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[发明专利]一种研磨垫的制作方法-CN202310965371.2在审
发明人：汝浩 -专利权人：长鑫科技集团股份有限公司
申请日： 2023-07-31 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本公开是关于一种研磨垫的制作方法，包括提供基材层，基材层的至少部分表面为发泡材料；于基材层上设置发泡导向结构，发泡导向结构具有多个导向通道；基于发泡导向结构，对发泡材料进行发泡处理，以使得发泡材料沿各导向通道进行发泡，去除发泡导向结构，得到研磨垫，其中，发泡材料发泡得到的发泡结构形成研磨垫的研磨层。本公开的研磨垫的制作方法，可保证得到的研磨垫的研磨层在该延伸方向上形成的孔隙大小均匀，且在延伸方向上，孔隙在各个位置的横截面面积更趋于一致。
一种研磨制作方法

[发明专利]一种抛光组件及抛光设备-CN202310220270.2有效
发明人：汝浩 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2023-03-09 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本公开提供一种抛光组件及抛光设备，抛光组件包括抛光垫、分液部和清洗液供给部，抛光垫包括第一表面，第一表面上设置有至少一个沟槽，沟槽由抛光垫的中心区域延伸至抛光垫的边沿；分液部设置于中心区域，分液部构造有清洗液容腔，清洗液容腔与至少部分沟槽连通；清洗液供给部用以向清洗液容腔供给清洗液。本公开中的抛光组件可以对沟槽实现良好的清洁效果，以避免抛光垫的沟槽中的残留物对抛光垫造成污染、影响后续半导体结构的平坦化处理效果的问题。
一种抛光组件设备

[发明专利]保持环和研磨设备-CN202310082121.4在审
发明人：汝浩 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2023-01-16 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本公开实施例提供了一种保持环和研磨设备。该保持环包括环形本体，环形本体具有内周壁、外周壁以及连接于内周壁和外周壁的顶端的研磨表面；环形本体还具有自研磨表面凹陷的多个间隔设置的沟槽，沟槽自内周壁向外周壁延伸并贯通；其中，沟槽的两个侧壁之间的宽度在垂直于沟槽底壁的方向上不完全相同，所有沟槽的两个侧壁底部之间的宽度之和大于或等于所有沟槽的两个侧壁顶部之间的宽度之和。本公开实施例的保持环，能够减少半导体结构研磨的表面的研磨缺陷，提高研磨率。
保持研磨设备

[发明专利]研磨垫及其制备方法-CN202310213599.6在审
发明人：汝浩;孙婷婷;陈继伟;蔡伟芹 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2023-03-08 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本公开实施例涉及一种研磨垫及其制备方法。该研磨垫包括：基板；研磨盘，与所述基板可拆卸连接，研磨盘的第一表面设置有凸出第一表面的第一金刚石颗粒，研磨盘的第二表面设置有凸出第二表面的第二金刚石颗粒；其中，在所述可拆卸连接的方向上，研磨盘相对设置的两个表面分别为第一表面和第二表面。该制备方法包括：提供基板；提供研磨盘，研磨盘的第一表面设置有凸出第一表面的第一金刚石颗粒，研磨盘的第二表面设置有凸出第二表面的第二金刚石颗粒；将基板和研磨盘机械连接在一起，第一表面和第二表面中的一个表面靠近基板，另一个表面背离基板；其中，基板和研磨盘之间可拆卸连接。降低了研磨垫的使用成本。
研磨及其制备方法

[实用新型]一种能调节难度的腹肌锻炼健身器-CN201620725722.8有效
发明人：施长春;刘传;葛倩倩;陶敏;汝浩;黄从同;庞怀强;王力;陈孝宇;朱家顺 -专利权人：皖西学院
申请日： 2016-07-11 - 公布日： 2017-05-17 - 主分类号： A63B23/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种能调节难度的腹肌锻炼健身器，包括第一支撑杆、第二支撑杆、和拉杆；所述第一支撑杆的形状为长方体，设置有支脚、踏板、滑槽、卡槽、圆孔和调节螺栓；所述支脚设置为两个；所述踏板设置在第一支撑杆的底部；所述滑槽设置在第一支撑杆上方；所述卡槽设置在第一支撑杆中间位置；所述圆孔设置在卡槽上方；所述紧固螺栓设置在圆孔内；所述第二支撑杆设置有支脚、踏板、滑槽、卡块和固定螺孔；所述卡块设置在第二支撑杆中间位置，卡在卡槽内；所述固定螺孔设置在卡块上方；所述拉杆设置在滑槽内，通过弹簧与滑槽顶部连接，并设置有滑块、转轴和滚轮；本实用新型设计新颖，能够调节锻炼的难度，使锻炼循序渐进，效果更好。
一种调节难度腹肌锻炼健身器