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[发明专利]压舱水处理系统的远程监视装置及其远程监视方法-CN201380017272.6有效
发明人：福泽耕太郎;古贺哲雄;林一树;深濑哲朗 -专利权人： 栗田工业株式会社
申请日： 2013-02-27 - 公布日： 2016-11-16 - 主分类号： B63B13/00 文献下载
摘要：将通过各种传感器检测到的船舶(21)的压舱水处理系统(22)的状况传输于具有数据存储传送装置的控制装置(23)，由此对其进行监视。该控制装置(23)从卫星通信装置(24)经由通信卫星(26)向接受方侧的卫星通信装置(27)发送信息，主计算机(28)接受该信息。接着，该主计算机(28)中，分析并监视各种传感器S1～S6的信息，并回复最佳的运转状况。在船舶(21)侧，经由通信卫星(26)通过卫星通信装置(24)接受信息，控制装置(23)中基于该主计算机(28)的指示，维持压舱水处理系统(22)的运转。根据上述的压舱水处理系统的远程监视装置，能够远程监视并控制压舱水处理系统。
水处理系统远程监视装置及其方法

[发明专利]有机性排水的生物处理装置以及处理方法-CN201580013661.0在审
发明人：中野吉雅;铃木雅和;中根圭介;小西日善;田中一平;清水哲 -专利权人： 栗田工业株式会社
申请日： 2015-03-11 - 公布日： 2016-11-09 - 主分类号： C02F3/12 文献下载
摘要：本发明提供一种施工容易，并且能够实现高空作业的降低和省空间化的有机性排水的生物处理装置。所述装置是在设置为多级的生物处理槽中对有机性排水进行生物处理的装置，在第一级生物处理槽(1)中，通过采用分散菌的有机物的分解，生成分散菌增加了的第一生物处理水，在后级的第二生物处理槽(2)中，分散菌被微小动物捕食。第一生物处理槽(1)和第二生物处理槽(2)为具有相同形状和相同大小的塔体(10、20)，塔体的高度为6～11m，塔体的高度与直径的比为1.5～5.0。
有机排水生物处理装置以及方法

[发明专利]锂离子电池以及使用该锂离子电池的电子设备-CN201480076959.1在审
发明人：野末满 -专利权人： 栗田工业株式会社
申请日： 2014-06-11 - 公布日： 2016-11-02 - 主分类号： H01M10/0525 文献下载
摘要：非水系电解液型锂离子电池(E)具有正极端子(1)以及负极端子(2)和电池壳体(3)，在电池壳体(3)的内部收纳有电极体(10)。电极体(10)具有正极集电体(11)以及正极用电极板(12)和负极集电体(13)以及负极用电极板(14)，正极用电极板(12)和负极用电极板(14)分别具有通过隔膜(15)层叠的结构。在所述锂离子电池(E)的电池壳体(3)内设置CO和CO₂吸附材料。作为所述吸附材料，可使用LSX型、X型或者A型的沸石。特别地，在即使气体吸收材料吸收水分，气体吸收性能降低也能再生的点上，优选进行了Ca离子交换的A型的沸石。通过本发明的锂离子电池，能缓和与异常时、长时间的使用时由在电池内部产生的CO、CO₂等气体成分导致的内压上升相伴的气密容器的变形。
锂离子电池以及使用电子设备

[发明专利]有机性排水的生物处理方法和生物处理装置-CN201580011854.2在审
发明人：藤岛繁树 -专利权人： 栗田工业株式会社
申请日： 2015-07-01 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： C02F3/12 文献下载
摘要：提高间歇式活性污泥法中污泥的沉降性，进行有效处理。具有设置为串联两级的第一生物处理槽及第二生物处理槽的生物处理装置，进行重复下述工序(1)～(6)的间歇式运转。(1)将有机性排水导入第一生物处理槽；(2)停止导入，在第一生物处理槽内进行曝气，利用细菌的生物处理将有机物转换为分散菌；(3)停止曝气，将包含分散菌的第一生物处理水导入第二生物处理槽；(4)停止导入，在第二生物处理槽内进行曝气，使微小动物捕食分散菌；(5)停止曝气，在第二生物处理槽内沉降槽内污泥；(6)排出上清水。
有机排水生物处理方法装置

[发明专利]涡轮机设备和加热器排水的水处理方法-CN201380010791.X有效
发明人：岩崎守;长尾信明;椿崎仙市;高田政治 -专利权人： 栗田工业株式会社;三菱日立电力系统株式会社
申请日： 2013-02-19 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： F22D11/00 文献下载
摘要：本发明提供一种涡轮机设备和涡轮机设备的加热器排水的水处理方法，其能将附着于锅炉管的内面而造成传热阻碍的铁氧化物粒子锈从加热器排水效率良好地除去。本发明的涡轮机设备，具备：锅炉(9)、蒸气涡轮机(12、16)、复水器(1)、供水加热器(5、8)及过滤器(19)；供水加热器(5，8)，介设于将经由该复水器(1)凝结后的复水送给至锅炉(9)的供水管路(4、6)上，将从前述蒸气涡轮机(12)送给至再热器的蒸气的一部分作为抽气而抽出，使用该抽气将前述供水加热；过滤器(19)，将低压供水加热器(5)所排出的加热器排水过滤后送给至前述供水系统而回收。该过滤器(19)具有孔径1～5μm的过滤器。
涡轮机设备加热器排水水处理方法

[发明专利]硅晶片清洁方法和硅晶片清洁装置-CN201180055008.2有效
发明人：中马高明;川胜孝博;北见胜信;森田博志 -专利权人： 栗田工业株式会社
申请日： 2011-11-11 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：将通过清洗液清洗过的硅晶片用碳酸水进行漂洗。根据该硅晶片清洁方法，不存在通过漂洗处理发生静电而发生静电破坏的情形、或者在清洗后的硅晶片表面上通过静电附着垃圾的情形，能够防止硅晶片附着漂洗处理时的金属杂质，并且，能够进行使用在考虑到成本的同时进而没有产生残渣的顾虑的干净的漂洗液的漂洗处理。
晶片清洁方法装置

[发明专利]半导体基板的清洗方法以及清洗系统-CN201380043869.8有效
发明人：小川祐一;山川晴义 -专利权人： 栗田工业株式会社
申请日： 2013-08-19 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：实现对于至少露出一部分TiN的经硅化处理后的半导体基板(100)进行有效的清洗，而不会损伤TiN或硅化层。对于至少露出一部分TiN的经硅化处理后的半导体基板进行清洗时，具有以下工序：过硫酸生成工序，该过硫酸生成工序将清洗用硫酸溶液流通至电解部(2)，并使之循环，通过在所述电解部(2)发生的电解反应，生成规定浓度的过硫酸；溶液混合工序，该溶液混合工序将过硫酸生成工序中获得的含有过硫酸的硫酸溶液和含有一种以上的卤化物离子的卤化物溶液在不流通至电解部(2)的状态下进行混合，混合后生成含有过硫酸的氧化剂浓度为0.001～2mol/L的混合溶液；加热工序，该加热工序对混合溶液进行加热；以及清洗工序，该清洗工序运送加热后的混合溶液，使之接触半导体基板(100)并进行清洗。
半导体清洗方法以及系统

[发明专利]蒸气产生设备的垢去除方法和垢去除剂-CN201580008475.8在审
发明人：酒井瑞之;志村幸祐 -专利权人： 栗田工业株式会社
申请日： 2015-01-26 - 公布日： 2016-09-28 - 主分类号： C02F5/10 文献下载
摘要：本发明提供一种垢去除方法以及垢去除剂，其是在蒸气产生设备中，不会腐蚀锅炉，并且能以经济上可容许的添加量有效地去除附着于锅炉罐内等的垢，特别是在以包含高浓度的铁的给水运转的蒸气产生设备中，也可有效地去除附着于锅炉罐内的垢。在去除附着于蒸气产生设备的系统内的垢的垢去除方法中，在给水中添加重均分子量超过20000且为170000以下的聚丙烯酸和/或聚丙烯酸盐。当给水包含铁时，进一步并用添加重均分子量超过1000且为100000以下的聚甲基丙烯酸和/或聚甲基丙烯酸盐。
蒸气产生设备去除方法

[发明专利]酸性气体及重金属的复合处理剂、以及酸性气体及重金属的处理方法-CN201510980216.3在审
发明人：山崎武志;益子光博 -专利权人： 栗田工业株式会社
申请日： 2015-12-23 - 公布日： 2016-09-14 - 主分类号： B01D53/50 文献下载
摘要：本发明涉及酸性气体及重金属的复合处理剂、以及酸性气体及重金属的处理方法，其能够在宽泛的添加量范围内充分降低飞灰中的碱度，从而解决由伴随废弃物的性质变化而产生的酸性气体处理剂的过量和不足引起的后段的飞灰处理工序的问题。本发明的酸性气体及重金属的复合处理剂包含粉末与选自氯化物、硫酸盐及氢氧化物中的1种以上化合物的混合物，其中，该粉末含有氢氧化钙且比表面积为20m²/g以上、中值粒径(d50)小于30μm。从原材料稳定性、配混稳定性均优异的方面考虑，氯化物优选为氯化铜，硫酸盐优选为硫酸镁、含硫酸盐的氢氧化铝、硫酸锌或硫酸铜，氢氧化物优选为氢氧化镁、氢氧化铝、氢氧化铁、氢氧化亚铁、氢氧化锌或氢氧化铜。
酸性气体重金属复合处理以及方法

[实用新型]生物处理用载体和生物处理槽-CN201620218968.6有效
发明人：藤岛繁树 -专利权人： 栗田工业株式会社
申请日： 2016-03-21 - 公布日： 2016-08-17 - 主分类号： C02F3/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种生物处理用载体以及具有该生物处理用载体的生物处理槽，所述生物处理用载体能够提高对保持微生物有效的可挠性片状载体的强度，即使进行曝气洗涤也能够不损坏载体且稳定地保持微生物。为此，在片材(1)的侧边部、上边部以及下边部分别缝合布制的加强材(3)、(5)。设置板状体(7)以夹持加强材(5)。在两侧设置隔流板(13)以形成载体单元(10)，并将所述载体单元(10)配置在槽体(20)内。
生物处理载体

[发明专利]含锆添加剂组合物的用途-CN201580003518.3在审
发明人：王荣彪;J·施泰因;R·伦克海默;M·诺伊曼 -专利权人： 栗田工业株式会社
申请日： 2015-01-09 - 公布日： 2016-08-17 - 主分类号： D21H17/28 文献下载
摘要：本发明涉及水溶液或分散体形式的添加剂组合物作为淀粉胶中的添加剂的用途，所述添加剂组合物具有相对于所述添加剂组合物的总重量在5至75wt％范围内的固体含量，所述添加剂组合物根据由以下步骤组成的方法获得：在含水介质中混合组分a)和b)，其中组分a)选自碳酸锆钠、碳酸锆钾、碳酸锆铵及它们的混合物，组分b)选自至少一种正磷酸盐、至少一种缩合磷酸盐、它们的盐和混合物。
添加剂组合用途

[发明专利]使用杀生物剂用于处理工业水循环的方法-CN201480068475.2在审
发明人： J·霍夫;P·迪特曼;F·拉尔夫 -专利权人： 栗田工业株式会社
申请日： 2014-12-15 - 公布日： 2016-08-03 - 主分类号： C02F1/76 文献下载
摘要：本发明涉及工业水循环(特别是纸制造中的工业水循环)的处理方法，其中碱金属亚氯酸盐添加至含有卤胺(其作为氧化性杀生物剂或杀生物剂系统)的水循环中。本发明还涉及用于处理工业水循环的试剂，该试剂包含卤胺(产生自例如溴化铵和次氯酸钠)作为氧化性杀生物剂或杀生物剂系统和碱金属亚氯酸盐(如NaClO₂)；以及涉及碱金属亚氯酸盐作为添加剂处理工业废水体系的用途，该工业废水体系含有卤胺作为氧化性杀生物剂或杀生物剂系统。
使用杀生用于处理工业水循环方法

[发明专利]超纯水制造装置-CN201480048799.X在审
发明人：福井长雄;森田博志;田中洋一;饭野秀章;山田聪 -专利权人： 栗田工业株式会社
申请日： 2014-09-30 - 公布日： 2016-04-20 - 主分类号： C02F1/44 文献下载
摘要：本发明提供一种可稳定地制造微粒经高度去除的高水质的超纯水的超纯水制造装置。本发明的超纯水制造装置，其具有从一次纯水制造超纯水的次系统，在该次系统的最终段中设置有膜装置，其特征在于，该膜装置是以串联的方式设置有多段，并且，第1段的膜装置为UF膜装置、MF膜装置或RO膜装置，最终段的膜装置为UF膜装置或未经离子交换基修饰的MF膜装置。
超纯水制造装置

[发明专利]纯水制造方法及纯水制造装置-CN201510473701.1在审
发明人：小林秀树 -专利权人： 栗田工业株式会社
申请日： 2009-03-13 - 公布日： 2016-01-06 - 主分类号： C02F9/08 文献下载
摘要：本发明提供一种在用二次纯水制造装置及三次纯水制造装置对一次纯水进行精制而制造纯水时，极力抑制过氧化氢的生成，制造将TOC、DO、过氧化氢浓度减少至极限的高纯度超纯水。超纯水制造系统在二次纯水制造装置及三次纯水制造装置上分别具有紫外线氧化部件及位于其后段的利用离子交换树脂的去离子部件。进行UV调光使得二次纯水制造装置的紫外线氧化装置出口的过氧化氢浓度为1～30μg/L、TOC浓度为1～10μg/L，且使三次纯水制造装置的紫外线氧化装置出口的TOC浓度为0.1～5μg/L。进行UV调光使得二次纯水制造装置的紫外线氧化装置出口的TOC浓度为1～10μg/L，且使三次纯水制造装置的紫外线氧化装置出口的过氧化氢浓度为1～20μg/L、TOC浓度为0.1～5μg/L。
纯水制造方法装置

[发明专利]苛化泥的脱水助剂、以及使用其的苛化泥的脱水方法-CN201480023030.2有效
发明人：山本英男;贺川泰裕 -专利权人： 栗田工业株式会社
申请日： 2014-04-03 - 公布日： 2015-12-09 - 主分类号： C02F11/14 文献下载
摘要：本发明提供能够对包含碳酸钙的泥状物效率良好地进行脱水的苛化泥的脱水助剂，其为包含下述通式(1)所表示的聚氧亚乙基聚氧亚丙基烷基醚的苛化泥的脱水助剂。R¹O〔CH₂CH(CH₃)O〕_m〔CH₂CH₂O〕_nH…(1)(式中的R¹表示碳原子数10～18的直链和/或支链烷基，m表示1～10的整数，n表示1～10的整数)。
苛化泥脱水助剂以及使用方法