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[发明专利]利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法-CN201611133619.5有效
发明人： 才玺坤;武潇野;时光;张立超;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2016-12-10 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明涉及一种利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法，包括以下步骤：对所述大口径元件进行预处理，消除大口径元件内部残余应力；静置第一预设时间后，利用斐索干涉仪对大口径元件进行面形测量，并标记为初始面形W1；为大口径元件进行镀膜；静置第二预设时间后，利用斐索干涉仪再次对镀膜后的大口径元件进行面形测量，并标记为测试面形W2；利用公式ΔW＝W2‑W1得到镀膜引起的元件面形改变量ΔW；利用面形改变量ΔW对膜厚修正挡板进行优化。本发明利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性，通过镀膜前后分别测量大口径元件的表面面形，将元件两次面形数据相减得到镀膜引起的面形改变量，精确反映了元件的膜厚均匀性水平。
大口径元件斐索干涉仪镀膜膜厚均匀性面形改变量面形测量预设检测预处理挡板表面面形残余应力面形数据元件面形膜厚相减测量修正测试优化

[发明专利]一种非球面元件的应力双折射量的测量方法-CN201611058939.9有效
发明人：时光;梅林;才玺坤;武潇野;贺健康;张立超;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2016-11-25 - 公布日： 2018-12-04 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种非球面元件的应力双折射量的测量方法，所述测量方法包括：确定非球面元件上的测试点和光源的初始位置以及根据当前测试点与非球面元件光轴的角度得到所述光源的偏转角；根据当前测试点的位置确定所述应力双折射设备的探测器的位置；根据所述探测器的位置将所述探测器移动对应的位置；通过探测器得到当前测试点的应力双折射量；通过旋转所述测试台将所述非球面元件转动到同一圆周上的多个指定角度对应测试点上，并通过探测器得到同一圆周上的多个指定角度对应测试点的多个应力双折射量；进入确定非球面元件上的测试点和光源的初始位置，根据当前测试点与光源光轴的角度得到所述光源的偏转角的步骤，直到所有的测试点测量完毕。
一种球面元件应力双折射测量方法

[发明专利]一种建立用于计算沉积速率的理论模型的方法-CN201611133632.0在审
发明人：贺健康;张立超;才玺坤;梅林;时光;武潇野;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2016-12-10 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种建立用于计算离子束溅射薄膜过程中沉积速率的理论模型的方法，通过实验测试得到待测平面二维离散点的膜厚数据，对数据进行拟合处理获得理论模型中的未知参数，进而可采用所述理论模型计算获得该平面任一点的沉积速率。解决了目前无法采用理论模型计算离子束溅射沉积过程中空间各点的沉积速率的问题。
理论模型沉积离子束溅射沉积离子束溅射薄膜过程膜厚数据拟合处理平面二维实验测试未知参数离散点中空间

[发明专利]一种用于确定非正入射条件下光学元件透过率的方法-CN201510901267.2有效
发明人：贺健康;张立超;才玺坤;武潇野;时光;梅林;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2015-12-09 - 公布日： 2017-10-31 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明提供一种用于确定非正入射条件下光学原件透过率的方法，属于光学原件领域。解决现有的方法需要透过率已知的参考样品、需要制作两个透过率完全一致的样品、样品透过率存在制作误差与测量误差的问题。该方法先按照分光光度计的透过率测试要求，选取至少三个待测元件；然后在待测入射角度下，将待测原件两两配对，然后分别进行透过率测试，得到透过率数值；最后根据得到的透过率数值，利用公式(1),计算出在该待测角度下，每一待测原件的透过率数值。本发明可以同时获得多个未知样品的透过率，测量准确度高。
一种用于确定入射条件下光学原件透过方法

[发明专利]一种用于膜厚测量的定位装置-CN201610205408.1在审
发明人：梅林;张立超;才玺坤;武潇野;时光;贺健康;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2016-04-01 - 公布日： 2016-07-06 - 主分类号： G01B21/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于膜厚测量的定位装置，包括中间开口的元件支撑基座、下底板支撑基座、支撑连接在所述元件支撑基座与下底板支撑基座之间的支撑金属柱、固定设置在所述下底板支撑基座上的支撑台、旋转连接在所述支撑台上的精密旋转台、固定在所述精密旋转台上的精密平移台、滑动设置在所述精密平移台上的滑动台面及插在所述滑动台面上的激光笔。该定位装置，根据极坐标原理，通过精密旋转台和精密平移台，能够实现对镀膜元件表面任意一点位置的确定，激光笔的光线照射在元件表面时可以形成一个光斑，将光斑与膜厚测量仪的测量探头对准，即可实现测量位置的定位。
一种用于测量定位装置

[发明专利]一种光学元件超声波清洗装置-CN201510967622.6在审
发明人：武潇野;张立超;时光;梅林;才玺坤;贺健康;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2015-12-22 - 公布日： 2016-05-25 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种超声波清洗装置，属于光学镀膜技术领域；为了解决在超声波清洗过程中不同的原件必须准备不同规格的装置，不仅成本高，并且仍然存在规格不匹配的技术问题；本装置包括金属外框、金属横梁、支柱固定夹和锁紧固件；水平平行安装的两条金属横梁分别固定金属外框的上部和下部，每条金属横梁上设置两个支柱固定夹，每一对相对的支柱固定夹固定一个锁紧固件的两端；本装置可以通过调节支柱固定夹和锁紧固件来适应不同口径、不同厚度的光学元件，避免了原件和清洗装置不匹配的问题，使超声波清洗的效率大大提高。
一种光学元件超声波清洗装置

[发明专利]提高深紫外大口径球面光学元件膜系一致性的方法-CN201510867508.6在审
发明人： 才玺坤;武潇野;时光;张立超;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2015-12-02 - 公布日： 2016-04-06 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：提高深紫外大口径球面光学元件膜系一致性的方法，涉及深紫外薄膜制备领域，解决了在采用热蒸发方法为大口径、大口径/曲率半径球面光学元件镀制深紫外减反膜系时，由于元件表面不同位置沉积速率和沉积角不同，导致元件表面各处厚度及填充密度的差异，从而产生的膜系不一致性的技术问题。该方法为：首先设计膜厚修正挡板将大口径球面光学元件表面物理厚度调整至接近100％，然后适当选用提高沉积温度、使用折射率不均匀性更低的GdF₃代替LaF₃和在膜系设计中降低高折射率材料的厚度等方法中的一种或者组合，获得满足使用要求的一致性良好的膜系。本发明通过材料和工艺的优选以及膜系优化，获得大口径、大口径/曲率半径球面元件良好一致性的膜系。
提高深紫口径球面光学元件一致性方法

[发明专利]一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装-CN201510902154.4在审
发明人：张立超;才玺坤;贺健康;时光;武潇野;梅林;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2015-12-09 - 公布日： 2016-03-23 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明提供一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装，属于光学镀膜领域。解决现有的控制膜厚均匀性的方法需加入膜厚修正挡板的问题。该镀膜工装包括：附带主齿轮的主转动轴、附带行星盘上齿轮和行星盘下齿轮的行星盘转动轴、附带卫星盘齿轮的卫星盘转动轴、随卫星盘转动轴自转的元件承载架，所述的行星盘上齿轮与主齿轮咬合，行星盘下齿轮与卫星盘齿轮咬合。该工装通过采用行星式运动的方式，并且对各转动轴定位于最佳位置，通过将主转动轴与行星盘转动轴之间的距离、行星盘转动轴和卫星盘转动轴之间的距离设置为理论模拟或实验得到的满足膜厚均匀性控制要求的最佳距离，在无膜厚均匀性挡板的情况下，实现对膜厚均匀性的控制。
一种用于控制平面元件均匀镀膜工装

[发明专利]可调节式光学镀膜夹具-CN201510682771.8在审
发明人：时光;张立超;梅林;才玺坤;武潇野;贺健康;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2015-10-20 - 公布日： 2016-02-03 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：可调节式光学镀膜夹具，涉及光学镀膜领域，解决了现有镀膜夹具存在的只针对单一尺寸和单一形状的待镀膜基片而当待镀膜基片的尺寸和形状发生改变时不再适用的问题。本发明包括连接构件；开有多个T型槽的固定导向构件；一一对应安装在T型槽内且与T型槽间隙配合的滑动构件；夹持构件包括三个支撑架、固定在上支撑架上的丝杠、套装在丝杠上的滑块、固定在滑块上的柔性部分；上支撑架边缘的凸出结构与待镀膜基片上表面和侧面接触，柔性部分上表面与待镀膜基片下表面接触；滑动构件通过锁紧螺钉与下支撑架相连，通过锁紧螺钉使滑动构件和下支撑架夹紧固定导向构件的T型槽。本发明实现了对不同尺寸、形状待镀膜基片的夹持，镀膜周期缩短、成本降低。
调节光学镀膜夹具

[发明专利]一种重复可调式的镀膜仿面形工装-CN201410838053.0有效
发明人：武潇野;时光;才玺坤;梅林;张立超;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2014-12-30 - 公布日： 2015-04-01 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：一种重复可调式的镀膜仿面形工装，属于光学镀膜领域，解决了现有技术仿面形夹具难以模拟多种曲率半径和不同口径的镀膜基片，在反复的加热、镀膜过程中，容易发生变形的技术问题；本发明包括行星盘、多个可调式镜座和镀膜基片；多个可调式镜座通过螺杆和螺母的连接方式从行星盘中央以螺旋放射状排列，镀膜基片在可调式镜座上；本发明对大口径曲面元件进行模拟仿面形镀膜实验中，能够自由选择所模拟面形的曲率半径和镀膜口径，一套本工装能够模拟任意口径和曲率半径的曲面面形，重复使用节约了工装成本；由于每个镜座的角度都是能够调节的，因此有效地避免了由于旋转、加热等导致的工装变形。
一种重复调式镀膜仿面形工装

[发明专利]一种清洗和镀膜为一体的夹具-CN201410604535.X有效
发明人：谷勇强;时光;张立超;梅林;武潇野;才玺坤;赵灵;贺健康;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2014-10-29 - 公布日： 2015-03-11 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：一种清洗和镀膜为一体的夹具，属于光学镀膜技术领域，解决了现有技术中在清洗和镀膜的过程中造成元件污染和崩边的技术问题；包括镜座S1、镜座S2、连接构件、清洗支撑构件和固定构件；镜座S1和镜座S2为圆环形，在镜座S1和镜座S2的内部通孔处开有凹槽；连接构件通过螺钉分别与镜座S1和镜座S2固定连接；清洗支撑构件包括聚四氟乙烯块、支架、螺钉a、螺钉b和螺钉c，聚四氟乙烯块和支架通过螺钉a、螺钉b和螺钉c连接；清洗支撑构件通过螺钉分别与镜座S1和镜座S2固定连接；固定构件分别通过镜座S1和镜座S2固定元件；本发明减少了元件污染，能够有效避免翻面过程中磕碰和崩边的风险，结构简单、便于操作、节省操作时间。
一种清洗镀膜一体夹具

[发明专利]一种光度计变角度测试夹具-CN201410558640.4有效
发明人：时光;张立超;梅林;武潇野;才玺坤;赵灵;贺健康;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2014-10-17 - 公布日： 2015-01-28 - 主分类号： G01J3/02 文献下载
摘要：本发明一种光度计变角度测试夹具，属于光谱测量领域，解决了现有技术中测量不准确、误差大的技术问题；本发明包括支撑机构和两个相同的样品夹持机构，所述支撑机构包括连接单元和角度转换单元，所述连接单元包括一个U形槽和三个通孔，连接单元与光度计夹具承载座连接，所述角度转换单元为两条梯形槽，两条梯形槽的中心线与支撑机构的中心线重合，所述样品夹持机构包括样品架、梯形结构和U形弹簧片，样品架上开有通孔，样品架和梯形结构为一体，U形弹簧片通过螺钉连接在样品架上，所述梯形结构与所述梯形槽配合；本发明稳定性好、操作简单、节省时间。
一种光度计角度测试夹具

[发明专利]用于确定光学材料激光辐照老化寿命的加速实验方法-CN201410532062.7有效
发明人：张立超;赵灵;才玺坤;武潇野;时光;梅林;贺健康;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2014-10-10 - 公布日： 2015-01-21 - 主分类号： G01N21/00 文献下载
摘要：用于确定光学材料激光辐照老化寿命的加速实验方法，涉及光学材料，解决测试光学元件的使用寿命时，存在的耗费时间长，且浪费人力物力等问题，同时采用加速实验方法时无法确定加速比的问题，本发明方法将材料加工成符合激光量热吸收测试所需的形状及尺寸；将样品表面进行抛光处理对材料进行预辐照及激光辐照，获得不同能量密度下的激光辐照吸收老化系数；利用该吸收老化系数，拟合出材料随能量密度变化的吸收老化加速比曲线；按照实际工况条件，利用吸收老化加速比曲线，计算激光辐照实验所需进行的时间。采用本方法可在相对较短的时间内，通过提高辐照能量密度实现激光辐照老化寿命的合理加速评估，达到节省评估时间及人力、物力等资源的目的。
用于确定光学材料激光辐照老化寿命加速实验方法

[发明专利]一种低应力深紫外多层膜的制备方法-CN201410508395.6无效
发明人： 才玺坤;梅林;时光;武潇野;张立超;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2014-09-26 - 公布日： 2015-01-21 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：本发明提供一种低应力深紫外多层膜的制备方法，采用离子束溅射制备氟化物薄膜，通过工艺优化选择合适的镀膜窗口，使沉积的高低折射率材料分别具有压应力和张应力，同时具有较低的光学损耗。采用这两种材料制备深紫外多层膜时，可以相互抵消大部分应力，使得多层膜的残余应力较低。该方法包括以下步骤：将融石英基底进行超声波清洗，慢提拉脱水，加热烘干；使用离子源对基底进行预处理，去除表面吸附物；离子源清洁完成后，根据设计的膜层结构，采用离子束溅射方法制备深紫外多层膜。本发明有效克服了热蒸发方法制备的氟化物内部填充密度低及残余应力较大的缺点，保证多层膜具有较低应力的同时，又有良好的深紫外光学应用前景。
一种应力深紫多层制备方法

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