专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]热壁式金属有机物化学气相沉积喷淋装置及工艺方法-CN201410689017.2在审
  • 甘志银;刘胜 - 广东昭信半导体装备制造有限公司
  • 2014-11-26 - 2016-06-22 - C23C16/18
  • 本发明公开了一种金属有机物化学气相沉积喷淋装置及工艺方法,主要包括喷淋、气体进口、气体输入缓冲腔、通气孔、喷淋盘、高温冷却腔和低温冷却腔等。本发明通过将高沸点喷淋冷却液加热至较高温度对喷淋进行恒温控制,提高喷淋的稳定温度,形成喷淋的热壁,以减少喷淋表面反应物气相反应的颗粒凝结沉积,避免每次生长完成后需要清洁喷淋面沉积颗粒,提高生长质量和生产效率,另外,提高喷淋的温度,缩小喷淋面和载片盘间的温度差及温度梯度,可减少自然对流,有利于层流和化学反应,并有利于提高反应效率和反应源利用效率。在喷淋顶端设置低温冷却腔,减少热壁面喷淋散失到外部空间的热量,避免热壁喷淋的高温提高环境的温度和对人员造成伤害。
  • 热壁式金属有机物化学沉积喷淋装置工艺方法
  • [发明专利]真空闸板阀-CN201410059546.4在审
  • 王明星;王亮;刘宇峰 - 广东昭信半导体装备制造有限公司
  • 2014-02-21 - 2015-08-26 - F16K3/18
  • 本发明公开了一种闸板阀,尤其是一种应用在高真空系统的真空闸板阀,主要包括密封腔、驱动板、平行四边形机构、闸板、驱动杆、导轨、截止板、后盖、密封圈槽、密封腔框架,驱动板和闸板相对平行,驱动板在导轨上滑动并通过平行四边形机构带动闸板移动,利用平行四边形原理实现闸板平稳运动,闸板在截止板处运动后,平行四边形机构变形对闸板施加压紧力以实现密封腔密封。本发明的优点是结构简单,平行四边形机构的运用使闸板在运动时保持平稳,以提高密封效果,尤其在大面积闸板阀应用中有效,同时通过平行四边形机构施加压紧力可以保证紧密密封;压紧杆也可以在较小的长度下实现足够的压紧力保证密封,可以使结构简单紧凑,节省空间和成本。
  • 真空闸板
  • [发明专利]半导体薄膜生长控制设备及控制半导体薄膜生长的方法-CN201110130744.1无效
  • 甘志银;严晗;朱海科;王亮 - 广东昭信半导体装备制造有限公司
  • 2011-05-19 - 2011-10-05 - C23C16/455
  • 本发明具体涉及一种控制半导体薄膜生长的设备及利用该设备控制半导体薄膜生长的方法。本发明的控制半导体薄膜生长的设备包括反应源管路和半导体薄膜生长反应腔,所述反应源管路包括多条进气管,进气管上设有阀门和流量控制器,阀门设置在贴近半导体薄膜生长反应腔的位置处。本发明的半导体薄膜生长的控制设备中用于半导体薄膜材料的制备,由于阀门距离半导体薄膜生长反应腔足够近,反应源和载气可以快速切换进入反应腔,薄膜生长可以快速停止或开始,从而实现精确控制薄膜厚度。本发明还可实现不同反应气体氛围的快速切换,减小过渡层生长,从而实现不同组分薄膜之间陡峭的生长界面,极大的改善了薄膜器件的性能。
  • 半导体薄膜生长控制设备方法
  • [发明专利]气相沉积设备反应腔的加热系统-CN200910049171.2有效
  • 甘志银;胡少林;王亮;陈倩翌;刘胜 - 广东昭信半导体装备制造有限公司
  • 2009-04-10 - 2010-10-13 - C23C16/48
  • 一种气相沉积设备反应腔的加热系统,包括气体A、气体B进气管道、缓冲腔、喷淋口、反应室、基座、石墨舟、加热器、排气管道,其特征在于所述加热器内的加热片位于加热片支撑盘上,其一端分别经地线电极连接柱、地线盘、地线导电支撑柱、夹具、地线电极盘与地线引出电极连接,另一端分别经火线电极连接柱、火线盘、火线导电支撑柱、夹具、火线电极盘、火线引出电极连接,加热片支撑盘、地线盘、火线盘、导电支撑柱经夹具夹持固定,隔热盘位于火线盘的下方,隔热盘的层间经连接支撑柱固定连接。本发明的优点是采用可以调节高度的多区辐射方式加热,实现快速升降温、均匀加热及温度调节,有效提高沉积物质的均匀性,从而提高了外延沉积的质量。
  • 沉积设备反应加热系统

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