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[发明专利]洗净水供给装置-CN201880024560.7有效
发明人： 森田博志;颜畅子 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2018-03-20 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：洗净水供给装置，其包括：超纯水线路(1)，其以定量流通超纯水；制造部(2)，其在该超纯水线路定量添加溶质，来制造洗净水；洗净水线路(3)，其用于流通洗净水；洗净机(5A～5N)，其由该洗净水线路(3)供给洗净水；溶质去除部(4)，其由洗净水线路(3)导入剩余的洗净水；及回收线路(6)，其用于将溶质已被去除的回收水送回至槽等。
洗净供给装置

[发明专利]洗净水供给装置-CN201880024524.0有效
发明人： 森田博志;颜畅子 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2018-03-20 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：洗净水供给装置，其具有：超纯水线路(1)，其以定量流通超纯水；制造部(2)，其在该超纯水线路定量添加溶质来制造洗净水；洗净水的贮留槽(4)；洗净机(5A～5N)，其由贮留槽(4)供给洗净水；及，控制器(2a)，其以贮留槽(4)内的水位成为预定范围的方式控制洗净水制造部(2)。
洗净供给装置

[发明专利]过氧化氢去除方法及装置-CN201880065236.X有效
发明人： 森田博志;港康晴 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2018-09-12 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： C02F1/58 文献下载
摘要：在向铂系催化剂填充管柱(21～25)中通入含过氧化氢的水并分解去除过氧化氢的方法及装置中，通过在规定时间内停止对一部分管柱的通水，并将该管柱内的铂系催化剂保存在超纯水中，而使过氧化氢去除性能恢复。在该规定时间内，可向已停止该通水的管柱中流入氮气或氢溶解水，也可增加向其它管柱中的通水量。
过氧化氢去除方法装置

[发明专利]水处理装置的运转方法-CN201780082243.6在审
发明人： 森田博志 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2017-09-08 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： C02F1/00 文献下载
摘要：一种水处理装置的运转方法，其是将具有并列设置的多个同种且同处理容量的水处理器的水处理装置进行运转的方法，对各水处理器通以相同的被处理水并将处理水进行采水；所述水处理装置的运转方法的特征在于，使对于一部分的水处理器A的通水较对于其他水处理器B的通水为高负荷，在该水处理器A的处理水发生水质恶化的情况下，根据至此为止的对于水处理器A的累积负荷来预测水处理器B的寿命，并基于此预测结果，控制以后对于各水处理器的通水量及通水时间。
水处理器水处理装置通水运转处理水被处理水并列设置处理容量预测结果高负荷通水量采水水质预测恶化

[发明专利]臭氧气体溶解水的制造方法及电子材料的洗净方法-CN201380057522.9有效
发明人：床嶋裕人;森田博志 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2013-10-10 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：制造出溶存臭氧气体浓度高，而且氧气在使用场所中的气泡化被抑制的臭氧气体溶解水。使用所制造出的臭氧气体溶解水，回避因气泡所引起的洗净不均匀或机器破损的故障而有效率地洗净电子材料。在将臭氧气体及氧气的混合气体和脱气处理水供给至臭氧溶解部使该混合气体溶解于该供水而制造出臭氧气体溶解水时，对供给至臭氧溶解部的混合气体量进行控制，以使在假设混合气体中的臭氧全部分解为氧时的该混合气体中的氧气量和供水中的溶存氧气量的合计，成为所获得的臭氧气体溶解水的使用条件下的氧气的饱和溶解度以下。
臭氧气体溶解制造方法电子材料洗净

[发明专利]金属污染防止剂、金属污染防止膜、金属污染防止方法及制品清洗方法-CN201680041101.0在审
发明人： 森田博志;加藤俊正;星重行 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2016-09-12 - 公布日： 2018-03-23 - 主分类号： C02F1/42 文献下载
摘要：本发明提供一种金属污染防止剂，其含有分子量10万以上的聚苯乙烯磺酸等具有离子交换基的聚合物，其可减少产品清洗用的超纯水中微量金属的附着性，抑制清洗对象的金属污染。该具有离子交换基的聚合物是以离子交换反应吸附超纯水中的微量金属而抑制其附着于制品。本发明还提供一种用添加有该金属污染防止剂的超纯水清洗制品的制品清洗方法。优选为使添加有金属污染防止剂的超纯水流过分离膜组件，用膜透过水清洗制品。
金属污染防止方法制品清洗

[发明专利]氧化剂浓度的测定方法及测定装置以及电子材料洗净装置-CN201680002983.X在审
发明人： 森田博志;小川祐一;佐佐木友野 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2016-01-06 - 公布日： 2017-08-18 - 主分类号： G01N31/00 文献下载
摘要：不受金属等混入杂质影响，而简便且稳定地准确测定电子材料的洗净工序中使用的氧化性洗净液中的氧化剂浓度。一种氧化剂浓度的测定方法，其在测定用作电子材料洗净工序的洗净液的试样液中的氧化剂浓度时，使试样液中的氧化剂的至少一部分通过加热等而分解，测定因氧化剂的分解而产生的氧气的释放量，基于该测定值求出试样液的氧化剂浓度。
氧化剂浓度测定方法装置以及电子材料洗净

[发明专利]硅晶片清洁方法和硅晶片清洁装置-CN201180055008.2有效
发明人：中马高明;川胜孝博;北见胜信;森田博志 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2011-11-11 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：将通过清洗液清洗过的硅晶片用碳酸水进行漂洗。根据该硅晶片清洁方法，不存在通过漂洗处理发生静电而发生静电破坏的情形、或者在清洗后的硅晶片表面上通过静电附着垃圾的情形，能够防止硅晶片附着漂洗处理时的金属杂质，并且，能够进行使用在考虑到成本的同时进而没有产生残渣的顾虑的干净的漂洗液的漂洗处理。
晶片清洁方法装置

[发明专利]超纯水制造装置-CN201480048799.X在审
发明人：福井长雄;森田博志;田中洋一;饭野秀章;山田聪 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2014-09-30 - 公布日： 2016-04-20 - 主分类号： C02F1/44 文献下载
摘要：本发明提供一种可稳定地制造微粒经高度去除的高水质的超纯水的超纯水制造装置。本发明的超纯水制造装置，其具有从一次纯水制造超纯水的次系统，在该次系统的最终段中设置有膜装置，其特征在于，该膜装置是以串联的方式设置有多段，并且，第1段的膜装置为UF膜装置、MF膜装置或RO膜装置，最终段的膜装置为UF膜装置或未经离子交换基修饰的MF膜装置。
超纯水制造装置

[发明专利]清洗方法-CN201010609161.2无效
发明人：床嶋裕人;森田博志 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2010-12-23 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明通过由气体溶解水进行的高压喷射清洗或二流体清洗得到高清洗效果，从而提供一种低成本且节省资源的清洗方法。本发明的清洗方法，是从清洗流体喷嘴向被清洗物喷出清洗液或清洗液与气体的混合流体，从而清洗该被清洗物的高压喷射清洗或二流体清洗方法，其特征在于，导入该清洗流体喷嘴的清洗液，含有在该清洗液的液温下的饱和溶解度以上的溶解气体。
清洗方法

[发明专利]溶气水供给系统-CN200980110111.5无效
发明人：床岛裕人;森田博志;龟谷茂二 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2009-03-13 - 公布日： 2011-02-09 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本发明提供可以高效率地制造高浓度的溶气水、并将其循环供给使用地点的溶气水供给系统。用溶有气体(氧)的水清洗被清洗物后的废水(清洗废水)经由配管15积存在贮留槽1中，再经由补给水配管1a向贮留槽1中供给补给水。贮留槽1内的水经由压送泵2和用于保持水温恒定的热交换器3输送到纯化装置4中。通过纯化装置4除去了杂质的水经由流量计5输送到脱气装置6中。之后，通过气体溶解装置7溶解气体，添加药品后供给使用地点。
溶气水供给系统

[发明专利]超纯水制造方法和装置以及电子部件构件类的清洗方法和装置-CN200880114797.0无效
发明人：福井长雄;森部隆行;堀田等;森田博志 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2008-11-04 - 公布日： 2011-01-05 - 主分类号： C02F1/42 文献下载
摘要：本发明提供能稳定地制造硼浓度为1ng/L以下或金属浓度为0.1ng/L以下的超纯水制造装置、使用该超纯水制造装置的超纯水制造方法、电子部件构件类的清洗方法和清洗装置。超纯水制造装置，其中设置有具备阴离子交换树脂和阳离子交换树脂的混床式脱离装置16作为最后段的脱离子装置，作为该阴离子交换树脂，使用确认硼含量为50μg/L-阴离子交换树脂(湿润状态)以下的阴离子交换树脂或者阳离子洗脱量为100μg/L-阴离子交换树脂(湿润状态)的阴离子交换树脂。
超纯水制造方法装置以及电子部件构件清洗

[发明专利]清洗用液体、清洗方法、液体产生装置、曝光装置、以及器件制造方法-CN200780049273.3无效
发明人：长坂博之;森田博志;床嶋裕人 -专利权人：株式会社尼康;栗田工业株式会社
申请日： 2007-12-04 - 公布日： 2009-11-04 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供清洗用液体、清洗方法、液体产生装置、曝光装置以及器件制造方法。曝光装置借助曝光用液体利用曝光光对基板进行曝光。为了清洗曝光装置的至少一部分，将清洗用液体供给到曝光装置。清洗用液体中溶解了饱和浓度以上的规定气体。
清洗液体方法产生装置曝光以及器件制造

[发明专利]基板处理装置及其板处理方法-CN200780033165.7有效
发明人：永井达夫;森田博志;高桥弘明;内田博章;林豊秀 -专利权人：栗田工业株式会社;大日本网屏制造株式会社
申请日： 2007-09-05 - 公布日： 2009-08-19 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种能够从基板很好地去除抗蚀剂，并且能够再利用在该抗蚀剂的去除中使用过的处理液的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具有：基板保持装置，其用于保持基板；过硫酸生成装置，其使用硫酸生成过硫酸；混合装置，其对通过所述过硫酸生成装置生成的过硫酸以及与由所述过硫酸生成装置使用的硫酸相比更高温并且更高浓度的硫酸加以混合；以及喷出装置，其将通过所述混合装置混合的过硫酸和硫酸的混合液作为从基板去除抗蚀剂用的处理液，并向保持在所述基板保持装置的基板喷出。
处理装置及其方法

[发明专利]气体溶解洗涤水的制造方法、制造装置和洗涤装置-CN200780008420.2有效
发明人： 森田博志;床岛裕人 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2007-03-12 - 公布日： 2009-04-01 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明涉及一种将特定气体溶解于水中的气体溶解洗涤水的制造方法，其特征在于在超过大气压的加压下，将特定气体溶解于水中，形成大气压下的溶解度以上的浓度的气体溶解水，接着减小气体溶解水的压力，去除溶解气体的一部分；一种气体溶解洗涤水的制造装置，该装置包括气体溶解装置(14)，其在超过大气压的加压下将特定气体溶解于水中；气体部分去除装置(15)，其将来自气体溶解装置的气体溶解水减小到低于气体溶解时的压力，去除溶解气体的一部分；采用该气体溶解洗涤水的洗涤装置。不采用真空泵等的减压机构，可安全地制造所需的气体浓度的气体溶解洗涤水，可再利用使用完的气体溶解洗涤水的水和特定气体，可适用于必须要求高度的清洁度的电子部件等的洗涤。
气体溶解洗涤制造方法装置

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