾斜；致动器组件，其中致动器组件包括两个部件，即包括一个或多个线圈的线圈部分以及磁性组件，每个线圈包括导电体，其中致动器组件的一个部件由可倾斜部分包括，并且其中致动器组件的另一个部件由固定部分包括，其中致动器组件的部件被布置成借助于洛伦兹力相对于固定部分移动可倾斜部分，其中致动器组件被布置在致动空间中，致动空间在反射层的单侧上从反射层延伸离开。
倾斜反射装置

[发明专利]具有受支撑的挠曲接头的光学装置-CN202210110139.6在审
发明人： 沃尔夫冈·泽希;赛维尔·帕卢;迈克尔·齐尔曼;曼纽尔·阿什万登 -专利权人：奥普托图尼股份公司
申请日： 2022-01-29 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： G02B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于承载光学元件(2)的装置(1)，该装置包括：用于承载所述光学元件(2)的可枢转的第一承载件(10)，第一承载件(10)通过第一轴承(100)安装，使得第一承载件(10)围绕第一轴线(A)可枢转，其中第一轴承(100)包括弹性结构(30)和被配置成支撑第一承载件(10)的支撑件(41，42)，其中支撑件(41，42)被配置成限制第一承载件(10)在至少第一方向(D1)上的平移。
具有支撑挠曲接头光学装置

[发明专利]光学设备及激光加工设备-CN202111267760.5在审
发明人：曼纽尔·阿施万登;沃尔夫冈·泽希 -专利权人：奥普托图尼股份公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： B23K26/064 文献下载
摘要：一种光学设备(1)，包括载体(4)、光学元件(2)和辐射热沉(3)，其中光学元件(2)安装在载体(4)上，光学元件(2)可移动地附接到载体(4)，载体(4)具有凹部(7)，其中光学设备(1)布置成与电磁辐射(9)相互作用，将电磁辐射(9)分成第一部分(91)和第二部分(92)，光学元件布置成在可限定的方向上偏转第一部分，并且第二部分(92)入射到凹部(7)中并且照射在辐射热沉(3)上。
光学设备激光加工

[发明专利]用于偏转光学器件的装置-CN202110242822.0在审
发明人：迈克尔·齐尔曼;沃尔夫冈·泽希;乌利齐·莱登伯格;赛维尔·帕卢 -专利权人：奥普托图尼股份公司
申请日： 2021-03-05 - 公布日： 2021-09-21 - 主分类号： G02B7/00 文献下载
摘要：一种用于使安装在装置上的器件相对于一个或多个轴线偏转的装置，所述装置包括：安装支撑件；器件底架，其限定平面和该平面中的顺时针方向，其中器件底架包括两个或更多个臂桥，其中第一臂桥从器件底架的第一侧延伸，并且第二臂桥从器件底架的第二相对侧延伸。一个或多个臂桥，包括在顺时针方向上连续地延伸到第一支座的第一臂和在逆时针方向上连续地延伸到第二支座的第二臂。该装置包括一个或多个支座支撑件，其包括在每个支座和安装支撑件之间。
用于偏转光学器件装置