专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种基于可见光吸收光谱技术对臭氧浓度检测的装置-CN201420040263.0有效
  • 应朝福;王理明;韩影;邵杰 - 浙江师范大学
  • 2014-01-17 - 2014-08-13 - G01N21/31
  • 本实用新型涉及光学检测应用于水处理领域,特别涉及一种基于可见光吸收光谱技术对臭氧浓度检测的装置,它包括:He-Ne激光器,反射镜,扩束镜,气体流量计,输气管,臭氧瓶,气体吸收池,会聚透镜,探测器一,需要消毒的灌装矿泉水,准直透镜,探测器二,计算机。本实用新型改变传统的用紫外光源的方法测臭氧的浓度,采用发光比较稳定、波长单一的He-Ne激光器作光源,虽然臭氧对该波长的吸收强度不大,但是避免了采用紫外光源所存在的强的紫外线会激发空气产生臭氧,影响最后浓度的计算误差,从而有效的检测出臭氧的浓度,并用于检测并控制灌装矿泉水的臭氧浓度,从而控制溴酸盐的浓度不超标。
  • 一种基于可见光吸收光谱技术臭氧浓度检测装置
  • [实用新型]一种基于腔衰荡吸收光谱技术检测爆炸物TATP的装置-CN201320265306.0有效
  • 应朝福;王理明;郭杰;韩叶星;邵杰 - 浙江师范大学
  • 2013-05-08 - 2013-12-25 - G01N21/35
  • 本实用新型公开一种基于腔衰荡吸收光谱技术检测爆炸物TATP的装置,涉及爆炸物监测技术领域,所要解决的是有效的检测爆炸物TATP的存在,该装置包括量子级联激光器、抛物面镜、全反镜、透镜、光学谐振腔、进气口、三通阀、红外探测器、放大器、计算机、待测的样品、激光器的底座。由于TATP的挥发性,气体样品从进气口进入谐振腔内,腔体内的激光束是由量子级联激光器发出的,通过抛物面镜,全反射镜和透镜的作用使光进入谐振腔体内,光在腔体内多次的通过待测气体,然后通过红外探测器和放大器得到气体在特定波段的特征吸收光谱,从而判断是否有TATP的存在。本实用新型与以往的检测设备相比提高了检测设备操作的简单性、灵敏性、准确性,具有方便快捷的优点。
  • 一种基于腔衰荡吸收光谱技术检测爆炸物tatp装置
  • [实用新型]基于激光吸收光谱技术的高温测量及温度场重建的装置-CN201320136230.1有效
  • 应朝福;王理明;邵杰;韩叶星 - 浙江师范大学
  • 2013-03-17 - 2013-09-25 - G01K11/00
  • 本实用新型公开一种基于激光吸收光谱技术的高温测量及温度场的重建的装置,是基于可谐调的半导体激光光谱吸收技术来测量温度,然后用计算机断层扫描技术来实现温度场重建,利用波分复用技术,在同一光路中同时扫描多条吸收谱线,从而增加了气体投影信息,大大减少了重建所需的光路数量,并通过数值计算对重建结果进行了分析。该装置采用了固定的光路测量方式,在待测的温度场周边的六个不同方向分别安装光纤准直器和与其相对应的探测器,为了避免了仪器旋转的不稳定性。本实用新型的装置具有极高的选择性和极快的响应速度,这种测温方法和利用计算机断层扫描技术解决温度场图像重建具有非接触测量、快捷、准确、可行的特点。
  • 基于激光吸收光谱技术高温测量温度场重建装置
  • [发明专利]监测牛奶中是否含有三聚氰胺的检测报警系统-CN201310209582.X在审
  • 彭保进;汪露;邵杰;应露娜;应朝福 - 浙江师范大学
  • 2013-05-31 - 2013-09-18 - G01N21/64
  • 本发明公开了一种监测牛奶中是否含有三聚氰胺的检测报警系统,该系统包括波长为467nm的LED光源、牛奶样品池、透镜、540nm的滤光片、540nm的PIN管、采集卡、计算机和报警装置,所述LED光源发出的光经透镜汇聚到牛奶样品中,牛奶样品中产生荧光,荧光在各个方向都有发射,在样品池四周放置球面镜,在与入射光垂直的方向上探测其荧光,这样可以排除来自激发光本底的干扰,荧光经透镜汇聚到540nm的滤光片上,荧光强度在波长为540nm处达到最大值,再经透镜汇聚到540nmPIN管中,由PIN管探测到的荧光信号经过放大电路的处理变为电信号,利用采集卡采集。
  • 监测牛奶是否含有三聚检测报警系统
  • [实用新型]一种微光物镜-CN201220357512.X有效
  • 范长江;赵亚辉;任志君;金洪震;应朝福 - 浙江师范大学
  • 2012-07-14 - 2013-04-10 - G02B13/00
  • 一种微光物镜,可使用在可见和近红外宽光谱范围,所述微光物镜包括依次设置的、同光轴的第一折射透镜、第二折射透镜、第三折射透镜、第四折射透镜、第五折射透镜和第六折射透镜,第七保护玻璃平板;所述六个折射透镜之间具有间隙;在所述第二正透镜和第三正透镜之间还设置有衍射元件。本实用新型的微光物镜结构较为简单,体积较小。
  • 一种微光物镜
  • [实用新型]光的衍射实验仪-CN201020144666.1无效
  • 彭保进;张文浩;王辉;应朝福;李勇;陈洲 - 浙江师范大学
  • 2010-03-30 - 2011-08-24 - G09B23/22
  • 本实用新型属于计算机辅助教学实验设备,具体地说是一种光的衍射实验仪。由衍射装置、数据采集卡微型计算机所组成,衍射装置由激光发生器、透镜、光栅、透镜、线振CCD所组成,激光依次射过狭缝、透镜、光栅、透镜到达线振CCD上产生条纹。而数据采集卡写入有VB编写的实验数据和图像的处理软件。利用线阵CCD来采集光谱,通过VB写的实验软件对实验数据分析处理。由于CCD具有精度高、响应时间快、抗干扰能力强等优点,用其取代移测显微镜,学生可实时在计算机屏幕上观测单缝衍射条纹的光强分布,可视面大,同一时刻可供多人观察且操作方便、重复性好,学生一边调节光路,一边观察屏幕上实时显示的波形就可知道是否已调节到位.调节到位后,简单地按相应键可让计算机处理并报告和记录此时所需测量的数据。
  • 衍射实验
  • [实用新型]液体沾滞系数的测量实验仪-CN201020144717.0无效
  • 彭保进;张文浩;陈洲;应朝福;马利红;吴琼 - 浙江师范大学
  • 2010-03-30 - 2011-08-10 - G09B23/12
  • 本实用新型涉及一种液体沾滞系数的测量实验仪。是由液体沾滞系数的测量装置,采集器,微型计算机三部分组成,所述的液体沾滞系数的测量装置由透明储液筒、落球、支架、光电门所构成,透明储液筒、支架平行布置,光电门由分设在透明储液筒两侧相对的发光管和传感器构成,传感器的信息与采集器相连,采集器再与微型计算机相连;所述的传感器是光敏电阻或光电二极管。其利用计算机的并行口加入光电门控制来对小球的运动进行监视并进行计时,由计算机来判断和记录小球的下落距离和时间并储存于计算机中,而从排除了人工计时判断中存在的误差。而且在相应的软件上进行处理繁琐的实验数据。
  • 液体系数测量实验
  • [发明专利]真空蒸镀法制备巨磁阻抗薄膜的方法-CN200810120431.6无效
  • 彭保进;应朝福;万旭;叶晶;刘蕴涛 - 浙江师范大学
  • 2008-09-04 - 2010-03-10 - C23C14/24
  • 本发明涉及一种真空蒸镀法制备巨磁阻抗薄膜的方法。它采用可蒸镀各种高低熔点的金属和氧化物材料的真空镀膜机,SiO2基片经抛光打磨;氨水∶双氧水∶去离子水混合液煮沸,去离子水冲净;盐酸∶双氧水∶去离子水混合液煮沸去离子水冲净;超声波和无超声波去离子水介质常温、加温抛洗;入氮气炉烘干;在真空舱内离子枪轰击表面清洗。在低气压环境下,对玻璃基片附加磁铁,使待镀玻璃基片在镀膜的整个过程始终处于稳定磁场当中,并用补偿式控制蒸镀薄膜材料的原子量比,使蒸镀制得的成品薄膜的合金成分与期望比例一致性好的短方向具有横向单轴磁各向异性的薄膜。具有工艺简单易行,制备成本低廉,成品薄膜的合金成分与期望比例一致性好,制得的FeSiB薄膜均匀、致密、稳定、牢固的特点。
  • 真空法制磁阻薄膜方法
  • [发明专利]真空蒸镀制合金薄膜用SiO2基片清洗方法-CN200810120429.9无效
  • 彭保进;应朝福;万旭;叶晶;刘蕴涛 - 浙江师范大学
  • 2008-09-04 - 2010-03-10 - C23C14/24
  • 本发明涉及一种真空蒸镀制合金薄膜用SiO2基片清洗方法。它是(1)将基片抛光粉打磨;(2)放置于配比为:氨水∶双氧水∶去离子水为1~1.2∶2~3∶5~6的清洗液,煮沸10~20分钟,再用去离子水冲洗干净;(3)再置于容器中加入比为:盐酸∶双氧水∶去离子水为1~1.2∶2~3∶8~10的清洗液中,同样煮沸10~12分钟后用去离子水冲洗干净;(4)再放入超声波清洗机中,用去离子水为清洗介质,采用常温和控制在50~75℃超声波抛动清洗和无超声波抛动清洗3~10分钟左右;(5)放入氮气炉中烘干待用;(6)蒸镀前在真空舱内,用离子枪轰击基片的表面5~10分钟,经这样清洗的SiO2基片能使制得的FeSiB薄膜均匀、稳定、牢固。
  • 真空蒸镀制合金薄膜siosub清洗方法

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