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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]化学机械抛光系统和抛光衬底的方法-CN202010782692.5有效
发明人：许书斌;林任贵;巫丰印;王生城;李重佑 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2014-12-10 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明的实施例涉及化学机械抛光系统和抛光衬底的方法。公开了一种化学机械抛光的方法，包括：将浆料供应到抛光垫上；将晶圆压向所述抛光垫上，其中，第一压电层设置在压力单元和所述晶圆之间；检测所述第一压电层产生的第一电压；根据检测到的所述第一压电层产生的所述第一电压，使用所述压力单元，将所述晶圆压在所述抛光垫上；以及使用所述抛光垫抛光所述晶圆。
化学机械抛光系统抛光衬底方法

[发明专利]对准标记的制作方法及半导体结构-CN202111069547.3在审
发明人：徐煌仁;苏正熹;刘坤明;谢子逸;巫丰印 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-09-13 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本揭露描述了对准标记的制作方法及半导体结构，用于在晶圆上制作对准标记的方法包含在晶圆的第一表面区中蚀刻凹槽。在晶圆的第二表面区中形成装置结构。在晶圆的第一表面上沉积介电层并填充凹槽。进行第一平坦化程序以平坦化介电层。在第一平坦化程序之后，对晶圆的第二表面区上的装置结构进行第二平坦化程序。
对准标记制作方法半导体结构

[发明专利]制造半导体器件的方法-CN202110652211.3在审
发明人：魏宇晨;巫丰印;谢子逸 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-06-11 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： H01L21/8234 文献下载
摘要：在制造半导体器件的方法中，在衬底上方形成牺牲栅极结构。牺牲栅极结构包括牺牲栅电极。在牺牲栅极结构上方形成第一介电层。在第一介电层上方形成第二介电层。平坦化第二介电层和第一介电层并且使第二介电层和第一介电层凹进，并且牺牲栅极结构的上部暴露，而牺牲栅极结构的下部嵌入在第一介电层中。在暴露的牺牲栅极结构上方和第一介电层上方形成第三介电层。在第三介电层上方形成第四介电层。平坦化第四介电层和第三介电层，并且牺牲栅电极暴露，并且第三介电层的一部分保留在凹进的第一介电层上。去除牺牲栅电极。
制造半导体器件方法

[发明专利]抛光头，化学机械抛光系统和抛光衬底的方法-CN201410756619.5在审
发明人：许书斌;林任贵;巫丰印;王生城;李重佑 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2014-12-10 - 公布日： 2015-06-17 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：抛光头包括承载头和多个布置在承载头上的压力单元。至少两个压力单元位于相对于承载头的中轴线的同一圆周线上。本发明还涉及抛光头，化学机械抛光系统和抛光衬底的方法。
抛光化学机械抛光系统衬底方法

[发明专利]用于CMP垫调节的方法和装置-CN201210047902.1有效
发明人：叶修铭;巫丰印 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2012-02-27 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：提供了一种化学机械抛光(CMP)装置，该装置包括用于调节CMP装置的抛光垫的调节盘。该调节盘包括多个子系统盘部分。该部分可以是同心的盘区。该盘的每个部分可操作地以不同的角速度转动。在一些实施例中，除了不同的角速度之外或者代替不同的角速度，向盘的每个部分提供不同的外加负荷。本发明还提供了用于CMP垫调节的方法和装置。
用于 cmp 调节方法装置

[发明专利]提供用于夹持阶段的空气区域的系统和方法-CN201210040190.0有效
发明人：蔡蕙婷;巫丰印 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2012-02-20 - 公布日： 2012-08-22 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：一种系统，包括：夹具，在夹具的第一表面上具有固定环，第一表面和固定环为环形，固定环具有第一内圆周；压盘，具有第二表面，第二表面面向第一表面，并且能够通过操作与第一表面一起移动；以及空气区域，由第一内圆周进行限定，并且提供有效内圆周，有效内圆周与第一内圆周不同。本发明还公开了提供用于夹持阶段的空气区域的系统和方法。
提供用于夹持阶段空气区域系统方法

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