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[发明专利]复合膜、模具、复合膜制备方法、背光模组及显示装置-CN202310601917.6在审
发明人：杨抗;韩尚;衡德鹏;张长栓 -专利权人：江苏弘德光电材料科技有限公司
申请日： 2023-05-26 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： B32B27/36 文献下载
摘要：本发明公开了复合膜、模具、复合膜制备方法、背光模组及显示装置，涉及光学技术领域。其中，该复合膜，包括：第一结构层膜；雾化层，设置于所述第一结构层膜的下表面；及第二结构层膜，设置于远离所述第一结构层膜一侧的所述雾化层上；所述雾化层由若干个不规则单元构成，其中，所述不规则单元为宽度及深度不一的微结构。本发明，解决由于贴合胶中粒子雾度范围在15%~60%，雾度提高需粒子比例增大，导致粒子易团聚，外观良率差，并带来贴合后剥离力较弱的缺点，同时产品对生产工艺要求高，产出率低，人工及材料使用成本较大的问题。
复合模具制备方法背光模组显示装置

[实用新型]一种高色域光学膜片组-CN202222833625.9有效
发明人：杨抗;韩尚;张长栓;宁召;何海君 -专利权人：江苏弘德光电材料科技有限公司
申请日： 2022-10-26 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高色域光学膜片组，包括第一光学膜，所述第一光学膜包括上扩散层以及透明聚酯膜层，所述透明聚酯膜层与上扩散层的下表面固定粘合；第二光学膜，所述第二光学膜包括棱镜层以及透明聚酯膜层，所述棱镜层的下表面与透明聚酯膜层固定粘合；第三光学膜，所述第三光学膜与第二光学膜的结构相同；所述第一光学膜、第二光学膜以及第三光学膜之间自上而下依次粘合固定，所述透明聚酯膜层和/或棱镜层内设置有高色域添加层。本实用新型有效提高液晶显示模组的色域，改善LED背光模组的显示效果。
一种高色域光学膜片

[发明专利]一种聚焦环及晶边刻蚀装置-CN202211537852.5在审
发明人：杨抗 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2022-12-01 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本公开提供了一种聚焦环，所述聚焦环，用于对晶圆进行限位，所述聚焦环的第一表面具有环形凹槽，其中，所述第一表面至少部分位于所述晶圆的边缘区域的下方。本发明改善了晶圆的边缘刻蚀的均匀性；有效地解决晶圆边缘斜面剥离等问题，大大提高了产品的良率。
一种聚焦刻蚀装置

[实用新型]一种配合光折射应用的光学膜-CN202222791640.1有效
发明人：张长栓;杨抗;韩尚;宁召;何海君 -专利权人：江苏弘德光电材料科技有限公司
申请日： 2022-10-21 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： G02B5/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种配合光折射应用的光学膜，包括微透镜层，所述微透镜层包括基材涂布胶水层以及透镜结构层，所述基材涂布胶水层上表面与透镜结构层下表面固定粘连；所述扩散层一包括与基材涂布胶水层下表面粘连贴合的扩散微珠层以及核心基材层，所述核心基材层远离扩散微珠层的一侧粘连贴合有滤蓝光背涂涂层；所述匀光层一包括匀光基材层以及匀光结构层，所述滤蓝光背涂涂层上背离核心基材层的一侧与匀光结构层相连接；所述匀光层二与匀光层一结构相同，且与匀光层一固定粘连；所述扩散层二与扩散层一结构相同，且所述扩散层二与匀光层二下表面固定粘连。本实用新型实现温室内光线对农作物的集中精准照射，保证农作物所需的光照量。
一种配合折射应用光学

[发明专利]气体流量控制方法及装置、电子设备和存储介质-CN202211262063.5在审
发明人：陈三城;邱世清;杨抗 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开是关于一种气体流量控制方法及装置、电子设备以及计算机可读存储介质，涉及半导体生产与制造技术领域，可以应用于半导体制程中氮气相关机台的使用场景。该方法包括：响应于待加工产品到达目标装载口的产品到达事件，确定待加工产品对应的待加工生产批次；获取机台配置参数；机台配置参数包括机台装载口中至少一生产批次对应的气体流量预测值；从机台配置参数中确定到达目标装载口的待加工生产批次对应的目标流量预测值；根据目标流量预测值，控制机台向到达目标装载口的待加工产品吹扫气体。本公开可以自动配置机台装载口的气体吹扫量，无需人为提前设定，实现了机台吹扫气体的自动化控制，可以有效缩短制程时间，并提高产品良率。
气体流量控制方法装置电子设备存储介质

[实用新型]一种实现背光模组高亮匀光效果的分光膜结构-CN202222746491.7有效
发明人：韩尚;宁召;何海君;杨抗;张长栓 -专利权人：江苏弘德光电材料科技有限公司
申请日： 2022-10-18 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： G02F1/13357 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种实现背光模组高亮匀光效果的分光膜结构，包括扩散荧光层，扩散荧光层包括基材涂布荧光胶水层和扩散微珠层，扩散微珠层与基材涂布荧光胶水层的一侧表面粘合连接；核心基材层，核心基材层的一侧表面与基材涂布荧光胶水层的另一侧表面粘合连接；滤蓝光背涂层，滤蓝光背涂层设置在核心基材层的另一侧表面；匀光膜层，匀光膜层与滤蓝光背涂层连接；本方案通过匀光膜层初步将光源均匀化，再通过滤蓝光背涂层将高能有害蓝光进行吸收，核心基材层将光源按照电磁波振动方向分为P光和S光，过滤的蓝光透射到扩散荧光层激发荧光粉完成蓝光到白光的转换，同时扩散微珠层将光线折射散化后进一步匀光，起到增大视角的作用。
一种实现背光模组高亮匀光效果分光膜结构

[实用新型]一种分光膜结构-CN202223220934.5有效
发明人：韩尚;杨抗;宁召;何海君;金小平 -专利权人：江苏弘德光电材料科技有限公司
申请日： 2022-12-02 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： G02B5/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种分光膜结构，所述分光膜包括基材层；还包括第一结构层，所述第一结构层包括分布在所述基材层的第一表面上的若干个凸起的锥形结构，且锥形结构的锥顶点与锥体投影面的中心点上下对应；还包括第二结构层，所述第二结构层包括分布在所述基材层的第二表面上的若干个凸起的棱镜结构；本方案设计的一种分光膜结构，光由入光面射入，先经过第一结构层中的棱镜结构，通过棱镜结构作用使光呈垂直于棱镜结构面方向折射，再穿过基材层，最后经过第二结构层的锥形结构，通过锥形结构多个相同的锥面进行折射分光，将集束光线散化分光，起到分光功能。
一种分光膜结构

[发明专利]实现背光模组高亮匀光效果的分光膜结构及制作方法-CN202211272421.0在审
发明人：韩尚;宁召;何海君;杨抗;张长栓 -专利权人：江苏弘德光电材料科技有限公司
申请日： 2022-10-18 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： G02F1/13357 文献下载
摘要：本发明公开了一种实现背光模组高亮匀光效果的分光膜结构及制作方法，包括扩散荧光层，扩散荧光层包括基材涂布荧光胶水层和扩散微珠层，扩散微珠层与基材涂布荧光胶水层的一侧表面粘合连接；核心基材层，核心基材层的一侧表面与基材涂布荧光胶水层的另一侧表面粘合连接；滤蓝光背涂层，滤蓝光背涂层设置在核心基材层的另一侧表面；匀光膜层，匀光膜层与滤蓝光背涂层连接；本方案通过匀光膜层初步将光源均匀化，再通过滤蓝光背涂层将高能有害蓝光进行吸收，核心基材层将光源按照电磁波振动方向分为P光和S光，过滤的蓝光透射到扩散荧光层激发荧光粉完成蓝光到白光的转换，同时扩散微珠层将光线折射散化后进一步匀光，起到增大视角的作用。
实现背光模组高亮匀光效果分光膜结构制作方法

[发明专利]半导体刻蚀装置及其制备方法-CN202110608108.9在审
发明人：杨抗 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2021-06-01 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种半导体刻蚀装置及其制备方法。所述半导体刻蚀装置包括：反应腔室，用于容纳晶圆，刻蚀剂在所述反应腔室中对所述晶圆进行刻蚀；保护层，覆盖于所述反应腔室的内壁，所述保护层的材料包括刻蚀元素，所述刻蚀元素为所述刻蚀剂中用于与所述晶圆反应的化学元素。本发明反应腔室内壁上的保护层材料在等离子体轰击下发生颗粒飞溅的概率，避免了对晶圆造成颗粒飞溅损伤，提高了晶圆产品的良率。
半导体刻蚀装置及其制备方法

[发明专利]用于液晶显示器背光模组的偏光增亮贴合膜及其制备方法-CN202210672901.X在审
发明人：宁召;韩尚;杨抗;何海君 -专利权人：江苏弘德光电材料科技有限公司
申请日： 2022-06-14 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： G02F1/13357 文献下载
摘要：本发明公开了用于液晶显示器背光模组的偏光增亮贴合膜，包括：支撑层、结合于支撑层上的反射偏光膜、结合于反射偏光膜上的光扩散层；反射偏光膜通过胶黏剂分别与支撑层、光扩散层结合；光扩散层的原料包括：光散射基材、复合微球、流平剂、交联剂。复合微球采用如下工艺制取：将苯乙烯、十二烷基二甲基苄基氯化铵分散在水中，调节温度至60‑80℃，搅拌状态下加入2,2‑偶氮二(2‑甲基丙基咪)二盐酸盐，继续搅拌10‑20h，离心分离，洗涤，干燥，加入乙醇水溶液中，再向其中加入氨水溶液搅拌，搅拌状态下向其中加入正硅酸乙酯，离心分离，洗涤，干燥得到复合微球。
用于液晶显示器背光模组偏光贴合及其制备方法

[发明专利]一种匀光复合膜及其制备方法-CN202210640909.8在审
发明人：宁召;韩尚;杨抗;何海君 -专利权人：江苏弘德光电材料科技有限公司
申请日： 2022-06-07 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： C08J7/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种匀光复合膜，包括：基材、固着于基材一侧的匀光膜、固着于基材另一侧的扩散膜；匀光膜由匀光液涂布在基材一侧，经固化得到；匀光液的原料包括：成膜物树脂、聚氨酯乳液、散射粒子、流平剂、颜料、交联剂；散射粒子采用如下具体步骤制取：将乙烯基三甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷分散在水中，调节体系pH值为5‑6，60‑80℃搅拌1‑2h，调节体系pH值为8‑10，继续搅拌3‑6h，得到亲水微球；将粒径为50‑150nm的纳米二氧化硅分散在乙醇水溶液中，氮气保护下加入亲水微球搅拌，搅拌状态下滴加引发剂，60‑80℃搅拌5‑10h，自然冷却至室温，过滤，洗涤，干燥得到散射粒子。
一种复合及其制备方法

[发明专利]晶圆处理设备及晶圆处理装置-CN201911198096.6在审
发明人：杨抗 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：该发明涉及一种晶圆处理设备及晶圆处理装置，能够解决晶圆的边缘关键尺寸误差较大的问题，提高晶圆生产的良率。所述晶圆处理设备设置有聚焦环放置位，以放置聚焦环，还包括限位部，外露于所述聚焦环放置位上表面设置，用于与所述聚焦环表面设置的卡槽相互配合，对所述聚焦环进行限位，所述限位部能够发生可回弹的形变，所述限位部在一水平方向上的尺寸大于卡槽在该水平方向上的尺寸。
处理设备装置

[实用新型]住宅配套商业地下室顶板结构-CN202020448245.1有效
发明人：吴宏洲;王益群;杨抗;钱超宁 -专利权人：杭州九米建筑设计有限公司
申请日： 2020-03-31 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： E04B1/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了住宅配套商业地下室顶板结构，包括主梁、暗梁、顶板及顶板抬柱，所述主梁包括横向主梁及与横向主梁垂直设置的纵向主梁，所述顶板内部设有暗梁，所述暗梁包括横向暗梁及与横向暗梁垂直相交设置的纵向暗梁，所述横向暗梁与纵向暗梁相交的位置处设有承台，从而形成板式承台式转换层结构，所述顶板抬柱设置在板式承台式转换层结构上。本实用新型的有益效果是：地下室配套商业顶板结构采用的主梁+厚板抬柱结构形式，顶板梁板结构更加规整，可以有效的缩短工期；承台式转换层的设置使得的下层柱网可以灵活布置，无须与下层结构对齐；该顶板结构是一种抗冲切结构构造，实现良好的抗震效果，并且具有良好的经济效益。
住宅配套商业地下室顶板结构

[实用新型]晶圆处理设备及晶圆处理装置-CN201922115866.8有效
发明人：杨抗 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：该实用新型涉及一种晶圆处理设备及晶圆处理装置，能够解决晶圆的边缘关键尺寸误差较大的问题，提高晶圆生产的良率。所述晶圆处理设备设置有聚焦环放置位，以放置聚焦环，还包括限位部，外露于所述聚焦环放置位上表面设置，用于与所述聚焦环表面设置的卡槽相互配合，对所述聚焦环进行限位，所述限位部能够发生可回弹的形变，所述限位部至少在一水平方向上的尺寸大于卡槽在该水平方向上的尺寸。
处理设备装置

[发明专利]旋转湿法刻蚀设备及方法-CN201811338806.6在审
发明人：杨抗 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-11-12 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供了一种旋转湿法刻蚀设备及方法，所述旋转湿法刻蚀设备包括：刻蚀槽，用于容纳刻蚀液及装有待刻蚀晶圆的晶舟；旋转装置，用于带动待刻蚀晶圆在晶舟内转动；旋转装置包括传动辊，传动辊绕其中心轴转动，传动辊垂直于待刻蚀晶圆表面，传动辊的辊面接触待刻蚀晶圆侧面并带动待刻蚀晶圆随传动辊转动。本发明通过引入传动辊在湿法刻蚀过程中带动晶舟中的晶圆转动，避免了因刻蚀槽中各处刻蚀液的浓度或温度不同而导致的晶圆面内刻蚀均匀性不佳的问题，从而提高了产品良率。此外，通过传动辊和晶圆的转动还进一步增加了刻蚀槽中刻蚀液的对流速度，改善了刻蚀槽中刻蚀液的分布均匀性。
旋转湿法刻蚀设备方法

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