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[实用新型]调温设备和真空组件-CN202122108845.0有效
发明人：约亨·克劳瑟;延斯·梅尔歇尔;鲁本·帕泰拉 -专利权人：冯·阿登纳资产股份有限公司
申请日： 2021-09-02 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：根据不同的实施方式，调温设备可以具有：台架(102)，该台架具有用于将需调温处理的构件紧固在台架(102)的一侧(101a)的紧固设备(102b)；面向所述侧(101a)的传热壁(104)，其用于与构件交换热能；与传热壁(104)接界的空腔(111)；两个流体接口(108a，108b)，它们借助空腔(111)相互输送流体地联接；机械式的变换器(106)，该变换器设置为，作为对该机械式的变换器(106)所经受的压力变化的响应，在台架(102)与传热壁(104)之间传递力。
调温设备真空组件

[发明专利]基板保持装置、基板运送装置、处理布置和用于处理基板的方法-CN201580074610.9有效
发明人：罗伯特·库纳恩泽;延斯·梅尔歇尔;格奥尔格·拉伊梅尔;比约恩·霍恩博斯特尔;克里斯托夫·霍伊斯勒;埃尔文·奇尚 -专利权人：冯·阿登纳资产股份有限公司
申请日： 2015-11-26 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：根据各个实施例，提供了一种基板保持装置(100)，其中后者可以包括以下：具有凹陷(112)的承载板(102)，所述凹陷(112)从所述承载板(102)的上侧(102a)延伸通过所述承载板(102)到达所述承载板(102)的下侧(102b)；保持框(132a)，其具有框开口(132)和围绕所述框开口(132)的用于将基板(120)保持在所述凹陷(112)中的支撑区域(111a)；其中插入所述凹陷(112)中的所述保持框(132a)部分地位于所述承载板(102)上。
保持装置运送处理布置用于方法

[发明专利]真空室装置-CN201810379176.0有效
发明人：卢茨·戈特斯曼;格奥尔格·拉伊梅尔;延斯·梅尔歇尔 -专利权人：冯·阿登纳资产股份有限公司
申请日： 2018-04-25 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：一种真空室装置(100)，其具有：真空室(102)，其具有第一供应通道(102v)；基板保持装置(104)，其具有用于保持和定位至少一个基板的基板保持器(110)和用于向基板保持器(110)供应至少一种供应介质的真空密封的供应壳体(108)，其中供应壳体(108)具有第二供应通道(108v)；支承装置(106)，基板固定装置(104)借助于该支承装置被可移动地支撑在真空室(102)内；以及供应软管(112)，其将第一供应通道(102v)连通至第二供应通道(108v)。
真空装置

[发明专利]用于涂覆平坦基底的一侧或两侧的伸长真空系统-CN200480032848.7无效
发明人：沃尔夫冈·埃尔布卡姆;迪特马尔·舒尔策;延斯·梅尔歇尔;奥拉夫·加韦 -专利权人：冯阿德纳设备有限公司
申请日： 2004-11-04 - 公布日： 2007-01-24 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于涂覆平坦基底的一侧或两侧的伸长真空系统，所述基底被所述系统移动。所述真空系统包括至少一个具有磁控管周围区域的磁控管，并且沿基底的输送方向，真空系统被能够密封的分隔壁分为连续的隔间。通过位于隔间上的真空端部能够直接排空隔间，或者通过分隔壁上的抽吸口间接排空隔间。至少一个隔间包括上方局部隔间，其位于基底上方，所述局部隔间在其至少一个外壁内包括能够密封的上方开口。本发明的目的是，制造伸长真空系统，根据不同的一侧和两侧涂覆处理的要求进行灵活应用，并且在所述系统内进行该处理，所述系统确保稳定、可区分并且过程优化的溅射气氛。通过这样的事实实现该目的，在至少其中一个上方局部隔间内能够安装水平和/或竖直部件，用于将所述上方局部隔间分为数个子隔间。
用于平坦基底一侧两侧伸长真空系统

[发明专利]用于涂覆细长基底的真空涂覆系统-CN200480032733.8无效
发明人：奥拉夫·加韦;延斯·梅尔歇尔;斯特芬·莱斯曼;埃尔温·奇尚 -专利权人：冯阿德纳设备有限公司
申请日： 2004-11-04 - 公布日： 2006-12-13 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于涂覆细长基底的真空涂覆系统，所述涂覆系统具有一个或数个涂覆部件和一个或数个泵部件，至少一个磁控管在所述涂覆系统中作为基底上方的向下溅射物体，所述物体具有与基底上侧相对的靶表面和/或包括作为基底下方的向上溅射物体的配置，所述物体具有与基底下侧相对的靶表面，所述涂覆系统还具有输送装置。本发明的目的是形成一种用于细长基底双侧涂覆的串接的涂覆系统，其中，结构成本和空间需要降低。通过这样的事实实现本发明的目的，即，输送装置(9)以分开的方式布置在驱动平台(10)和输送平台(11)上，以这种方式设置驱动平台(10)，在向上溅射物体内，包括磁控管(4)的磁控管主体的下侧位于驱动平台(10)的上方。
用于细长基底真空系统