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[发明专利]加工装置以及加工品的制造方法-CN202180095325.0在审
发明人：深井元树;片冈昌一;堀聡子;坂上雄哉;山本裕子;吉冈翔;今井一郎 -专利权人：东和株式会社
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： B24B41/06 文献下载
摘要：本发明自动更换用以保持加工对象物的保持用板，包括：加工机构4，对密封完毕基板W进行加工；板收容部24，收容用以保持密封完毕基板W的保持用板M1；保持基部M2，可装卸地安装有保持用板M1，使用保持用板M1来保持密封完毕基板W；以及板搬送机构25，在板收容部24及保持基部M2之间搬送保持用板M1，板搬送机构25将自保持基部M2卸除的保持用板M1搬送至板收容部24，并将位于板收容部24的保持用板M1搬送至保持基部M2。
加工装置以及加工品制造方法

[发明专利]加工装置及加工品的制造方法-CN202180093623.6在审
发明人：深井元树;堀聡子;坂上雄哉;山本裕子;吉冈翔;片冈昌一 -专利权人：东和株式会社
申请日： 2021-12-23 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B24B45/00 文献下载
摘要：本发明简化具有刀片更换机构的加工装置的装置结构，并且减少占据面积，且本发明包括：切断用工作台2A、切断用工作台2B，通过切断机构4将密封完毕基板W进行加工；切断用移动机构8，使切断机构4在水平面上在相互正交的第一方向及第二方向移动；以及刀片更换机构24，更换切断机构4的刀片41A、刀片41B，切断用移动机构8具有：沿着第一方向夹持切断用工作台2A、切断用工作台2B而设置的一对第一导轨811；以及支撑体812，沿着一对第一导轨811移动并且对切断机构4以能够沿着第二方向移动的方式予以支撑，刀片更换机构24具有：第一吸附部241a，吸附刀片41A、刀片41B；以及臂移动机构242，使第一吸附部241a在第二方向移动。
加工装置加工品制造方法

[发明专利]抗体－免疫刺激剂偶联物的新型制造方法-CN202280012523.0在审
发明人：小仓友和;仲谷岳志;井上英和;阿边成己;阿部祐三;中村龙也;山本裕子;坂西航平;阪本龙浩;中根智志 -专利权人：第一三共株式会社
申请日： 2022-01-31 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： C07H19/213 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供可用于抗体－免疫刺激剂偶联物的、环状二核苷酸衍生物的立体选择性的新型制造方法及其制造中间体。此外，本发明的目的在于提供使用了该制造方法的、环状二核苷酸－连接子以及抗体－免疫刺激剂偶联物的制造方法。本发明提供一种环状二核苷酸衍生物的制造方法，其包括通过使用光学活性的亚磷酰化剂(Rc－II)或(Sc－II)，使化合物(I)与化合物(IV)立体选择性地缩合的工序。
抗体免疫刺激剂偶联物新型制造方法

[发明专利]加工装置及加工品的制造方法-CN202180093604.3在审
发明人：深井元树;堀聡子;坂上雄哉;山本裕子;吉冈翔;片冈昌一 -专利权人：东和株式会社
申请日： 2021-12-23 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01L21/301 文献下载
摘要：本发明是减少加工装置的占据面积的装置，包括：基板收容部111，收容密封完毕基板W；切断用工作台2A、切断用工作台2B，通过切断机构4加工密封完毕基板W；接收台115，自基板收容部111接收密封完毕基板W；台移动机构117，具有用以使接收台115移动至搬送位置的移动轨道117a；第一保持机构3，为了将密封完毕基板W搬送至切断用工作台2A、切断用工作台2B而保持；以及搬送用移动机构7，具有用以使第一保持机构3在位于搬送位置的接收台115与切断用工作台2A、切断用工作台2B之间移动的传递轴71，传递轴71与移动轨道117a在平面视时相互正交。
加工装置加工品制造方法

[发明专利]加工装置-CN202180090166.5在审
发明人：深井元树;堀聡子;坂上雄哉;山本裕子;吉冈翔;片冈昌一 -专利权人：东和株式会社
申请日： 2021-12-23 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明使装置结构简化并且减少占据面积，本发明包括：加工台2A、加工台2B，保持密封完毕基板W；第一保持机构3，为了将密封完毕基板W搬送至加工台2A、加工台2B而保持密封完毕基板W；加工机构4，对保持于加工台2A、加工台2B的密封完毕基板W进行加工；移载台5，移动多个制品P；第二保持机构6，为了将多个制品P自加工台2A、加工台2B搬送至移载台5而保持多个制品P；搬送用移动机构7，具有沿着加工台2A、加工台2B及移载台5的排列方向延伸且用于使第一保持机构3及第二保持机构6移动的共用的传递轴71；以及加工用移动机构8，使加工机构4在水平面上在沿着传递轴71的X方向及与X方向正交的Y方向分别移动。
加工装置

[发明专利]印刷条件设定方法、印刷条件设定系统-CN202111550128.1有效
发明人：鎌田崇廣;大野典;山本裕子;渡边亮基;山下充裕;松坂健治 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2021-12-17 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： B41J2/01 文献下载
摘要：本发明涉及一种印刷条件设定方法、印刷条件设定系统，并提供一种适合于在印刷装置中所使用的油墨的印刷条件。印刷条件设定方法为对印刷装置中的印刷条件进行设定的印刷条件设定方法，包括：学习工序，使用油墨的物理特性和油墨的类别信息来进行机器学习；类似度计算工序，针对在所述学习工序中进行了学习的已学习的学习油墨，而对表示在所述印刷装置中于印刷中所使用的使用油墨的类似性的类似度进行计算；印刷条件设定工序，基于所述类似度，来对与所述使用油墨相应的所述印刷条件进行设定。
印刷条件设定方法系统

[发明专利]具有TNAP抑制活性的磺酰胺化合物-CN201780078954.6有效
发明人：宫崎正二郎;乾正治;黑崎泰伸;山本裕子;泉正宪;相马香李;安东尼·品克顿;岸田昌伦 -专利权人：第一三共株式会社;桑福德伯纳姆普利斯医学发现研究所
申请日： 2017-12-22 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： C07D498/14 文献下载
摘要：本发明涉及具有优异的组织非特异性碱性磷酸酶抑制活性的化合物或其药理学上可接受的盐。本发明提供式(I)所示的化合物或其药理学上可接受的盐。
具有 tnap 抑制活性磺酰胺化合物

[发明专利]作为TNAP抑制剂的吡啶并噁嗪酮化合物-CN201680006507.5有效
发明人：宫崎正二郎;山本裕子;铃木启介;乾正治;泉正宪;相马香李;安东尼品克顿;筱崎妙子 -专利权人：第一三共株式会社;桑福德伯纳姆普利斯医学发现研究所
申请日： 2016-07-07 - 公布日： 2019-10-01 - 主分类号： C07D498/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种化合物或其药理学上可接受的盐，其具有优良的组织非特异性碱性磷酸酶抑制活性。本发明提供由通式(I)所表示的化合物或者其药理学上可接受的盐：其中，R¹代表氢原子、任选地取代的C1‑6烷基等，R²与R³相同或不同，并且各自代表氢原子、任选地取代的C1‑6烷基等，R⁴与R⁵相同或不同，并且各自代表氢原子、任选地取代的C1‑6烷基等，R⁶代表氢原子等，每个R⁷可以相同或不同，并且可以各自代表任选地取代的C1‑6烷氧基等，X代表‑CH＝、‑C(‑R⁷)＝或‑N＝，并且m代表1至4。
作为 tnap 抑制剂吡啶噁嗪酮化合物

[发明专利]切断装置-CN201710958335.8在审
发明人： 山本裕子;东秀和;宇泽秀俊 -专利权人：东和株式会社
申请日： 2017-10-16 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种切断装置。该切断装置通过在清洗部与干燥部之间设置中间室而抑制水滴下落到切断物上。切断装置(1)具备：切断机构(11a，11b)，用于对切断对象(2)进行切断；工作台(9)，用于载置利用切断机构(11a，11b)对切断对象(2)进行切断后的切断物(13)；清洗部(15)，用于清洗工作台(9)上的切断物(13)；干燥部(16)，用于对从清洗部(15)移动来的工作台(9)上的切断物(13)进行干燥；和中间室(17)，被设置在清洗部(15)与干燥部(16)之间。
切断装置切断物清洗干燥部工作台切断机构中间室水滴下落载置移动

[发明专利]作为激酶抑制剂的咪唑并[1,2-b]哒嗪衍生物-CN201380041498.X有效
发明人：武田泰幸;吉川谦次;神子岛佳子;山本裕子;田中亮一;富永裕一;木我真基;浜田义人 -专利权人：第一三共株式会社
申请日： 2013-06-03 - 公布日： 2015-04-15 - 主分类号： C07D487/04 文献下载
摘要：本发明提供通过ROS1激酶活性抑制作用和NTRK激酶抑制作用可用于治疗肿瘤的化合物或其药理学上可接受的盐。具有由通式(I)表示的咪唑并[1,2-b]哒嗪结构的化合物，或其药理学上可接受的盐，或包含此类化合物的药用组合物。在该式中，R1、G、T、Y1、Y2、Y3，和Y4如在本说明书中所定义。
作为激酶抑制剂咪唑衍生物

[发明专利]取代的咪唑并吡啶基-氨基吡啶化合物-CN201080064893.6有效
发明人： M.A.阿什威尔;C.布拉萨德;A.菲利科夫;J.希尔;S.克尔纳;J-M.拉皮埃尔;刘彦斌;N.纳姆德夫;R.奈斯万格;R.帕尔马;M.坦顿;D.温塞尔;松田明久;饭村信;山本裕子 -专利权人：艾科尔公司
申请日： 2010-12-29 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： C07D471/04 文献下载
摘要：本发明涉及取代的咪唑并吡啶基-氨基吡啶化合物和合成这些化合物的方法。本发明也涉及含有取代的咪唑并吡啶基-氨基吡啶化合物的药物组合物和通过给有此需要的受试者施用这些化合物和药物组合物来治疗细胞增殖障碍(诸如癌症)的方法。
取代咪唑吡啶氨基化合物

[发明专利]咪唑羰基化合物-CN200880127756.5有效
发明人：曾根田刚;竹下裕;神子岛佳子;山本裕子;细川贵史;鸿巢俊之;增田修久;内田琢也;阿知波一成;黑柳纯市;藤沢哲则;横溝亚纪;野口哲司 -专利权人：第一三共株式会社
申请日： 2008-12-26 - 公布日： 2011-01-26 - 主分类号： C07D417/14 文献下载
摘要：为开发具有新的作用机理的抗生素，发明人研究具有弱细胞毒性、在水中高溶解性的物理特性、对抗DNA促旋酶GyrB亚基和拓扑异构酶IV ParE亚基两者的抑制作用，及充分的抗菌活性的化合物。结果，发明人发现本发明的由通式(1)表示的化合物、其药理学上可接受的盐及其水合物具有所需特性，因而完成了本发明。本发明提供药用组合物(特别地，用于预防或治疗感染性疾病的组合物)，其包含作为活性成分的由式(1)表示的化合物，其药理学上可接受的盐或其水合物。
咪唑羰基化合物

[发明专利]半导体器件及其制造方法、以及电子设备-CN200810185260.5有效
发明人：桑原秀明;山本裕子 -专利权人：株式会社半导体能源研究所
申请日： 2006-01-20 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明涉及半导体器件及其制造方法、以及电子设备。本发明的目的是简化在形成多层布线过程中处理布线所需的步骤。此外，当使用微滴排放法或纳米印刷法在具有相当长直径的接触孔中形成布线时，按照接触孔的形状形成布线，并且接触孔的布线部分相对于其它部分可能具有凹陷。通过使用具有高强度和高重复频频率的激光照射透光绝缘膜来形成穿透开口。提供具有微小接触区域的多个开口，而不是形成一个具有大的接触区域的开口，以便通过减少局部凹陷而具有均匀厚度的布线，并且也确保接触电阻。
半导体器件及其制造方法以及电子设备

[发明专利]半导体器件及其制造方法、以及电子设备-CN200810185259.2有效
发明人：桑原秀明;山本裕子 -专利权人：株式会社半导体能源研究所
申请日： 2006-01-20 - 公布日： 2009-05-20 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明涉及半导体器件及其制造方法、以及电子设备。本发明的目的是简化在形成多层布线过程中处理布线所需的步骤。此外，当使用微滴排放法或纳米印刷法在具有相当长直径的接触孔中形成布线时，按照接触孔的形状形成布线，并且接触孔的布线部分相对于其它部分可能具有凹陷。通过使用具有高强度和高重复频率的激光照射透光绝缘膜来形成穿透开口。提供具有微小接触区域的多个开口，而不是形成一个具有大的接触区域的开口，以便通过减少局部凹陷而具有均匀厚度的布线，并且也确保接触电阻。
半导体器件及其制造方法以及电子设备

[发明专利]激光加工装置,曝光装置和曝光方法-CN200610064238.6有效
发明人：中村理;山本裕子 -专利权人：株式会社半导体能源研究所
申请日： 2006-09-28 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：激光加工装置，曝光装置和曝光方法。一种曝光装置，包括用于保持要曝光的基底8的平台10；设置在由平台10保持的要曝光的基底8之上的直接写入掩模6；掩模上设有重复开口图案，其中每一个具有近似相同尺寸的多个开口以近似相同的间隔排列成一条线；用于用线性激光束1c沿重复开口图案照射的照射机构；以及用于移动激光束与由平台保持的基底之间的相对位置的移动机构，该激光束是以由激光加工机构形成的线性激光束经过开口图案的多个开口的方式形成的。
激光加工装置曝光方法

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