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[发明专利]光学器件的形成方法-CN202210325681.3在审
发明人： 殷霞革;冯霞;陈晓军;张冬生;吴家亨 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2022-03-30 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02B6/136 文献下载
摘要：一种光学器件的形成方法，包括：提供衬底，所述衬底包括耦合区；在所述衬底上形成第一介质层；在所述耦合区上的第一介质层内形成初始波导沟槽；在所述第一介质层表面和所述初始波导沟槽内形成图形化层，所述图形化层暴露出至少部分初始波导沟槽底部；以所述图形化层为掩膜，刻蚀所述第一介质层，以形成位于所述衬底上的波导结构，所述波导结构包括位于所述耦合区上的波导末端结构。所述半导体结构的形成方法提升了小尺寸波导的制成工艺稳定性，降低了光传播过程中的耦合损耗，提升了光传播效率。
光学器件形成方法

[发明专利]光模块结构及其形成方法-CN202210096654.3在审
发明人：吴家亨;曾红林;陈晓军;冯霞;殷霞革;张冬生 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2022-01-26 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G02B6/12 文献下载
摘要：一种光模块结构及其形成方法，其中结构包括：衬底，所述衬底包括相邻的第一区和第二区；位于所述第二区上的光电转换结构；位于所述第一区上的第一波导，所述第一波导投影于所述光电转换结构表面的投影面积大于零，且所述第一波导到所述光电转换结构的距离小于耦合距离。所述结构可以减少了传输损坏和回损，提升了光模块结构的性能，同时，可以减少对制造工艺的限制，有利于获得高性能的第一波导。
模块结构及其形成方法

[发明专利]光器件及光器件的形成方法-CN202111556559.9在审
发明人：冯霞;曾红林;陈晓军;吴家亨;殷霞革;张冬生 -专利权人：中芯国际集成电路制造（深圳）有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2021-12-17 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： H01S5/10 文献下载
摘要：一种光器件及光器件的形成方法，结构包括：衬底，所述衬底包括第一基底、位于第一基底上的埋氧层以及位于埋氧层上的第二基底；位于第二基底内的第一波导以及位于第一波导两侧的第一凹槽；位于第二基底内的第二波导以及位于第二波导两侧的第二凹槽，所述第二凹槽的深度大于第一凹槽的深度；位于第二基底内的第三波导以及位于第三波导两侧的第三凹槽，所述第三凹槽暴露出所述埋氧层表面，所述第三波导包括第三起始区，所述第三起始区在衬底表面的投影为三角形。所述结构能够有效减小回波损耗。
器件形成方法

[发明专利]光器件的形成方法-CN202111556569.2在审
发明人：冯霞;曾红林;陈晓军;吴家亨;殷霞革;张冬生 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2021-12-17 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： G02B6/13 文献下载
摘要：一种光器件的形成方法，包括：提供衬底，所述衬底包括第一基底、位于第一基底上的埋氧层以及位于埋氧层上的第二基底；在第二基底内形成初始第三波导以及对应的初始第三凹槽，初始第三波导包括初始第三起始区；在初始第三凹槽内和初始第三波导上形成第一介质层；去除部分第一介质层和部分初始第三波导，在第二基底内形成第三波导和对应的第三凹槽，第三波导包括第三起始区，所述第三起始区在衬底表面的投影面积小于所述初始第三起始区在所述衬底表面的投影面积。所形成的光器件能够有效减小回波损耗。
器件形成方法

[发明专利]光电探测器及其形成方法-CN202110670036.0在审
发明人：冯霞;曾红林;陈晓军;张冬生;殷霞革;吴家亨 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2021-06-17 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： H01L31/109 文献下载
摘要：本申请提供一种光电探测器及其形成方法，其中所述光电探测器包括：半导体衬底，所述半导体衬底表面形成有第一介质层；沟槽的第一部分，位于所述第一介质层中；沟槽的第二部分，位于所述沟槽的第一部分下方的部分所述第一介质层和所述半导体衬底中；光电材料层，位于所述沟槽的第二部分中并延伸至所述沟槽的第一部分中，且所述光电材料层的侧壁和所述沟槽的第一部分的侧壁不共面；第二介质层，位于所述第一介质层和所述光电材料层的表面并填满所述沟槽的第一部分。本申请技术方案的光电探测器及其形成方法能够避免在锗层表面填充介质层时的虚空现象。
光电探测器及其形成方法

[发明专利]半导体结构及其形成方法-CN202110523253.7在审
发明人：陈晓军;曾红林;冯霞;张冬生;殷霞革;吴家亨 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2021-05-13 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：一种半导体结构及其形成方法，其中形成方法包括：提供初始衬底，所述初始衬底包括第一区和第二区，所述初始衬底包括第一基底、位于第一基底上的第一绝缘层以及位于第一绝缘层上的第二基底；去除所述第二区的第二基底；在去除所述第二区的第二基底之后，在第二区的第一绝缘层上形成第二绝缘层；在第二绝缘层上形成若干无源器件；在形成无源器件之后，在第一区形成若干有源器件。通过将所述有源器件和所述无源器件形成在同一晶圆上，避免了采用封装集成的制程，有效降低了生产成本，同时使得最终形成的半导体结构厚度尺寸降低，有利于器件的小型化。
半导体结构及其形成方法

[发明专利]光学器件的结构及光学器件的形成方法-CN202110524525.5在审
发明人：冯霞;陈晓军;殷霞革;张冬生;吴家亨 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2021-05-13 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： H01S5/125 文献下载
摘要：一种光学器件的结构及光学器件的形成方法，方法包括：提供衬底；在衬底上形成反射结构，所述反射结构包括多层重叠的第一反射层和位于第一反射层上的第二反射层，所述第一反射层的折射率与第二反射层的折射率不同，所述第一反射层的材料包括无定形材料。所述方法形成的光学器件性能得到提升。
光学器件结构形成方法

[发明专利]半导体结构及其形成方法-CN202110259534.6在审
发明人：吴家亨;陈晓军;冯霞;张冬生;殷霞革 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2021-03-10 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： H01L31/103 文献下载
摘要：一种半导体结构及其形成方法，其中，半导体结构包括：衬底，所述衬底内具有相互分立的第一掺杂区和第二掺杂区，所述第一掺杂区内具有第一离子，所述第二掺杂区内具有第二离子，所述第一离子和所述第二离子的电学类型不同；位于所述衬底上的第一隔离层；位于所述第一隔离层和所述衬底内的第一开口，所述第一开口暴露出部分所述第一掺杂区和部分所述第二掺杂区；位于所述第一开口内的光吸收层；位于所述光吸收层的顶部表面的保护层。通过位于所述光吸收层的顶部表面上的保护层，能够有效防止所述光吸收层被氧化，降低了氧化物对所述光吸收层内部晶体结构的破坏，进而有效提升了最终形成的半导体结构的电学性能。
半导体结构及其形成方法

[发明专利]半导体结构及其形成方法-CN202110260919.4在审
发明人：冯霞;曾红林;陈晓军;吴家亨;殷霞革;张冬生 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2021-03-10 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： H01L31/103 文献下载
摘要：一种半导体结构及其形成方法，其中半导体结构包括：衬底，衬底内具有第一掺杂区和第二掺杂区；位于衬底上的隔离结构；位于隔离结构和衬底内的第一开口；位于第一开口内的光吸收层，且第一开口的顶部侧壁与光吸收层的顶部侧壁之间的间距大于零；位于隔离结构上的介质层，介质层覆盖光吸收层。通过位于隔离结构和衬底内的第一开口，且第一开口的顶部侧壁与光吸收层的顶部侧壁之间的间距大于零。使得光吸收层的顶部侧壁与第一开口的顶部侧壁之间的间距增大。在后续形成介质层时，使得介质层能够很好的填充到光吸收层和隔离结构之间，减少了缝隙问题的产生，有效提升了锗光电探测器的可靠性，使得最终形成的半导体结构的性能提升。
半导体结构及其形成方法

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