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- [发明专利]低K介电薄膜的制法-CN200480018730.9无效
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A·屈恩勒;C·约斯特;H·劳勒德;C·伦特罗普;R·范达姆;K·蒂默;H·菲舍尔
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德古萨公司
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2004-06-02
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2006-08-09
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H01L21/312
- 本发明涉及制造用于半导体或电路的低k介电薄膜的方法，包括：为了制造该薄膜而使用下式的不完全缩合的多面体低聚倍半硅氧烷：[(RaXbSiO1.5)m(RcYdSiO) n]，其中：a，b＝0－1；c，d＝1；m+n≥3；a+b＝1；n，m≥1，R＝氢原子或烷基、环烷基、链烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基或杂芳基，在所有情况下是取代的或未取代的，X＝氧代、羟基、烷氧基、羧基、甲硅烷基、甲硅烷氧基、卤素、环氧、酯、氟烷基、异氰酸酯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、腈、氨基或膦类基团，或者含至少一个这种X型基团的R型取代基，Y＝羟基、烷氧基或O－SiZ1Z2Z3型取代基，其中Z1、Z2和Z3是氟烷基、烷氧基、甲硅烷氧基、环氧、酯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或腈类基团，或者R型的取代基，而且它们相同或不同，不仅R型的取代基是相同或不同的，而且X和Y型的取代基在所有情况下是相同或不同的，并且含有至少一个羟基作为Y型的取代基，并涉及这种方法制造的低k介电薄膜。
- 薄膜制法
- [发明专利]有机官能硅氧烷嵌段缩合物,它们的制备和用途,以及它们的性能-CN200580000494.2无效
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E·朱斯特;S·吉斯勒;B·施坦德克
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德古萨公司
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2005-06-03
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2006-07-19
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C08L83/04
- 本发明涉及一种组合物，其包含(i)至少一种以通式I的有机官能硅氧烷嵌段缩合物[F]e[QcPb]d(I)和/或(ii)至少一种由e[F]和d(c[Q]+b[P])和适当的d[QcPb]组成的混合物。这些组合物或嵌段缩合物，可通过嵌段单元F与嵌段单元Q、P和/或QP的反应，通过如下方法之一得到：c1)任选地用醇稀释嵌段单元F，加入有机或无机酸和每摩尔使用的硅氧烷的Si 0.5－150mol的水，因此所使用嵌段单元发生至少部分水解，然后加入嵌段单元Q和嵌段单元P，并使混合物反应；或c2)任选地用醇稀释嵌段单元F，与Q、P和/或嵌段单元QP混合，然后加入有机或无机酸和使用每摩尔使用的硅氧烷的Si 0.5－150mol的水，进行部分水解和嵌段缩合；或c3)任选地用醇稀释嵌段单元F，加入有机或无机酸和每摩尔使用的硅氧烷的Si 0.5－150mol的水，进行至少部分水解，加入嵌段单元QP并使混合物反应；或c4)任选地用醇稀释嵌段单元Q、P和/或QP，加入有机或无机酸和每摩尔使用的硅氧烷的Si 0.5－1.5mol的水，和进行至少部分水解，然后加入嵌段单元F和每摩尔使用的硅氧烷的Si 0－148.5mol的水，和使混合物进行反应；或c5)任选地用醇稀释嵌段单元F，与每摩尔使用的硅氧烷的Si0.5－150mol的水混合以及与有机或无机酸混合，然后加入四烷氧基硅氧烷，并使混合物反应。本发明还涉及制备这些组合物或嵌段缩合物的方法，涉及它们的用途以及涉及可因此得到的物品：耐磨易洁涂层和装备有此类涂层的物品。
- 有机官能硅氧烷嵌段缩合它们制备用途以及性能
- [发明专利]N－取代的氨基聚硅氧烷的稳定溶液、其制备及用途-CN200580000416.2有效
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B·施坦克;P·延克纳
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德古萨公司
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2005-05-12
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2006-06-14
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C08L83/08
- 本发明提供稳定、低氯化物、具有以下通式(I)的有机酸与阳离子N－取代氨基聚硅氧烷的含氢酸盐的溶液：其中，基团R彼此独立地各自为苄基或乙烯基苄基，基团Y为相同的或不同的，并且Y是烷氧基或羟基或O1/2，A为有机羧酸，而0≤a≤2，0≤b≤1，c≥0.125，0.125≤(a+b)≤3，x≥2，所述含氢酸盐基本上以T结构单元的形式存在于低级醇中。通过相应的阳离子N－取代氨基聚硅氧烷的盐酸盐与NaOH或醇钠盐或与有机羧酸A的钠盐反应，及沉淀和去除NaCl来进行制备。所述溶液被用作有机和无机表面之间的粘结促进剂、用于用无机填料、玻璃纤维或金属颗粒增强有机聚合物，或用于用有机聚合物涂覆无机表面，其中获得了厚度最高至800nm的氨基聚硅氧烷涂层。
- 取代氨基聚硅氧烷稳定溶液制备用途
- [发明专利]有机官能化硅氧烷混合物-CN200480012997.7有效
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D·巴福尔特;H·马克
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德古萨公司
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2004-03-18
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2006-06-14
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C08G77/26
- 本发明涉及包括通式I链状、支化和/或环状硅氧烷的混合物：RxSiO(4－x)/2 (I)式中：x是1、2或3，取代基R是(i)选自下列基团中的有机官能团：－CH2－SH，－CH2－S－(CO)－R’,－CH2－CN，－CH2－NCO，－CH2－NH－(CO)－NH2，－CH2－(O－C2H4)a－OH，其中a＝1－10，－CH2－(O－C2H4)b－OR’，其中b＝1－40,－(CH2)－NH2，－(CH2)－NHR’,－(CH2)－NR’2,－(CH2)－NH(CH2)2－NH2，－(CH2)－N[(CH2)2－NH2]2和－(CH2)－NH(CH2)2－NH(CH2)2－NH2，其中R’是具有1－18个碳原子的线性、支化或环状烷基或者具有6－12个碳原子的芳基，(ii)羟基、甲氧基、乙氧基、2－甲氧基乙氧基、异丙氧基、正丙氧基、异丁氧基和/或正丁氧基，和(iii)如果适当，具有1－18个碳原子的烷基、链烯基、异烷基、环烷基或氟烷基或者具有6－12个碳原子的芳基，前提是每硅原子连接不超过一个有机官能团(i)，结构部分(ii)与硅的摩尔比的商是1－2，以及通式I的化合物的低聚度是2－50。本发明还涉及制备所述硅氧烷混合物的特定方法和它们的用途。
- 有机官能化硅氧烷混合物
- [发明专利]热塑性塑料用透明母料-CN200480012792.9无效
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A·屈恩勒;C·约斯特
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德古萨公司
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2004-03-18
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2006-06-14
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C08J3/22
- 本发明涉及一种改进热塑性塑料表面性能的透明母料，所述母料含有：10％～60wt％符合下式的多面低聚硅－氧簇单元[(RaXbSiO1.5)m(RcXdSiO) n(ReXfSi2O2.5) o(RgXhSi2O2) p]其中：a，b，c＝0－1；d＝1－2；e，f，g＝0－3；h＝1－4；m+n+o+p≥4；a+b＝1；c+d＝2；e+f＝3和g+h＝4；R＝氢原子、烷基、环烷基、链烯基、环烯基、炔基、环炔基基团或者聚合物单元，每一个可以是取代或未取代的，或者进一步官能化的多面低聚硅－氧簇单元，通过聚合物单元或桥联单元连接，X＝氧基、羟基、烷氧基、羧基、甲硅烷基、烷基甲硅烷基、烷氧基甲硅烷基、硅氧基、烷基硅氧基、烷氧基硅氧基、甲硅烷基烷基、烷氧基甲硅烷基烷基、烷基甲硅烷基烷基、卤素、环氧、酯、氟烷基、异氰酸酯、封堵的异氰酸酯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、腈、氨基、膦或聚醚基团或者含有至少一个此类型X基团的类型R的取代基，类型R的取代基相同或不同并且类型X的取代基相同或不同，以及40％～ 90wt％热塑性载体材料，涉及一种透明热塑性塑料及其生产方法。
- 塑性塑料透明
- [发明专利]制备硅烷的装置和方法-CN200580000298.5有效
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R·宗南沙因;P·阿德勒;T·佩普肯;J·卡斯尼茨
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德古萨公司
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2005-07-21
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2006-05-17
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C01B33/04
- 本发明涉及在催化剂存在下通过歧化至少一种相对高氯化度的硅烷从而制备通式为HnSiCl4－n的硅烷(n＝1、2、3或4)的装置，该装置基于至少一个蒸馏塔(1)，该蒸馏塔有塔底(1.1)和塔顶(1.2)，至少一个带有催化剂床(3)的侧反应器(2)，至少一个进料口(1.3)，一个产物出口(1.4)和至少一个另外的产物出口(1.5或1.8)，其中蒸馏塔(1)上装备至少一个升汽管型盘(4)，至少一个侧反应器(2)与蒸馏塔(1)经至少3个管线(5，6，7)以这样的方式相连接，即管线(5)到蒸馏塔(1)用于从升汽管型盘(4，4.1)排出冷凝物的，连接点处于高于催化床(3，3.1或3.2)上边缘的高度上，从侧反应器(2)排出液相的管线(6)通到(6.1)蒸馏塔(1)升汽管型盘(4)下，该开口(6，6.1)处于低于催化剂床(3，3.1或3.2)上边缘的高度上，从相连的侧反应器(2)中排出气相的管线(7)通入(7.1)到蒸馏塔(1)中高于升汽管型盘(4)的高度(4.1)上方。此外，本发明还提供了在本发明的装置中制备所述硅烷的方法。
- 制备硅烷装置方法
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