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[发明专利]一种基于光刻工艺实现阵列图案的方法-CN202010255053.3有效
发明人：张凡;张妮伟;黄望林;向运来;李耀耀;芦鹏飞 -专利权人：超晶科技(北京)有限公司
申请日： 2020-04-02 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本申请公开了一种基于光刻工艺实现阵列图案的方法，涉及图案设计及图案制备领域。本申请根据所需制备图案特征，首先选择与新图案尺寸相匹配的光刻掩膜版；然后采用光刻工艺在垂直性好的光刻胶上进行初始图案化，在衬底上形成一层具有功能化阵列镂空图案的光刻胶；进一步选择非垂直镀膜的工艺方法，在上一步初始图案上进行目标材料一层或多层的沉积；最后选择去胶液或丙酮剥离得到目标设计的图案阵列。通过上述工艺，本申请能够减少光刻图案对掩膜版的依附性和降低光刻工艺成本，同时还可以实现复杂图案，且提高良率。本申请还可应用于光电半导体领域，解决相关技术中无法形成像素电极图案的问题，而且可应用于半导体器件中制造精细图案的工艺。
一种基于光刻工艺实现阵列图案方法

[发明专利]多色大面阵红外探测器及其制备方法-CN202010243616.7有效
发明人：王庶民;张凡;张妮伟;路小康;吴俊;芦鹏飞 -专利权人：超晶科技(北京)有限公司
申请日： 2020-03-31 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： G01J5/06 文献下载
摘要：本申请公开了一种多色大面阵红外探测器及其制备方法，涉及半导体光电子领域。探测器包括探测器外壳、光学窗片、转动轴、传动轴、滚筒、多组焦平面芯片封装杜瓦装置、制冷装置、固定轴、电刷、镜头、信号处理电路和显示器。本申请将不同探测波段的焦平面芯片封装于不同杜瓦中，然后将焦平面芯片封装杜瓦装置按照一定的轴向对称方式排布焊接于滚筒的轴面上，通过滚筒的转动实现不同波段的探测，最终实现多色红外探测图像成像图。本申请仅通过单色焦平面芯片封装杜瓦装置阵列镶嵌和并列连接就可实现多色，节省工艺时间，实现低成本。此外，本申请多色大面阵红外焦平面探测器还能够根据实用领域实现不同波段波长耦合和信号输出。
多色大面红外探测器及其制备方法

[发明专利]实现低温镀膜的热蒸发设备及低熔点的薄膜材料-CN202010236693.X在审
发明人： 张妮伟;张凡;王庶民;李嘉;张焱超;芦鹏飞 -专利权人：超晶科技(北京)有限公司
申请日： 2020-03-30 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本申请公开了一种实现低温镀膜的热蒸发设备及低熔点的薄膜材料，涉及半导体领域。本申请采用热蒸发方式镀膜，提供低温生长环境的设备，包括生长腔室、载片腔室和源炉腔室，且每个腔室相互独立保证每次镀膜时生长腔室内真空环境的稳定性。载片腔室中载片装置外接马达，实现载片装置上下移动和旋转，同时在待镀基片装置周围安置制冷装置，通过气体制冷或冷却液制冷方式对镀膜衬底维持一个稳定且较低的温度。故本申请针对具有较低熔点的镀膜材料，有效降低热蒸发镀膜过程中因衬底温度原因导致的侧向生长，间接提高薄膜致密性和均匀性，具有整个生长镀膜工艺简单和制备成本低廉的优点。
实现低温镀膜蒸发设备熔点薄膜材料