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[发明专利]使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统-CN202011117620.5在审
发明人：保罗·弗兰克·马雷拉;沙伦·麦考利;埃利斯·张;威廉·沃尔克;詹姆斯·威利;斯特林·沃森;萨加尔·A·克卡尔;卡尔·赫斯 -专利权人： 恪纳腾技术公司
申请日： 2004-07-02 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G03F1/84 文献下载
摘要：本申请涉及一种使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统。一种计算机实现的方法包括基于检查掩模版所产生的检查数据，标识晶片上的干扰缺陷，在检查所述晶片之前，使用所述掩模版在所述晶片上形成图案。另一种计算机实现的方法包括通过结合代表掩模版的数据分析检查晶片所产生的数据来检测晶片上的缺陷，代表掩模版的数据包括标识所述掩模版不同类型部分的标记物。再一种计算机实现的方法包括基于更改了晶片上形成的器件的特性的缺陷，确定用来处理晶片的制造工艺的性能。又一种计算机实现的方法包括基于检查晶片所产生的数据，更改或者模拟集成电路设计的一个或更多个特性。
使用设计者意图数据检查晶片模版方法系统

[发明专利]使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统-CN201610220655.9有效
发明人：保罗·弗兰克·马雷拉;沙伦·麦考利;埃利斯·张;威廉·沃尔克;詹姆斯·威利;斯特林·沃森;萨加尔·A·克卡尔;卡尔·赫斯 -专利权人： 恪纳腾技术公司
申请日： 2004-07-02 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： G03F1/84 文献下载
摘要：提供了一种使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统。一种计算机实现的方法包括基于检查掩模版所产生的检查数据，标识晶片上的干扰缺陷，在检查所述晶片之前，使用所述掩模版在所述晶片上形成图形。另一种计算机实现的方法包括通过结合代表掩模版的数据分析检查晶片所产生的数据来检测晶片上的缺陷，代表掩模版的数据包括标识所述掩模版不同类型部分的标记物。再一种计算机实现的方法包括基于更改了晶片上形成的器件的特性的缺陷，确定用来处理晶片的制造工艺的性能。又一种计算机实现的方法包括基于检查晶片所产生的数据，更改或者模拟集成电路设计的一个或更多个特性。
使用设计者意图数据检查晶片模版方法系统

[发明专利]使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统-CN201510096995.0有效
发明人：保罗·弗兰克·马雷拉;沙伦·麦考利;埃利斯·张;威廉·沃尔克;詹姆斯·威利;斯特林·沃森;萨加尔·A·克卡尔;卡尔·赫斯 -专利权人： 恪纳腾技术公司
申请日： 2004-07-02 - 公布日： 2019-04-23 - 主分类号： G03F1/84 文献下载
摘要：提供了一种使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统。一种计算机实现的方法包括基于检查掩模版所产生的检查数据，标识晶片上的干扰缺陷，在检查所述晶片之前，使用所述掩模版在所述晶片上形成图形。另一种计算机实现的方法包括通过结合代表掩模版的数据分析检查晶片所产生的数据来检测晶片上的缺陷，代表掩模版的数据包括标识所述掩模版不同类型部分的标记物。再一种计算机实现的方法包括基于更改了晶片上形成的器件的特性的缺陷，确定用来处理晶片的制造工艺的性能。又一种计算机实现的方法包括基于检查晶片所产生的数据，更改或者模拟集成电路设计的一个或更多个特性。
使用设计者意图数据检查晶片模版方法系统

[发明专利]用于分类样品上的缺陷的计算机实现的方法和系统-CN201310298855.2有效
发明人： C·H·德;托马索·托雷利;多米尼克·戴维;C·杨;迈克尔·戈登·斯科特;拉里塔·A·巴拉苏布若门尼;L·高;T·黄;J·张;米哈尔·科瓦斯基;乔纳森·奥克利 -专利权人： 恪纳腾技术公司
申请日： 2005-10-12 - 公布日： 2017-10-20 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：提供用于分类样品上的缺陷的计算机实现的方法和系统。还提供各种用于分类样品上的缺陷的计算机实现的方法。一种方法包括基于在样品上检测到的各个缺陷的一种或更多种特性，将各个缺陷指派到缺陷组。所述方法还包括向用户显示关于所述缺陷组的信息。此外，所述方法包括允许所述用户向所述缺陷组中的每一个组指派分类。还提供了被配置来分类样品上的缺陷的系统。一种系统包括在处理器上可执行的程序指令，所述程序指令用于基于在所述样品上检测到的各个缺陷的一种或更多种特性，将所述各个缺陷指派到缺陷组。所述系统还包括用户界面，所述用户界面被配置来向用户显示关于所述缺陷组的信息，并且允许所述用户向所述缺陷组中的每一个组指派分类。
用于分类样品缺陷计算机实现方法系统

[发明专利]带锯齿的傅立叶滤波器及检查系统-CN200680029168.9有效
发明人： H·J·郑;A·V·希尔;M·S·王 -专利权人： 恪纳腾技术公司
申请日： 2006-06-06 - 公布日： 2008-08-06 - 主分类号： G01N21/00 文献下载
摘要：提供了带锯齿的傅立叶滤波器和检查系统。一种傅立叶滤波器包括一个或更多个被配置来阻挡来自晶片的部分光的阻挡单元。所述傅立叶滤波器还包括形成在所述一个或更多个阻挡单元的边缘的周期性锯齿。所述周期性锯齿限定所述一个或更多个阻挡单元的过渡区段。所述周期性锯齿被配置为使透射横跨所述过渡区段变化，以使得横跨所述过渡区段的所述透射的变化基本上是平滑的。一种检查系统包括如上面描述的那样配置的傅立叶滤波器和检测器，所述检测器被配置来检查所述傅立叶滤波器透射的光。所述检测器生成的信号可以被用来检测所述晶片上的所述缺陷。
锯齿傅立叶滤波器检查系统

[发明专利]用于执行缺陷相关功能的计算机实现的方法-CN200680029267.7有效
发明人： M·迪什纳;C·W·李;S·麦考利;P·休特;D·王 -专利权人： 恪纳腾技术公司
申请日： 2006-06-06 - 公布日： 2008-08-06 - 主分类号： G01B5/28 文献下载
摘要：为了使用多样性采样，用户可以在本文描述的方法中选择多样性采样，并且可能选择要使用的多样性采样参数。一个提供这种能力的可能的界面是图示一用户界面的一个实施例的屏幕截图，所述用户界面可以被用来选择在本文描述的计算机实现的方法的实施方案中使用的多样性采样。晶片置后处理用户界面(18)图示列表(20)中的多个选项。具体地，列表(20)包括用于聚类(22)、采样(24)、重复器(26)和缺陷限制(28)的选项。采样选项包括评估选项(30)。评估选项(30)包括多样性采样选项(32)以及其他采样选项。用户可以通过点击采样选项名称旁边的选框来选择一个或更多个采样选项。
用于执行缺陷相关功能计算机实现方法

[发明专利]晶片边缘检测-CN200680015553.8有效
发明人： V·韦利丹德拉;A·索曼奇;R·苏塔尔曼;S·W·米克斯 -专利权人： 恪纳腾技术公司
申请日： 2006-05-05 - 公布日： 2008-04-30 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：在一个实施方案中，检测晶片(122)边缘区域的系统(110)，包括表面分析器组件，所述表面分析器组件包括将辐射束瞄准到晶片(122)表面的辐射瞄准组件；收集从所述晶片(122)表面反射的辐射的反射辐射收集组件；相对于所述晶片(122)的边缘表面(126)旋转所述表面分析器组件的装置；以及在所述晶片的边缘区域检测一个或更多个缺陷的装置。
晶片边缘检测

[发明专利]用于分类样品上的缺陷的计算机实现的方法和系统-CN200580034951.X无效
发明人： C·H·德;托马索·托雷利;多米尼克·戴维;C·杨;迈克尔·戈登·斯科特;拉里塔·A·巴拉苏布若门尼;L·高;T·黄;J·张;米哈尔·科瓦斯基;乔纳森·奥克利 -专利权人： 恪纳腾技术公司
申请日： 2005-10-12 - 公布日： 2008-02-06 - 主分类号： G06F15/00 文献下载
摘要：提供了各种用于分类样品上的缺陷的计算机实现的方法。一种方法包括基于在所述样品上检测到的各个缺陷的一种或更多种特性，将所述各个缺陷指派到缺陷组。所述方法还包括向用户显示关于所述缺陷组的信息。此外，所述方法包括允许所述用户向所述缺陷组中的每一个组指派分类。还提供了被配置来分类样品上的缺陷的系统。一种系统包括在处理器上可执行的程序指令，所述程序指令用于基于在所述样品上检测到的各个缺陷的一种或更多种特性，将所述各个缺陷指派到缺陷组。所述系统还包括用户界面，所述用户界面被配置来向用户显示关于所述缺陷组的信息，并且允许所述用户向所述缺陷组中的每一个组指派分类。
用于分类样品缺陷计算机实现方法系统

[发明专利]生成用于生成掩模版的仿真图像的仿真程序的输入的计算机实现的方法-CN200580024690.3无效
发明人：拉里·史蒂文·泽布里克;哈罗德·威廉·莱霍恩 -专利权人： 恪纳腾技术公司
申请日： 2005-07-14 - 公布日： 2007-07-18 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：提供了各种计算机实现的方法。一种生成用于仿真程序的输入的计算机实现的方法包括将关于在已部分制造的掩模版上检测到的缺陷的信息与关于指派给所述掩模版邻近所述缺陷的区域的相位的信息相组合。所述相位要在与所述缺陷在其上被形成的层次不同的层次上被添加到掩模版。所述缺陷在所述相位被添加到掩模版之前在掩模版上被检测到。另一种计算机实现的方法包括生成掩模版上的缺陷的仿真图像，其中使用了通过检查所述掩模版的一个层次而生成的关于所述缺陷的信息，并结合关于掩模版的不同层次的信息。
生成用于模版仿真图像程序输入计算机实现方法

[发明专利]动态参考平面补偿-CN200610080724.7无效
发明人：哈拉尔德·赫斯;汤姆·卡尔;罗曼·萨裴 -专利权人： 恪纳腾技术公司
申请日： 2006-05-15 - 公布日： 2006-11-22 - 主分类号： G01B11/02 文献下载
摘要：在一个实施方案中，一种动态参考平面补偿的方法包括将来自第一辐射源的辐射照射到物体(230)的表面(232)上，根据从所述表面(232)上的第一位置反射的辐射，以及从第二位置反射的辐射生成未补偿测量信号；根据从所述表面(232)上的第三位置和第四位置反射的辐射生成补偿信号；并且使用所述未补偿测量信号和所述补偿信号生成补偿后测量信号。
动态参考平面补偿

[发明专利]受扰环境中的干涉测量-CN200610078709.9无效
发明人：罗曼·萨裴 -专利权人： 恪纳腾技术公司
申请日： 2006-05-10 - 公布日： 2006-11-15 - 主分类号： G01B11/02 文献下载
摘要：在实施方案中描述了用于在受扰环境中进行干涉测量的技术。受扰环境(106)可以包括一种或更多种变化，例如压强变化和/或温度变化。在一个实施方案中，检测第一光束(108)的光程和第二光束(110)的光程之间的差。第一或第二光束中的一束或更多束可以在靠近受扰环境的地方被封闭在护罩(114)中。该方法还可以在靠近受扰环境的地方将窗(116)耦合到护罩，例如，以减小受扰环境的负面影响。
环境中的干涉测量

[发明专利]使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统-CN200480025041.0有效
发明人：保罗·弗兰克·马雷拉;沙伦·麦考利;埃利斯·张;威廉·沃尔克;詹姆斯·威利;斯特林·沃森;萨加尔·A·克卡尔;卡尔·赫斯 -专利权人： 恪纳腾技术公司
申请日： 2004-07-02 - 公布日： 2006-10-11 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：提供了一种使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统。一种计算机实现的方法包括基于检查掩模版所产生的检查数据，标识晶片上的干扰缺陷，在检查所述晶片之前，使用所述掩模版在所述晶片上形成图形。另一种计算机实现的方法包括通过结合代表掩模版的数据分析检查晶片所产生的数据来检测晶片上的缺陷，代表掩模版的数据包括标识所述掩模版不同类型部分的标记物。再一种计算机实现的方法包括基于更改了晶片上形成的器件的特性的缺陷，确定用来处理晶片的制造工艺的性能。又一种计算机实现的方法包括基于检查晶片所产生的数据，更改或者模拟集成电路设计的一个或更多个特性。
使用设计者意图数据检查晶片模版方法系统

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