专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种分子印迹聚合物及其制备和应用-CN201611115303.3有效
  • 陈吉平;彭俊钰;孙晓丽;王金成;黄超囡;孙昊 - 中国科学院大连化学物理研究所
  • 2016-12-07 - 2020-04-28 - C08F222/14
  • 本发明提供了一种通过加入位阻单体的来制备高选择性双酚类替代模板分子印迹聚合物的方法及聚合物的应用。材料按如下的步骤制备:将替代模板分子、交联剂、功能单体、位阻单体和引发剂溶于致孔剂中,形成均一的预聚合溶液,溶液在低温的条件下放置一段时间后,在50‑70℃下聚合反应20‑48h。聚合反应生成的白色块状聚合物经过研磨、筛分、沉降后,得到粒径为38‑63um的聚合物颗粒。将得到的颗粒使用甲醇/乙酸混合液或甲醇为提取剂,进行索氏提取,除去聚合物中的替代模板及未反应的物质,得到分子印迹聚合物。该发明加入的位阻单体增强了聚合物对双酚类的化合物特异选择性和富集能力,同时还提高材料对干扰物的抗干扰能力。
  • 一种分子印迹聚合物及其制备应用

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