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[发明专利]车辆用电池组-CN202010811173.7有效
发明人：春贝地慎太朗;山本悟史;岩田一男;阎宇;深渡濑康平;鸟越博;岩成太照 -专利权人：马自达汽车株式会社;日本空调系统股份有限公司
申请日： 2020-08-13 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： H01M50/209 文献下载
摘要：提供一种能够提高制冷剂向多个电池模块的分配性的车辆用电池组。车辆用电池组(5)具备在车宽方向(X)上排列配置的电池模块(24a、24b)、通过被供给制冷剂来将电池模块(24a、24b)进行冷却的2个冷却配管(41)以及向2个冷却配管(41)分配供给所述制冷剂的分流器(33)。分流器(33)在车宽方向(X)上配置于2个电池模块(23a、23b)之间。
车辆用电

[发明专利]电动汽车-CN202010810928.1有效
发明人：春贝地慎太朗;山本悟史;岩田一男;阎宇;佐佐木翔一 -专利权人：马自达汽车株式会社
申请日： 2020-08-13 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： H01M50/209 文献下载
摘要：提供一种能够抑制冷却配管对电池模块的冷却性能的偏差的车辆用电池组。车辆用电池组(5)具备与电池模块(23a～25b)的下表面抵接的平板状的冷却配管(41)以及对冷却配管(41)以与电池模块(23a～25b)的下表面抵接的方式向上方施力的弹性施力构件(51)。弹性施力构件(51)具有在冷却配管(41)的长边方向上排列的能够弹性变形的多个腿部(51a)。
电动汽车

[发明专利]车辆用电池组-CN202010810930.9有效
发明人：春贝地慎太朗;山本悟史;岩田一男;阎宇;鸟越博;松村朝信;山口博志 -专利权人：马自达汽车株式会社;日本空调系统股份有限公司
申请日： 2020-08-13 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： H01M50/202 文献下载
摘要：提供一种能够降低冷却配管损伤的隐患来抑制冷却性能中的可靠性的下降的车辆用电池组。车辆用电池组(5)的特征在于，具备：2个电池模块(24a、24b)，配置于相互邻接的位置；以及连接配管(43)，使将2个电池模块(24a、24b)进行冷却的2个冷却配管(41)之间以能够使制冷剂流通的方式连通，以容许2个冷却配管(41)的相对位置的位移的方式进行连接。
车辆用电

[发明专利]等离子体处理装置-CN201510632845.7有效
发明人：羽田浩二;山本悟史 -专利权人：株式会社思可林集团
申请日： 2015-09-29 - 公布日： 2018-04-10 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置，能够提高等离子体离子密度的均匀性。等离子体处理装置具有腔室，对象物保持部，在腔室内保持成为处理对象的对象物，匝数小于一匝的至少一个电感耦合型天线，高频电源，向至少一个电感耦合型天线供给高频电力，至少一个天线保持部，以使至少一个电感耦合型天线从腔室的一壁部向腔室内突出的方式，相对于一壁部分别保持至少一个电感耦合型天线；至少一个天线保持部分别以能够在与该电感耦合型天线的突出方向交叉的面内改变使至少一个电感耦合型天线中的对应的电感耦合型天线的两端部连接的线段的朝向的方式，在对应的电感耦合型天线的两端部保持对应的电感耦合型天线。
等离子体处理装置

[发明专利]等离子体处理装置以及等离子体处理方法-CN201510617300.9有效
发明人：大泽笃史;山本悟史 -专利权人：株式会社思可林集团
申请日： 2015-09-24 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及等离子体处理装置以及等离子体处理方法，提供能够解决振荡等问题的气体供给技术。两个第一供给部(21a)以固定的第一供给量从开口部(22a)向腔室(11)内供给反应性气体。第二供给部(21b)以可变的第二供给量从开口部(22b)向腔室(11)内供给反应性气体。在等离子体处理中，利用PEM法的反馈控制调整第二供给量。这样，由于溅射装置(10)具有进行第二供给量的反馈控制的一个第二供给部(21b)，所以能够消除因存在多个反馈控制所引起的振荡的问题。
等离子体处理装置以及方法

[发明专利]膜形成方法-CN201410122615.1无效
发明人： 山本悟史 -专利权人：大日本网屏制造株式会社
申请日： 2014-03-28 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种采用能够以足够快的速度形成优异特性的膜的技术的膜形成方法。一边通过向铝靶施加溅射电压，在处理空间内产生第一等离子，并且通过使高频电流向圈数小于一圈的电感耦合天线流动，在所述处理空间内产生电感耦合式的第二等离子，一边向该处理空间供给溅射气体和氧来对铝靶进行溅射，从而通过反应性溅射在对象物（9）上形成氧化铝膜。一边在处理空间至少产生第一等离子，一边向该处理空间供给溅射气体来对铝靶进行溅射，从而在对象物（9）上形成铝膜。形成有氧化铝膜和铝膜中的一种膜的对象物（9）不暴露在大气中，在形成在对象物（9）上的一种膜上层叠形成另一种膜。
形成方法

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN200710161614.8无效
发明人：川根旬平;盐田明仁;铃木聪;山本悟史 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2007-09-27 - 公布日： 2008-04-02 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种使用包含微泡或纳米微泡的处理液的基板处理装置和基板处理方法，能使微泡或纳米微泡对基板有效地发挥作用。微泡清洗处理部(40)通过对注入到被压送的清洗液中的氮气的流量进行调节，能够调节清洗液中所包含的微泡的尺寸。因而，能够对应于成为除去对象的微粒的尺寸，大量地供应尺寸最佳的微泡，能够使微泡对基板有效地发挥作用。
处理装置方法

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN200610164290.9无效
发明人：小田裕史;川根旬平;竹市芳邦;山本悟史;松本隆雄;后藤正昭 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2006-12-08 - 公布日： 2007-06-20 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法及基板处理装置，能够减轻进行清洗时给基板表面所带来的损伤，同时能够确保充分的清洗功能。该装置具有：长状的清洗刷(221)，其具有由多根刷毛构成的毛束；搬送辊，其在与清洗刷(221)延伸的方向交叉的方向上，相对清洗刷(221)搬送基板(B)；支撑机构，其使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的前端(50H)朝向搬送辊的基板(B)搬送方向下游侧，且使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的侧面部(50F)接触于该基板的上表面的状态，从而支撑清洗刷(221)；处理液供给喷嘴(231)，其对于由支撑机构所支撑的清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)供给处理液。
处理方法以及装置

[发明专利]基板处理装置-CN200610125768.7有效
发明人： 山本悟史;松本隆雄 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2006-08-28 - 公布日： 2007-04-18 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：一种基板处理装置，具有：紫外线照射部，其对基板(B)照射紫外线；清洗机构，其与紫外线照射部邻接配置，并将用于对基板(B)实施液处理的多个液处理工具相互邻接配置；基板输送机构，其具有使基板从紫外线照射部到清洗机构的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部移动的移动路径；气幕形成喷嘴，其形成将紫外线照射部与清洗机构之间的含有移动路径的空间分隔成紫外线照射部侧和清洗机构侧的气幕；液幕形成喷嘴，其形成将相互邻接的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部的各部分之间的至少一个的含有上述移动路径的空间分隔成基板移动方向(A)的上游侧和下游侧的液幕。在降低成本的同时，还提高封闭效果。
处理装置

[发明专利]基板搬送装置-CN200610079865.7无效
发明人：松本隆雄;山本悟史 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2006-05-15 - 公布日： 2006-11-22 - 主分类号： B65G13/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板搬送装置，其能够不减低基板处理的生产量，在基板搬送路径上笔直的搬送基板的同时，将基板变更为倾斜姿势。辊支承机构(22)对搬送辊(21)在围绕向着与其旋转轴(211)的纵向方向中央部垂直的方向延伸的驱动轴(23)旋转而倾斜的状态下来进行支承，从而赋予为了变更基板的倾斜姿势而各搬送辊(21)必须具有的倾斜。由多个搬送辊(21)构成的基板搬送路径并不上下动作，通过各辊支承机构(22)对各搬送辊(21)赋予的倾斜，从而能够改变搬送中的基板的倾斜姿势。
基板搬送装置

[发明专利]基板处理装置-CN200610071492.9有效
发明人：松本隆雄;山本悟史 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2006-03-29 - 公布日： 2006-10-04 - 主分类号： F26B15/12 文献下载
摘要：本发明提供一种不需要使装置大型化且装置的制造比较容易、并防止从基板面除去了的处理液成为雾滴而再次附着在基板面上、而能够高效除去附着在基板面上的装置。在处理室(10)的相对于基板(W)的搬送路线而配置了风刀(20a)的空间侧，并在风刀(20a)配置位置的基板搬送方向的上游侧设置有排气口(16a)，在处理室(10)的内部，在垂直方向竖立设置有使从风刀(20a)的喷射口喷射而吹拂到基板(W)上的气体向排气口(16a)流动的多张整流板(22)。
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN200610006961.9无效
发明人： 山本悟史 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2006-01-26 - 公布日： 2006-09-27 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种在将含有冰的微粒的处理液向基板的表面供给而进行基板的处理时、能够以不会产生处理不均匀的方式进行均匀处理、也不会损伤形成在基板上的膜层的装置。该装置具有：进行基板处理的基板处理部(10)；使纯水中含有冰的微粒的冰浆制造装置(12)；使气体溶解于冰浆中的装置；对冰浆进行加压的加压泵(52)以及加压槽(14)；将溶解气体且被加压的冰浆向基板处理部(10)供给的冰浆供给配管(56)。
处理装置

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN200510128972.X无效
发明人： 山本悟史 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2005-12-02 - 公布日： 2006-08-09 - 主分类号： B08B1/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置，其能够在确保充分的清洗功能的同时正确地搬运基板，而且基板清洗机构的制作容易。在搬运辊所支承的基板(B)的主面上，使清洗刷部(221、222)的毛束(50)的前端(50H)成为从该毛束(50)延伸的方向沿基板(B)的主面而向一个方向弯曲的状态，而使该前端(50H)与基板(B)的主面滑动接触。在该姿势下，前端(50H)与基板(B)的表面滑动接触的同时，该清洗刷部(221)沿与基板搬运方向垂直并与基板表面平行的方向往复移动，从而清洗搬运中的基板表面。
处理装置以及方法

[发明专利]冰浆的制造装置以及基板处理装置-CN200510124882.3无效
发明人： 山本悟史 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2005-11-23 - 公布日： 2006-08-02 - 主分类号： F25C1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种冰浆的制造装置以及基板处理装置，该冰浆的制造装置在由过冷却液体制造含有冰的微粒的处理液时，不会混入污染物质，且所生成的冰的微粒也不会溶解。该装置具备有主体部(10)，该主体部(10)在下部具有液体导入口(18)以及气体喷出口(24)，在上部具有含有冰的微粒的处理液的流出口(28)，从气体喷出口(24)向通过液体导入口(18)而被导入到主体部(10)内的过冷却液体喷出气体，解除过冷却状态，使所生成的含有冰的微粒的处理液从主体部(10)内通过流出口(28)而流出。
制造装置以及处理

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN200510102833.X无效
发明人： 山本悟史 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2005-09-13 - 公布日： 2006-03-22 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种向基板的表面供给包含有冰微粒的处理液而进行基板的处理时，不会产生处理不均而能均匀处理，在基板上形成的覆膜不会受到损伤的装置。该装置具有：以倾斜姿势支承基板(W)并向水平方向运送的辊式传送器；向基板的主面供给包含有冰微粒的处理液的喷嘴(12)；与基板的表面接触或者靠近而往复移动、在基板的表面上搅拌包含有冰微粒的处理液的平面刷(14)。
处理方法装置

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