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[发明专利]防眩防反射部件的制造方法-CN201710684546.7在审
发明人：佐原启一;樱井武;金井敏正;池上耕司 -专利权人：日本电气硝子株式会社
申请日： 2013-08-28 - 公布日： 2017-12-15 - 主分类号： G02B1/118 文献下载
摘要：本发明提供一种防眩防反射部件的制造方法，该防眩防反射部件包括在表层具有凹凸结构的基材；和在上述凹凸结构上设置的防反射层；上述制造方法的特征在于在基材主体的表面上通过喷雾法涂覆透光性材料，由此形成具有凹凸结构的防眩层，在上述防眩层上通过使用溅射法形成防反射层。由本发明的上述制造方法制造的防眩防反射部件具有优异的视认性。
防眩防反射部件制造方法

[发明专利]玻璃膜输送装置-CN201380044982.8有效
发明人：玉垣浩;碇贺充;大庭尚树;樱井武 -专利权人：株式会社神户制钢所
申请日： 2013-07-19 - 公布日： 2017-07-14 - 主分类号： B65H18/08 文献下载
摘要：本发明提供一种在抑制玻璃膜的破损的情况下，将玻璃膜和保护片材重叠卷取的玻璃膜输送装置。玻璃膜输送装置（1a）具备从卷绕有玻璃膜的卷料送出该玻璃膜的放卷部（2），其中，在该玻璃膜上层叠有与该玻璃膜大致相同宽度的长保护片材；输送从放卷部（2）送出并从保护片材分离的玻璃膜的玻璃膜输送部（3）；一边在由玻璃膜输送部（3）输送的玻璃膜上层叠与玻璃膜大致相同宽度的长保护片材，一边卷取成卷状的卷取部（4）；以及搬出从放卷部（2）送出的玻璃膜分离的保护片材，并且，向卷取部（4）搬入保护片材的保护片材输送部（5a）。而且，玻璃膜输送装置（1a）具备调整卷取部（4）的保护片材以及玻璃膜的卷取状态的卷取调整机构。
玻璃输送装置

[发明专利]反射构件-CN201180024391.5无效
发明人： 樱井武 -专利权人：日本电气硝子株式会社
申请日： 2011-04-25 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明提供具备银反射膜且具有优异耐热性的反射构件。反射构件（1）具备反射构件主体（11）、银反射膜（13）和第一保护膜（15）。银反射膜（13）形成在反射构件主体（11）上。银反射膜（13）由银或含银合金构成。第一保护膜（15）形成在银反射膜上。第一保护膜（15）由Ti、Ta或Nb构成。
反射构件

[发明专利]电气元件封装体-CN201180024088.5无效
发明人：山崎康夫;白神彻;益田纪彰;樱井武;山崎博树 -专利权人：日本电气硝子株式会社
申请日： 2011-09-30 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： H05B33/04 文献下载
摘要：有机EL元件封装体(1)，其在内部空间气密密封有有机EL层(2)，所述有机EL元件封装体(1)具有：配置有有机EL层(2)的元件基板(3)、与元件基板(3)的有机EL层(2)侧的表面隔着间隔对置的密封基板(4)、按照包围有机EL层(2)的周围的方式对元件基板(3)和密封基板(4)之间的间隙进行气密密封的玻璃料(5)、以及配置于元件基板(3)和玻璃料(5)之间且用于保护电极不受熔接玻璃料(5)时所照射的激光的影响的保护膜。并且，保护膜例如为发挥用于反射激光的反射膜功能的介电体多层膜(8)，该介电体多层膜(8)由低折射率介电体层和高折射率介电体层交替层叠而成的层叠结构构成。
电气元件封装

[发明专利]宽波段反射镜-CN200980129874.4无效
发明人：金井敏正;樱井武 -专利权人：日本电气硝子株式会社
申请日： 2009-06-30 - 公布日： 2011-06-29 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明在于得到一种在波长400nm～2500nm的波段内具有高反射率且耐热性以及防刮性优异的宽波段反射镜。该宽波段反射镜(1)用于反射波长400nm～2500nm的波段的光，特征在于：具备使第1高折射率材料层和第1低折射率材料层交替叠层而得到的用于反射波长400nm～2500nm的波段中的靠短波长侧的波段的光的第1反射叠层膜(3)和使第2高折射率材料层和第2低折射率材料层交替叠层而得到的用于反射波长400nm～2500nm的波段中的靠长波长侧的波段的光的第2反射叠层膜(4)，第1反射叠层膜(3)设置于光的入射侧，第2反射叠层膜(4)设置于能够反射从第1反射叠层膜(3)透过的光的位置，且第1高折射率材料层由选自氧化铌、氧化钛、氧化锆、氧化钽、氧化铪、氮化硅、氧化钇和铟锡氧化物中的至少一种材料形成，第1低折射率材料层由选自氧化硅和氟化镁中的至少一种材料形成，第2高折射率材料层由选自硅和锗中的至少一种材料形成，第2低折射率材料层由选自氧化硅和氟化镁中的至少一种材料形成。
波段反射

[发明专利]电极催化剂和酶电极-CN200780032747.3有效
发明人：梶野勉;濑户山德彦;上村惠子;加藤久雄;加纳健司;辻村清也;樱井武;片冈邦重 -专利权人：丰田自动车株式会社;国立大学法人京都大学;国立大学法人金泽大学
申请日： 2007-09-05 - 公布日： 2009-09-09 - 主分类号： G01N27/327 文献下载
摘要：本发明提供含有电子传递效率高的氧化酶的新型电极催化剂，以及使用该电极催化剂的酶电极。电极催化剂含有CueO。酶电极具有碳多孔体、以及担载在上述碳多孔体表面的含有CueO的电极催化剂。CueO优选是来自大肠杆菌的CueO。构成酶电极的碳多孔体优选是炭黑凝胶。另外，酶电极还可以具有促进上述碳多孔体-上述CeuO之间的电子授受的介体。
电极催化剂

[发明专利]薄膜形成装置-CN200580026467.2无效
发明人：宋亦周;荒井彻治;千叶幸喜;樱井武;姜友松 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2005-08-05 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种薄膜形成装置，该薄膜形成装置能够使等离子中一定程度的比例的离子与薄膜接触来进行成膜。薄膜形成装置(1)具有：等离子发生单元(80)，其设在真空槽(11)的与所述开(11a)对应的位置，并在真空槽(11)内产生等离子；基板保持架(13)，其在真空槽(11)内保持基体；离子消灭单元(90)，其设在等离子发生单元(80)和基板保持架(13)之间。离子消灭单元(90)在从等离子发生单元(80)面向基板保持架(13)的方向上相对于等离子发生单元(80)遮蔽基板保持架(13)的面积，小于离子消灭单元(90)在从等离子发生单元(80)面向基板保持架(13)的方向上的剩余面积。
薄膜形成装置

[发明专利]薄膜的形成方法及其形成装置-CN200480014269.X有效
发明人：宋亦周;樱井武 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2004-06-02 - 公布日： 2006-06-28 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的薄膜形成方法具有光学特性调节工序，在控制用于保持基板的基板座(13)的运送速度的同时，在进行中间薄膜形成工序的区域和进行薄膜成分变换工序的区域之间反复运送上述基板座(13)，调节最终形成的薄膜的膜成分，形成具有产生迟滞现象的区域内的光学特性值的薄膜。
薄膜形成方法及其装置

[发明专利]薄膜形成装置和薄膜形成方法-CN200480014403.6有效
发明人：宋亦周;樱井武;村田尊则 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2004-05-31 - 公布日： 2006-06-28 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的薄膜形成装置(1)具有：把反应性气体导入到真空容器(11)内的气体导入单元；以及在真空容器(11)内产生反应性气体的等离子体的等离子体发生单元(61)。等离子体发生单元(61)构成为具有电介质壁(63)和涡状天线(65a、65b)。天线(65a、65b)相对于高频电源(69)并联连接，在与天线(65a、65b)的涡形成面的垂线相垂直的方向上以相邻的状态设置。
薄膜形成装置方法

[发明专利]薄膜形成装置及薄膜形成方法-CN03826575.3有效
发明人：宋亦周;樱井武;村田尊则 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2003-06-02 - 公布日： 2006-06-14 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的薄膜形成装置(1)包括：内部维持真空的真空容器(11)；将反应性气体导入真空容器(11)内的气体导入单元(76)；和在真空容器(11)内产生反应性气体的等离子体的等离子体发生单元(61)。并且，在真空容器(11)内的壁面上，涂敷有热分解氮化硼(P)。
薄膜形成装置方法

[发明专利]溅射装置及形成薄膜的方法-CN200410069717.8有效
发明人：宋亦周;樱井武;千叶幸喜 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2004-07-09 - 公布日： 2005-09-21 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供可以简单易行地制作具有所需膜厚分布的薄膜的溅射装置。该溅射装置中，在靶29a、29b和基板S之间设有膜厚修正板35和遮蔽板36。在与靶29a、29b和基板夹具13之间的领域不同的领域，面向基板13的领域(60)设有产生等离子体的等离子体发生装置80。膜厚修正板35中由沿基板公转轴方向接连设置的多个修正小片35a₁、35b₁等构成第1修正板35a和第2修正板35b。修正小片(35a₁等)和修正小片(35b₁等)沿所述基板S公转的轨迹在所述靶29a、29b上的投影的投影轨迹方向以一定的间隔距离设置。其中配有驱动修正小片(35a₁和35b₁等)沿所述投影轨迹方向移动的驱动装置(71a、71b等)。
溅射装置形成薄膜方法

[发明专利]薄膜的制造方法及溅射装置-CN200310113060.6有效
发明人：宋亦周;樱井武 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2003-12-25 - 公布日： 2004-10-13 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供简单易行的制造膜厚倾斜程度大的薄膜的薄膜制造方法及溅射装置。该方法通过使真空室11内的成膜工序区20、40和反应工序区60在空间上相互分离并通过溅射形成薄膜。在中间薄膜形成工序形成由不完全反应物形成的中间薄膜。该中间薄膜形成工序中，在基板S和靶29a、29b、49a、49b之间设有使形成的薄膜膜厚均匀的修正板35和使形成的薄膜具备对应基板S形成薄膜的面的所需膜厚分布的屏蔽板36，在基板S相对修正板35和屏蔽板36移动的同时形成中间薄膜。在形成最终薄膜的膜组成转化工序中，在反应工序区60使中间薄膜和反应性气体的活性基反应，使最终薄膜的膜厚与中间薄膜的膜厚相比有所增加。
薄膜制造方法溅射装置

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