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[发明专利]使用光照射来强化对衬底的电子夹持的系统装置以及方法-CN202180031025.6在审
发明人：陈勤;朱利安·G·布雷克;麦可·W·奥斯邦;史蒂芬·M·恩尔拉;乔纳森·D·菲斯契尔 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2021-05-07 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01J37/20 文献下载
摘要：一种方法可包括：在夹具上提供衬底；以及在衬底处理期间当衬底设置在夹具上时，将辐射从照射源射出到衬底，其中所述辐射由辐射能量进行表征，其中所述辐射能量的至少一部分等于或大于2.5eV。
使用照射强化衬底电子夹持系统装置以及方法

[发明专利]使用光照强化衬底的电子夹持的系统装置以及方法-CN202180033330.9在审
发明人：陈勤;朱利安·G·布雷克;麦可·W·奥斯邦;史蒂芬·M·恩尔拉;乔纳森·D·菲斯契尔 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2021-05-07 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01J37/20 文献下载
摘要：本发明提供一种装置，装置可包含：夹具，用于夹持衬底，其中夹具布置成与衬底的背侧相对；以及照明系统，设置成在衬底设置在夹具上时将辐射引导到衬底，其中辐射包括等于或高于阈值能量以在衬底中产生移动电荷的辐射能量，其中照明系统设置成将辐射引导到衬底的背侧。
使用光照强化衬底电子夹持系统装置以及方法

[发明专利]使用光照射来强化对衬底的电子夹持的系统装置以及方法-CN202180030943.7在审
发明人：陈勤;朱利安·G·布雷克;麦可·W·奥斯邦;史蒂芬·M·恩尔拉;乔纳森·D·菲斯契尔 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2021-05-07 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： H01J37/20 文献下载
摘要：本发明提供一种装置，可包括：夹具，用于夹持衬底，其中所述夹具被布置成与衬底的后侧相对；以及照射系统，被设置成当衬底设置在所述夹具上时将辐射射出到衬底，其中所述辐射包含辐射能量，所述辐射能量等于或高于在衬底中产生移动电荷的阈值能量，其中照射系统被设置成将辐射射出到衬底的与衬底的后侧相对的前侧。
使用照射强化衬底电子夹持系统装置以及方法

[发明专利]离子植入机、半导体晶片的植入设备及方法-CN201780006590.0有效
发明人：麦可·W·奥斯邦;大卫·E·苏若恩;朱利安·G·布雷克 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2017-01-04 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： H01L21/265 文献下载
摘要：一种离子植入机、半导体晶片的植入设备及方法。所述离子植入机可包括：静电夹，用以固持衬底；淹没式等离子体枪，产生撞击于所述衬底上的电子通量；以及控制器，耦合至所述淹没式等离子体枪，并包括响应于测量信号而产生控制信号的部件，所述控制信号用以将所述淹没式等离子体枪的操作调整至目标操作水平。在所述目标操作水平上，所述电子通量可包括电子稳定化浓度，所述电子稳定化浓度将所述静电夹中的夹电流变化减小至目标值，所述目标值小于当所述淹没式等离子体枪不操作时的所述夹电流变化的第二值。
离子植入半导体晶片设备方法

[发明专利]低发射植入掩模及衬底组件-CN202080050380.3在审
发明人：法兰克·辛克莱;朱利安·G·布雷克 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2020-06-23 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： G03F1/22 文献下载
摘要：一种衬底组件可包括：衬底基底；以及低发射植入掩模，设置在所述衬底基底上。低发射植入掩模可包含含碳材料，所述含碳材料包括由12C碳同位素前体形成的同位素纯化的碳。
发射植入衬底组件

[发明专利]低发射覆层以及离子植入器-CN201980087007.2在审
发明人： 朱利安·G·布雷克;法兰克·辛克莱 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2019-12-05 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：公开一种离子植入器。所述离子植入器可包括束线，所述束线限定围绕空腔的内壁，所述空腔被布置成传导离子束。所述离子植入器也可包括低发射嵌件，所述低发射嵌件设置在所述内壁上并且还包括12C层，所述12C层具有面向所述空腔的外表面。
发射覆层以及离子植入

[发明专利]支撑基板的装置以及操作静电夹的方法-CN201580008408.6有效
发明人：岱尔·K·史东;朱利安·G·布雷克;留德米拉·史东 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2015-02-04 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种支撑基板的装置以及操作静电夹的方法。支撑基板的装置可包括基座以及邻近于基座并配置来用于支撑基板表面的绝缘部分。所述装置还可包括电极系统，以提供夹持电压给基板，其中配置绝缘部分以藉由具有通道宽度的至少一通道来提供气体给基板，其中气体压力以及通道宽度的乘积小于气体的帕申最小值，其中帕申最小值为气体的崩溃电压为最小值下外壳的表面的间距与压力的乘积。本发明能够避免基板被污染。
支撑装置以及操作静电方法

[发明专利]控制工件的温度的系统及方法-CN201580062297.7有效
发明人： 朱利安·G·布雷克 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2015-10-29 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：公开了一种用于在加工期间调制及控制工件的局部温度的系统及方法。所述系统使用具有一或多个壁的台板，所述一或多个壁在所述台板的顶面上界定多个分立的区。当工件安置于所述台板上时，形成多个隔室，其中每一隔室由所述工件的背面及所述台板的相应区界定。所述隔室中的每一隔室内的背面气体的压力可被单独地控制。背面气体的压力决定自所述工件传递至所述台板的热量的量。通过局部地调节背面气体的压力，所述工件的不同区可维持在不同温度。在某些实施例中，使用多个阀来控制流至所述隔室的流动速率。
控制工件温度系统方法

[发明专利]制造静电夹的方法、静电夹及静电夹系统-CN201580006538.6有效
发明人：岱尔·K·史东;理查尔·库肯;林奕宽;朱利安·G·布雷克;留德米拉·史东 -专利权人：瓦里安半导体设备公司;安堤格里斯公司
申请日： 2015-01-30 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种制造静电夹的方法、一种静电夹及一种静电夹系统。在一个实施例中，一种制造静电夹的方法包含：形成绝缘体主体；在所述绝缘体主体上形成电极；以及在所述电极上沉积层堆叠，所述层堆叠包括使用原子层沉积(ALD)而沉积的氧化铝层。抗扩散层堆叠设置在静电夹的电极与将由静电夹固持的衬底之间。可在操作期间抑制金属从静电夹滤出，避免污染衬底。
制造静电方法系统

[发明专利]设备及利用发光二极管加热的静电夹具-CN201680037201.6有效
发明人：杰森·M·夏勒;威廉·T·维弗;摩根·D·艾文斯;罗伯特·布然特·宝佩特;保罗·E·佩敢堵;朱利安·G·布雷克;大卫·伯拉尼克;阿拉·莫瑞迪亚 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2016-06-24 - 公布日： 2019-07-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明揭示一种设备及利用发光二极管加热的静电夹具。所述利用LED加热的静电夹具包括包含LED加热器的第一子组合件和包括静电夹具的第二子组合件。所述LED衬底加热器子组合件包含具有凹部的基底。多个发光二极管LED安置在所述凹部内。所述LED可为GaN或GaP LED，其在容易由硅吸收的波长处发光，因此有效且快速地加热所述衬底。包括静电夹具的所述第二子组合件安置在所述LED衬底加热器子组合件上。所述静电夹具包含在由所述LED发射的所述波长处为透明的顶部电介质层和内部层。一或多个电极安置于所述顶部电介质层与所述内部层之间以形成所述静电力。
利用 led 加热静电夹具

[发明专利]静电钳-CN201511000843.2有效
发明人：提摩太·J·米勒;理查·S·默卡;朱利安·G·布雷克 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2011-12-19 - 公布日： 2018-08-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种静电钳，包括基座，其具有第一表面；以及用于在制程腔室中支撑基底的外组件，外组件具有第二表面，其是以连结于基座的第一表面的至少一部分的方式布置。静电钳还包括耦合于外组件的外表面的第一环形部，第一环形部具有第一封合表面，以及包括第二环形部，其耦合于外组件的外表面且具有第二封合表面。且当基底被放置在第一封合表面以及第二封合表面上时，第一环形部可定义内隔室，第一环形部与第二环形部可一同定义同心于内隔室的外隔室。
静电

[发明专利]低放射率静电卡盘和具有其的离子植入系统-CN201480035023.4有效
发明人： 朱利安·G·布雷克;岱尔·K·史东;留德米拉·史东;麦可·斯库拉么尔 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2014-04-16 - 公布日： 2018-04-20 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种低放射率静电卡盘和具有其的离子植入系统，静电卡盘包括加热器及配置在加热器上的电极。此静电卡盘也包括绝缘体层及配置在绝缘体上的涂层，其中所述涂层用以支撑电极系统所产生的静电场以便吸住基板。
放射静电卡盘

[发明专利]摩擦电荷控制静电夹钳-CN201280007039.5有效
发明人： 朱利安·G·布雷克;岱尔·K·史东;留德米拉·史东;大卫·E·苏若恩;大城茂雄 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2012-02-01 - 公布日： 2013-10-02 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：揭示在卸除前更有效从衬底去除累积电荷的静电夹钳。目前，升降销与接地销是植入后用来从衬底去除电荷的唯一机制。本揭示描述一种静电夹盘，其在顶部介电表面中具有嵌入的导电区，例如在密封环中的环形导电区。因此，不论松开期间衬底的方向为何，衬底的至少一部分会包含在工件支撑件的介电层上的导电区。此导电区可通过使用介电层中的导电穿孔而接地。在一些实施例中，这些导电穿孔是用来将气体供应至衬底背面的流体导管。
摩擦电荷控制静电夹钳

[发明专利]基底保持器中气体泄漏控制的系统与方法-CN201180062710.1有效
发明人：提摩太·J·米勒;理查·S·默卡;朱利安·G·布雷克 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2011-12-19 - 公布日： 2013-09-11 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：一种静电钳，包括用于加热基底的加热组件，加热组件具有朝向基底设置的第一表面以及在第一表面对向的第二表面。基座经布置以连结于加热组件的第二表面的至少一部份。经连结的基座以及加热组件共同定义加热组件的第一部分与基座之间的内间隙。外间隙以同心于加热组件的第二部份与基座之间的内间隙的方式布置，藉由形成于加热组件的第二表面以及基座之间的第一封合表面来将内间隙以及外间隙彼此隔离。
基底保持气体泄漏控制系统方法

[发明专利]用于制造位元图案化媒体的技术-CN201180051627.4无效
发明人：法兰克·辛克莱;朱利安·G·布雷克 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2011-09-09 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： G11B5/855 文献下载
摘要：本发明揭示一种用于制造位元图案化媒体的技术。在一个特定示范性实施例中，所述技术可实现为一种用于制造位元图案化媒体的方法。所述方法可包括：形成中间层，所述中间层包括彼此邻近的改质区和第一区，其中所述改质区和所述第一区可具有至少一种不同的性质；在所述中间层的所述第一区上沉积磁性物质以形成有源区；以及在所述中间层的所述改质区上沉积非铁磁物质以形成分离体。
用于制造位元图案媒体技术

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