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[发明专利]冷却板、镀膜装置-CN201811033375.2有效
发明人：王一鸣;王光东;王琦;朴范求;段文荣 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2018-09-05 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种冷却板、镀膜装置，属于镀膜技术领域。本发明的冷却板，用于支撑掩膜框架，该冷却板包括：冷却板本体、特氟龙层；冷却板本体具有用于朝向掩膜框架的第一侧面，特氟龙层的至少一部分设置在第一侧面上。
冷却镀膜装置

[实用新型]一种导流器及等离子化学气相沉积设备-CN202020631414.5有效
发明人：张强;朴范求;杨远江;李天明;贺清柯;李杰;朱亚;王愉;袁富军;曹丙垒;黄鑫鑫 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2020-04-23 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种导流器及等离子化学气相沉积设备，涉及等离子化学气相沉积技术领域，以减少导流器的边缘连接部与其对应的螺钉震动摩擦产生的异物量，降低产品的不良率。该导流器与其上方结构件及下方结构件固定连接，用于将其上方结构件处的气体导流至其下方结构件上，包括边缘连接部和中部导流部，边缘连接部用于与上方结构件螺接，中部导流部对应上方结构件的气体沉积孔设置，中部导流部的下表面开设有紧固孔，紧固孔用于配合安装柱形紧固件，以将下方结构件固定在中部导流部的下方，紧固孔的内侧壁与中部导流部的周向的外侧壁之间的厚度均匀。本实用新型可用于等离子化学气相沉积镀膜。
一种导流等离子化学沉积设备

[发明专利]一种炉体组装结构及热处理设备-CN201810602057.7有效
发明人：赵芽敏;朴范求;林伟;杨远江;陈云雷;魏晨曦;刘兆联;王愉;朱亚;黄鑫鑫 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2018-06-12 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： F27D1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种炉体组装结构及热处理设备，所述炉体组装结构包括炉体支架，所述炉体支架内部具有空腔，包括顶部支架、底部支架及位于所述顶部支架和所述底部支架之间的侧壁支架；所述顶部支架包括：框体结构，由四根水平支柱首尾依次连接而成，所述四根水平支柱包括平行设置的两根第一横向支柱、及平行设置的两根纵向支柱；及，平行设置的至少两根第二横向支柱，所述第二横向支柱与所述第一横向支柱平行设置，且所述第二横向支柱的两端分别连接于两根所述纵向支柱上。本发明炉体组装结构及热处理设备，可以避免炉体支架的顶部支柱应力集中发生碎裂，提高安全率。
横向支柱炉体组装平行设置热处理设备顶部支架炉体支架底部支架水平支柱纵向支柱碎裂侧壁支架框体结构依次连接应力集中空腔首尾安全

[发明专利]有机发光二极管显示面板及其制作方法、掩模板-CN201610945114.2有效
发明人：李承敃;张文轩;范真瑞;熊黎;陆忠;袁洪光;朴范求 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-11-02 - 公布日： 2019-11-01 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：一种有机发光二极管显示面板及其制作方法、掩模板。该有机发光二极管显示面板，包括弯曲部，弯曲部的凸出侧为出光侧，弯曲部包括衬底基板以及设置在衬底基板上的多个有机发光二极管，有机发光二极管包括多个层，多个层包括发光层，发光层具有第一曲面，在弯曲部第一曲面与衬底基板的弯曲方向相反，或者，在弯曲部第一曲面与衬底基板的弯曲方向相同并且第一曲面的曲率大于衬底基板的曲率。该有机发光二极管显示面板中的有机发光二极管在发光时发光角度分散，可以改善有机发光二极管显示面板的视角，提高显示品质。
有机发光二极管显示面板及其制作方法模板

[发明专利]一种气相沉积设备-CN201510465152.3有效
发明人：张锐;李端明;廖国华;朴范求 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-07-31 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明描述了一种气相沉积设备。气相沉积设备包括具有反应腔室的反应装置；连接到所述反应腔室的第一通气管道，用于将沉积用的工艺气体导入所述反应腔室；气体电离装置，其连接到所述反应装置并用于对清洗气体进行电离；和连接到所述气体电离装置的第二通气管道，用于将清洗反应腔室的清洗气体导入所述气体电离装置。由于工艺气体在被导入反应腔室的过程中不经过气体电离装置，因此气体电离装置的腔室内部的脱落颗粒物不会随着工艺气体进入反应腔室，只随着清洗气体进入反应腔室，可在清洗过程结束之后与清洗气体一起用真空泵抽走，从而不会对工艺过程(例如镀膜过程)的产品良率产生影响。
一种沉积设备

[实用新型]有机发光二极管显示面板、显示装置和掩模板-CN201621169593.5有效
发明人：李承敃;张文轩;范真瑞;熊黎;陆忠;袁洪光;朴范求 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-11-02 - 公布日： 2017-07-11 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：一种有机发光二极管显示面板、显示装置和掩模板。该有机发光二极管显示面板，包括弯曲部，弯曲部的凸出侧为出光侧，弯曲部包括衬底基板以及设置在衬底基板上的多个有机发光二极管，有机发光二极管包括多个层，多个层包括发光层，发光层具有第一曲面，在弯曲部第一曲面与衬底基板的弯曲方向相反，或者，在弯曲部第一曲面与衬底基板的弯曲方向相同并且第一曲面的曲率大于衬底基板的曲率。该有机发光二极管显示面板中的有机发光二极管在发光时发光角度分散，可以改善有机发光二极管显示面板的视角，提高显示品质。
有机发光二极管显示面板显示装置模板

[发明专利]一种阵列基板的制备方法以及阵列基板、显示装置-CN201310753386.9有效
发明人：金相秦;朴范求;黃修雄 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2013-12-31 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种阵列基板的制备方法以及阵列基板、显示装置，涉及显示技术领域，该制备方法可以避免因刻蚀不一致导致源漏金属层突起而最终产生的阵列基板的不良。本发明实施例提供的阵列基板的制备方法，包括：在形成有栅极金属层、栅极绝缘层、源漏金属层、层间绝缘层的基板上形成光刻胶；在光刻胶上形成用于构成沟道的图形以及形成用于构成过孔的图形；用于构成沟道的图形位于源漏金属层所在的区域外；用于构成过孔的图形位于源漏金属层形成尖端突起的区域内。
一种阵列制备方法以及显示装置

[发明专利]背光源的亮度调节装置、背光源及显示装置-CN201310705406.5无效
发明人： 朴范求 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2013-12-19 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： G09G3/34 文献下载
摘要：本发明提供一种背光源的亮度调节装置、背光源及显示装置，该背光源的亮度调节装置包括：感光元件，用于感测外部环境光线并产生光电流；运算放大器，与该感光元件相连接，用于根据该光电流产生调节背光源亮度的控制信号。本发明通过感光元件与运算放大器实时地检测外部光线的强弱，并根据外部光线的强弱调整背光源的亮度，当外部环境光线较强时，运算放大器发出控制信号增大背光源的亮度，当外部环境光线较弱时，运算放大器发出控制信号减小背光源的亮度，从而能够在不影响显示品质的情况下节省电能。
背光源亮度调节装置显示装置

[实用新型]真空装置的密封盖及真空装置-CN201320313017.3有效
发明人：李丁元;朴范求;廖国华;马方;褚晓惠 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2013-05-31 - 公布日： 2013-11-13 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型提供一种真空装置的密封盖及真空装置。所述密封盖包括具有容纳空间的盖体及设置于所述容纳空间内并与所述盖体通过第一密封件而密封连接的垫板，其中，所述密封盖还包括：用于固定所述垫板的至少一个第一安装块，所述第一安装块与所述盖体连接，在所述垫板的边角处压设于所述垫板上方。所述密封盖通过在垫板的边角处加设第一安装块，用于解决垫板长期在高温环境使用产生变形，使得边角处有真空泄漏的问题。
真空装置密封

[发明专利]彩色滤光片及其制造方法-CN200810057848.2有效
发明人： 朴范求;金浩熙 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2008-02-19 - 公布日： 2009-08-26 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本发明涉及一种彩色滤光片，包括玻璃基板、彩色树脂和黑矩阵，所述玻璃基板上设有数个凹坑；所述黑矩阵位于所述玻璃基板上，并且所述黑矩阵与所述凹坑不重叠；所述凹坑内容置有所述彩色树脂。本发明涉及一种彩色滤光片的制造方法，包括：用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂蚀刻玻璃基板，形成用于容置彩色树脂的凹坑；在没有形成凹坑的区域形成黑矩阵；分别向凹坑内滴入彩色树脂；硬化彩色树脂，形成彩色滤光片。本发明有效克服了现有技术彩色滤光片的制造成本高的缺陷，有效降低了彩色滤光片的成本。
彩色滤光及其制造方法

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