专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]GaN基CMOS反相器及其制备方法-CN202310787116.3在审
  • 孙海定;张昊宸;邢展雍 - 中国科学技术大学
  • 2023-06-29 - 2023-09-15 - H01L21/8252
  • 本公开提供一种GaN基CMOS反相器的制备方法,包括:在衬底上生长GaN通道层;在GaN通道层上生长势垒层;在势垒层上生长渐变帽层,形成半导体基材结构;在中间区域对半导体基材结构进行隔离,得到左侧区域和右侧区域;分别对左侧区域和右侧区域的渐变帽层进行选择性刻蚀,得到N‑channel常关型场效应晶体管结构和P‑channel常关型场效应晶体管结构;分别在N‑channel常关型场效应晶体管结构和P‑channel常关型场效应晶体管结构上制备介质层;以及制备栅极电极、源极电极和漏极电极。同时,本公开还提供一种GaN基CMOS反相器。
  • gancmos反相器及其制备方法
  • [发明专利]宽光谱光电探测器及其制备方法-CN202310680477.8在审
  • 孙海定;张昊宸;胡坤朋 - 中国科学技术大学
  • 2023-06-08 - 2023-09-05 - H10K71/12
  • 本公开提供一种宽光谱光电探测器及其制备方法,制备方法包括:在衬底上生长紫外感光层;在紫外感光层上制备叉指电极结构,该叉指电极结构为非对称叉指电极结构;在制备了叉指电极结构的器件表面旋涂有机半导体材料形成有机感光层;以及在有机感光层表面旋涂有机材料形成有机封装层,得到宽光谱光电探测器。该宽光谱光电探测器能够实现深紫外光‑可见光‑近红外光的宽光谱光电响应,拓展了GaN基光电探测器的应用场景,为宽光谱光电应用如宽光谱成像、光通信等奠定了条件。
  • 光谱光电探测器及其制备方法
  • [发明专利]氮化镓基晶体管-CN202310678628.6在审
  • 孙海定;张昊宸 - 中国科学技术大学
  • 2023-06-09 - 2023-09-01 - H01L29/207
  • 本公开提供一种氮化镓基晶体管,包括:底部结构;背势垒层,设置在底部结构上,背势垒层采用铝元素、镓元素、铟元素与氮元素组合的二元、三元或四元合金,背势垒层的铝元素组分沿背势垒层的生长方向递减,以改变氮化镓基晶体管沟道处的能带结构;沟道层,设置在背势垒层上,沟道层用于提供电流横向流通的通道;势垒层,设置在沟道层上,势垒层用于与沟道层形成异质结,通过极化效应在异质结的界面处形成二维电子气;其中,背势垒层用于限制电子在沟道层中传输,以抑制电流分散。
  • 氮化晶体管
  • [发明专利]日盲紫外光电化学光探测器及其产品-CN201911205955.X有效
  • 孙海定;汪丹浩;黄晨;张昊宸 - 中国科学技术大学
  • 2019-11-29 - 2022-05-13 - G01J1/42
  • 本发明公开了一种日盲紫外光电化学光探测器,包括光电极,其特征在于,光电极包括衬底,还包括生长在衬底表面的p型/n型掺杂氮化镓(Gallium Nitride,简称GaN)基纳米线。另外,通过在GaN基纳米线上修饰助催化剂纳米颗粒,优化了分子的吸脱附过程,提高了光电极在溶液中的氧化还原反应速率。同时,进一步优化光电化学装置设计,改变电解质溶液环境,最终实现高响应度、灵敏度高、快速反应、经济环保、自供能(无需外加额外电能)的新型日盲紫外光电化学光探测器。本发明开创性的将氮化镓基纳米线应用于光电化学光探测器的研究中,具有十分重要的意义。
  • 紫外光电化学探测器及其产品
  • [实用新型]一种新型AlGaN基多沟道场效应晶体管-CN202021936515.X有效
  • 孙海定;张昊宸;宋康;邢宠 - 中国科学技术大学
  • 2020-09-07 - 2021-03-09 - H01L29/778
  • 本实用新型提供了一种新型AlGaN基多沟道场效应晶体管,所述晶体管包括:衬底、AlN缓冲层、背势垒层、多量子阱结构、GaN帽层、源电极、漏电极和栅电极,多量子阱结构为N层铝组分渐变的AlGaN沟道层和设置在每两层铝组分渐变的AlGaN沟道层之间的AlN量子垒层,N≥2。本实用新型利用极化诱导掺杂,实现了异质结界面处高密度二维电子气或二维空穴气、以及铝组分渐变的AlGaN沟道层内的三维电子气或三维空穴气的结合,有利于器件的高频、大电流应用;利用背势垒实现了更有效的载流子限制作用,有效减小器件漏电,实现器件更好的关态击穿特性和开态大偏压下的电流饱和。
  • 一种新型algan基多沟道场效应晶体管
  • [发明专利]一种新型AlGaN基多沟道场效应晶体管-CN202010932008.7在审
  • 孙海定;张昊宸;宋康;邢宠 - 中国科学技术大学
  • 2020-09-07 - 2020-10-30 - H01L29/778
  • 本发明提供了一种新型AlGaN基多沟道场效应晶体管,所述晶体管包括:衬底、AlN缓冲层、背势垒层、多量子阱结构、GaN帽层、源电极、漏电极和栅电极,多量子阱结构为N层铝组分渐变的AlGaN沟道层和设置在每两层铝组分渐变的AlGaN沟道层之间的AlN量子垒层,N≥2。本发明利用极化诱导掺杂,实现了异质结界面处高密度二维电子气或二维空穴气、以及铝组分渐变的AlGaN沟道层内的三维电子气或三维空穴气的结合,有利于器件的高频、大电流应用;利用背势垒实现了更有效的载流子限制作用,有效减小器件漏电,实现器件更好的关态击穿特性和开态大偏压下的电流饱和。
  • 一种新型algan基多沟道场效应晶体管

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