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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]曝光装置以及曝光方法-CN202310288062.6在审
发明人： 水端稔;秩父孝夫;藤泽泰充 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2023-03-22 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的曝光装置以及曝光方法能够提供一种在利用从多个光源生成的激光光束对基板进行曝光的技术中，还能够适当地应对描绘中可能产生的光源的经时变动的技术。在本发明的曝光装置以及曝光方法中，在激光光束的光路上检测激光光束。在执行描绘中检测出的激光光束的光斑尺寸偏离规定的适当范围时，执行规定的错误处理。
曝光装置以及方法

[发明专利]曝光装置以及曝光方法-CN202211742610.X在审
发明人： 水端稔 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的曝光装置以及曝光方法的目的在于，即使是没有形成对准标记的基板，也能够根据基板的形状适当地进行曝光。本发明的曝光装置具有：载物台，支撑处理对象的基板；曝光部，基于规定的曝光数据通过光束对基板的表面进行曝光并描画；移动机构，使载物台与曝光部相对移动；拍摄部，对被载物台支撑的未曝光的基板的边缘部进行拍摄；以及描画控制部，根据拍摄部的拍摄结果在多个部位检测基板的边缘位置，根据其检测结果，对光束入射到基板的入射位置进行控制。
曝光装置以及方法

[发明专利]承载量测定装置以及承载量测定方法-CN201880015134.7有效
发明人：高濑惠宏;中西英俊;水端稔 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-01-15 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： H01M4/88 文献下载
摘要：本发明提供一种能够高精度地进行金属催化剂的承载量测定的技术。承载量测定部(50)从振荡器(52)对在Y轴方向上搬运的基材(90)照射电磁波，并检测透射基材(90)后的电磁波的电场强度，由此测定催化剂层(92)中的金属催化剂的承载量。承载量测定部(50)具备：端部位置确定部(6050)，其确定催化剂层(92)的Y轴方向两侧的端部(92E、92E)的位置；以及承载量确定部(604)，其从由多个检测元件(540)检测出的电磁波的电场强度去除在端部位置处因电磁波衍射而产生的衍射电磁波的强度，确定催化剂层(92)中的每个透射位置处的承载量。
承载量测定装置以及方法

[发明专利]基板处理装置、基板保持装置及基板保持方法-CN201210158626.6有效
发明人： 水端稔 -专利权人：大日本网屏制造株式会社
申请日： 2012-05-16 - 公布日： 2013-01-30 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置、基板保持装置及基板保持方法，尤其涉及即使是弯曲的基板也能够以简单的结构可靠地保持的技术。对基板实施描画处理的描画装置(1)具有：保持板(11)，形成有与基板(W)的背面相向的保持面(111)；真空吸引口(12)，形成在保持面(111)上，通过真空吸引来将基板(W)吸引在保持面(111)上；多个伯努利吸引口(13)，形成在保持面(111)上，通过伯努利吸引来将基板(W)吸引在保持面(111)上。在保持面(111)上规定有配置成与该保持面(111)的中心同心的圆形区域(M1)和配置成与圆形区域同心的圆环状区域(M2)，并且在圆形区域和圆环状区域分别配置有伯努利吸引口。
处理装置保持方法

[发明专利]图形描绘装置-CN200510004307.X无效
发明人： 水端稔;小八木康幸;井上正雄 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2005-01-14 - 公布日： 2005-08-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种图形描绘装置(1)，包括：保持基板(9)的平台单元(3)；在X方向上移动平台单元(3)的平台移动机构(2)；水银灯(512)；具有光闸开口的光闸；具有多个掩模组开口的掩模组；在X方向上移动光闸的X方向移动机构，扫描通过了光闸开口和掩模组开口的光被引导到的光照射区域而描绘图形。在图形描绘装置(1)中，在图形的描绘开始点附近和描绘结束点附近，按照与平台单元(3)的移动速度相等的移动速度，在X方向上移动光闸，改变光照射区域的长度，调整图形的端部的累积光量，使之与图形上的其他部位的累积光量相等。
图形描绘装置

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