专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]多层印刷基板及其制造方法-CN200880132398.7有效
  • 座间悟;大贺贤一 - 古河电气工业株式会社
  • 2008-12-19 - 2011-11-23 - H05K3/46
  • 本发明公开一种多层印刷基板(10),其将分别具有通孔(11)、形成于单面的导体图案(12)、在通孔的内壁与导体图案(12)一体形成的导电通孔(14)的树脂膜(15)设为上下方向相同重合多个而成。在多个树脂膜(15)中邻接的两个树脂膜间分别设有与相面对的导体图案(12)及导电通孔(14)金属间结合的导电体(23)。在邻接的两个树脂膜间不夹设其它树脂膜,而在各树脂膜的导体图案(12)间的层间连接经由与导体图案(12)一体的导电通孔(14)及导电体(23)而进行。
  • 多层印刷及其制造方法
  • [发明专利]多层印刷基板及其制造方法-CN200880122597.X有效
  • 座间悟;大贺贤一;橘昭赖 - 古河电气工业株式会社
  • 2008-12-19 - 2010-12-08 - H05K3/46
  • 多层印刷基板(10)具备3个单面导体图案薄膜(16),该3个单面导体图案薄膜(16)分别具有形成于具有贯通孔(11)的树脂薄膜(12)的单面的导体图案(13)、及在贯通孔(11)中与导体图案(13)一体地填充形成有导体(14)的填充贯通孔(15)。这些单面导体图案薄膜(16)以上下方向相同的方式来重叠。各单面导体图案薄膜(16)的导体图案(13)是经由填充贯通孔(15)来电连接。由于各单面导体图案薄膜(16)的导体图案(13)是经由填充贯通孔(15)来层间连接,因此层间连接可靠性高。
  • 多层印刷及其制造方法
  • [发明专利]贴金属箔层叠体及贴金属箔层叠体的制造方法-CN200880008031.4有效
  • 座间悟;大贺贤一 - 古河电气工业株式会社
  • 2008-03-17 - 2010-01-20 - B32B15/08
  • 本发明提供一种贴金属箔层叠体的制造方法,其是具有薄膜以及包含基底层与上部层的金属层的贴金属箔层叠体的制造方法,其特征在于,具备:(a)在所述薄膜表面的至少一部分,通过镀敷形成所述基底层的工序;(b)在通过所述工序(a)所形成的第1层叠体,通过镀敷形成所述上部层的工序;及(c)对通过所述工序(b)所形成的第2层叠体进行热处理的工序;所述薄膜为具有挠性的热塑性高分子薄膜;所述基底层为镍合金;所述上部层为铜;通过所述工序(a)及所述工序(b)所形成的镀敷被膜在所述工序(c)之前具有压缩应力,并通过所述工序(c)使贴金属箔层叠体在薄膜平面方向收缩。
  • 贴金层叠制造方法
  • [发明专利]贴有金属的层叠体的制造方法-CN200780036947.6无效
  • 大贺贤一;座间悟 - 古河电气工业株式会社
  • 2007-10-03 - 2009-09-02 - C25D5/50
  • 提供在具有可挠性的高分子薄膜的表面形成金属层的平坦性优异的贴有金属的层叠体的制造方法。并明确了通过将对具有可挠性的高分子薄膜表面的至少一部分形成金属层的贴有金属的层叠体,自加热直到冷却的期间,一直以负载能够将层叠体维持在平坦形状的范围内的张力的状态进行热处理与冷却处理,能够抑制层叠体的翘曲。另外,明确了在热处理中所负载的张力是在张力方向的基材高分子薄膜的抗拉强度的0.03~0.3%,能够使得到的贴有金属的层叠体不会产生伸长变形或断裂,而抑制翘曲。
  • 金属层叠制造方法
  • [发明专利]层合电路基板-CN200610110912.X无效
  • 铃木裕二;菊池勇贵;座间悟 - 古河电路铜箔株式会社;古河电气工业株式会社
  • 2006-07-31 - 2007-02-07 - H05K3/38
  • 本发明提供使用含低熔点金属的导电性糊料的层合电路基板,该层合电路基板中在铜箔与含低熔点金属的导电性糊料的交界面不发生空隙、裂缝,连接可靠性高。本发明的层合电路基板中,在铜箔或铜合金箔的至少一面的表面粗糙度为0.1μm~5μm的原料箔上形成由平均附着量在150mg/dm2以下、表面粗糙度为0.3~10μm的突起物构成的粗化处理层,在所述粗化处理铜箔的该粗化处理层上设有含低熔点金属的导电性糊料,所述表面处理铜箔与树脂基板层合。
  • 层合电路基

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