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[发明专利]校正方法、曝光方法、物品的制造方法、存储介质、光学装置以及曝光装置-CN202310445537.8在审
发明人： 崔长植;张劬 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2023-04-24 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及校正方法、曝光方法、物品的制造方法、存储介质、光学装置及曝光装置。校正方法通过驱动多个机构来校正在被成像面上成像图案的光学系统的成像误差，包括：获取工序，针对所述多个机构的各个，获取表示所述光学系统的成像相对于机构的驱动的变化程度的成像灵敏度矩阵；决定工序，通过求解规定将针对所述多个机构的各个在所述获取工序中获取的所述成像灵敏度矩阵作为矩阵元素的第1矩阵、将针对所述多个机构的各个的目标驱动量作为矩阵元素的第2矩阵及由所述成像误差的信息构成的第3矩阵的关系的方程式，针对所述多个机构的各个决定所述目标驱动量；驱动工序，按照在所述决定工序中决定的所述目标驱动量驱动所述多个机构的各个。
校正方法曝光物品制造存储介质光学装置以及

[发明专利]作为LRRK2抑制剂的吡咯并(吡唑并)嘧啶衍生物-CN201880078460.2有效
发明人：金重虎;崔长植;朴颂恩;金华实;丁东植;高钟声;金世源;李载揆 -专利权人：奥斯考泰克公司
申请日： 2018-12-03 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C07D487/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有作为LRRK2抑制剂的功效的吡咯并(吡唑并)嘧啶衍生物及一种包含其的用于预防或治疗脑退行性疾病的药物组合物。
作为 lrrk2 抑制剂吡咯吡唑嘧啶衍生物

[发明专利]光学设备、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法-CN201810838315.1有效
发明人： 崔长植 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：本发明涉及光学设备、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法。光学设备包含反射镜和被配置为使反射镜的反射表面的形状变形的多个致动器。所述多个致动器中的至少一些被布置在多个同心圆上，所述多个同心圆以当同心圆的位置被定位为越远离反射镜的反射表面的中心时同心圆被越致密地布置的方式被布置，并且，所述多个致动器中的至少一些沿同心圆的圆周方向以均等的间隔被布置。
光学设备投影光学系统曝光装置物品制造方法

[发明专利]保持装置、光刻设备和制品制造方法-CN201710350096.8有效
发明人：桥本明人;崔长植;远藤淳生 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2017-05-18 - 公布日： 2021-04-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及保持装置、光刻设备和制品制造方法。一种保持装置，构造成使用多个设置在光学元件的外周部处的保持部将光学元件保持到基座部件上的，其中多个保持部包括多个构造成以六个自由度地保持光学元件的第一保持部和构造成约束在六个自由度之中的光学元件的光轴方向上的自由度的第二保持部，并且其中由多个第二保持部用于约束光学元件的光轴方向上的自由度的力大于用于约束其它自由度的力。
保持装置光刻设备制品制造方法

[发明专利]8-溴-2-(1-甲基哌啶-4-基氨基)-4-(4-苯氧基苯基氨基)吡啶并[4,3-d]嘧啶-5(6H)-酮盐酸盐的晶体多晶型物及其制备方法-CN201980053628.9在审
发明人：金重虎;崔长植;李熙奎;朴颂恩;丁东植;崔永根;高钟声;金世源;李载揆 -专利权人：奥斯考泰克公司
申请日： 2019-08-12 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： C07D487/04 文献下载
摘要：本实施方式涉及一种8‑溴‑2‑(1‑甲基哌啶‑4‑基氨基)‑4‑(4‑苯氧基苯基氨基)吡啶并[4,3‑d]嘧啶‑5(6H)‑酮盐酸盐的晶体多晶型物及其制备方法，该晶体多晶型物能够有效抑制FLT3，并且即使高温高湿环境中具有优异的稳定性。
甲基哌啶氨基苯氧基苯基吡啶嘧啶盐酸晶体多晶及其制备方法

[发明专利]吡啶并嘧啶酮衍生物用作AXL抑制剂-CN201980043846.4在审
发明人：金重虎;崔长植;李熙奎;丁东植;朴晟皓;崔永根 -专利权人：奥斯考泰克公司
申请日： 2019-06-26 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： C07D471/04 文献下载
摘要：公开了吡啶并嘧啶酮衍生物和包含其的药物组合物，其用作Axl抑制剂，用于治疗由Axl介导的疾病或病症，例如多种类型的癌症和转移。还公开了通过向受试者施用治疗有效量的吡啶并嘧啶酮衍生物来治疗Axl介导的疾病或病症的方法。
吡啶嘧啶衍生物用作 axl 抑制剂

[发明专利]取代的嘧啶化合物及其作为SYK抑制剂的用途-CN201480065838.7有效
发明人：李载湀;崔长植;黄海淮;宋虎骏;金重虎;金世源;高钟声;李载相;李太姙;催永根;朴晟皓;李仁溶;徐炳铁;萨尔-高纳·帕雷什·黛维达;丁东植 -专利权人：盖诺斯克公司;奥斯克技术有限公司
申请日： 2014-10-21 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： C07D413/14 文献下载
摘要：本发明公开了式(I)的化合物和用于抑制包括脾酪氨酸激酶的激酶的方法。还公开了通过向个体施用治疗有效量的式(I)的化合物来治疗激酶介导的疾病或病症的方法。
取代嘧啶化合物及其作为 syk 抑制剂用途

[发明专利]光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品制造方法-CN201710029635.8在审
发明人： 崔长植 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2017-01-16 - 公布日： 2017-07-25 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：本发明提供光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品制造方法。本发明减小了当镜的形状变形时镜上产生的温度分布。光学装置包括镜，具有反射面和与所述反射面的相反侧的背面；底座；固定部件，固定于所述背面的一部分，以将所述镜固定在所述底座上；以及多个致动器，分别向所述背面施加力以使所述反射面的形状变化。其中，所述多个致动器包括多个第一致动器，分别向所述背面中的第一区域施加力，所述第一区域包围由所述固定部件固定的所述镜的固定部；以及多个第二致动器，分别向所述背面中的、包围所述第一区域的第二区域施加力。所述第一致动器的推力生成的效率比所述第二致动器的推力生成的效率高。
光学装置投影光学系统曝光以及物品制造方法

[发明专利]光学装置、投影光学系统、曝光装置及物品的制造方法-CN201410497939.3有效
发明人： 崔长植;井本浩平 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2014-09-25 - 公布日： 2017-06-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。该光学装置用于使镜的反射面变形，所述光学装置包括底板；多个第一致动器，其各自被构造为向与所述反射面相背对的面施加力；多个第二致动器，其各自具有比所述第一致动器低的刚度，并且被构造为向与所述反射面相背对的面施加力；传感器，其被构造为检测表示所述多个第一致动器中的各个的驱动状态的信息；以及控制单元，其被构造为基于所述传感器的输出，以将所述反射面的形状改变为目标形状的方式对所述多个第一致动器中的各个的驱动以及所述多个第二致动器中的各个的驱动进行控制。
光学装置投影光学系统曝光物品制造方法

[发明专利]反射镜单元和曝光装置-CN201410145450.X有效
发明人： 崔长植 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2014-04-11 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： G02B26/06 文献下载
摘要：一种反射镜单元，包括反射镜；多个非接触型致动器，所述非接触型致动器包括可移动元件和定子并且被构造成用于改变所述反射镜的形状；支撑板，所述定子被固定至所述支撑板；以及被构造成用于保持所述反射镜和所述支撑板的构件。所述可移动元件被附连至所述反射镜的与光学表面相反的表面，并且所述构件经由运动学支架保持所述支撑板。以及一种曝光装置。
反射单元曝光装置

[发明专利]光学装置、投影光学系统、曝光装置和制造物品的方法-CN201410806274.X在审
发明人： 崔长植 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2014-12-22 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： G02B26/00 文献下载
摘要：本公开内容涉及光学装置、投影光学系统、曝光装置和制造物品的方法。本发明提供一种使反射镜的反射表面变形的光学装置，该光学装置包括：基板；固定构件，其被配置为将反射镜的包括反射镜的中心的部分固定到基板；以及多个致动器，每个致动器具有连接到反射镜的第一端和连接到基板的第二端，并且被配置为向反射镜的背面施加力，其中，所述多个致动器包括多个第一致动器和多个第二致动器，并且所述多个第一致动器被布置为使得每个第一致动器与反射镜的中心之间的距离比反射镜的中心与反射镜的外周之间的距离的一半长。
光学装置投影光学系统曝光制造物品方法

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