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[发明专利]润滑油组合物-CN202280013077.5在审
发明人：砂原贤二;山下润;久保田将矢;藤田翔一郎 -专利权人：出光兴产株式会社
申请日： 2022-02-04 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： C10M141/08 文献下载
摘要：提供润滑油组合物，其含有：基础油(A)、钼系摩擦调节剂(B)、金属系清净剂(C)、和分散剂(D)，其中，前述分散剂(D)包含非硼改性聚异丁烯双丁二酰亚胺(D1)，在用FT‑IR法测定前述非硼改性聚异丁烯双丁二酰亚胺(D1)而得的IR光谱中，1705cm‑1处的峰强度Abs(1705cm‑1)与1390cm‑1处的峰强度Abs(1390cm‑1)之比[Abs(1705cm‑1)/Abs(1390cm‑1)]为7.5以下，以前述分散剂(D)的总量为基准计，前述非硼改性聚异丁烯双丁二酰亚胺(D1)的含量为50质量％以上，100℃时的运动粘度为9.3mm2/s以下，含有钼系摩擦调节剂和丁二酰亚胺化合物，同时摩擦系数降低效果优异。
润滑油组合

[发明专利]润滑脂组合物-CN202080011236.9有效
发明人：高根孝仁;渡边刚;宍仓昭弘;山下润 -专利权人：出光兴产株式会社
申请日： 2020-01-31 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： C10M169/02 文献下载
摘要：课题在于，提供能够对在DN值为100,000以上的高速旋转条件下使用的轴承赋予优异的耐久性的润滑脂组合物，润滑脂组合物，其含有基础油(A)和脲系增稠剂(B)，前述润滑脂组合物中的包含前述脲系增稠剂(B)的颗粒满足下述要件(I)，・要件(I)：将前述颗粒通过激光衍射・散射法测定时的以面积基准计的算术平均粒径为2.0μm以下。制成用于在DN值为100,000以上的高速旋转条件下使用的轴承的润滑脂组合物。
润滑脂组合

[发明专利]处理装置以及具有扩散路径的构件-CN201811216290.8有效
发明人： 山下润 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-10-18 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种处理装置以及具有扩散路径的构件，其目的在于在处理室中消除气体排出的偏差。提供一种处理装置，具有：反应容器，其用于使气体流入并通过处理室进行规定的处理；以及具有扩散路径的构件，其在所述反应容器的侧壁或者底壁的形成有所述扩散路径的部分与排气口连通，在所述具有扩散路径的构件与所述反应容器之间形成有开口部，该开口部将该扩散路径与所述处理室的空间连通，该开口部越靠近所述排气口则开口面积越小。
处理装置以及具有扩散路径构件

[发明专利]CD82阳性心肌前体细胞-CN201580023184.6有效
发明人： 山下润;武田匡史 -专利权人：爱心细胞有限公司
申请日： 2015-04-16 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： C12N5/10 文献下载
摘要：本发明的课题是提供一种向心肌细胞特异性分化诱导的心肌前体细胞、一种制备该心肌前体细胞的方法。如果使用具备下述步骤的CD82阳性细胞的制备方法，则能够制备用作心肌前体细胞的CD82阳性细胞，该制备方法依次具备如下步骤：获得干细胞的步骤(a)；对干细胞进行向心血管细胞分化诱导的处理的步骤(b)；以及从在步骤(b)中经分化诱导处理的干细胞中分离CD82阳性细胞的步骤(c)，该CD82阳性细胞是选自CD73、CD44、CD105、CD121a、CD18和CD120a中的至少一个细胞表面标记为阴性的细胞。
cd82 阳性心肌体细胞

[发明专利]气体处理装置、气体处理方法和存储介质-CN201710482296.9有效
发明人： 山下润 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-06-22 - 公布日： 2020-07-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供在混合多个气体而向基板供给来进行处理时、能够可靠性较高地进行该混合的气体处理装置、气体处理方法和存储介质。以如下方式构成装置：具备：第1气体流路，向其上游侧供给第1气体，其下游侧分支而构成多个第1分支路径；第2气体流路，向其上游侧供给第2气体，其下游侧分支而构成多个第2分支路径；环状的混合室，所述多个第1分支路径的各下游端与该混合室的周向上的彼此分开的第1位置连接，所述多个第2分支路径的各下游端与该混合室的周向上的彼此分开的第2位置连接，并且排出路径与该混合室连接，该混合室用于使从所述第1分支路径和第2分支路径分别向所述排出路径流动的所述第1气体和所述第2气体混合而生成混合气体。
气体处理装置方法存储介质

[发明专利]气体混合装置和基板处理装置-CN201710464610.0有效
发明人： 山下润 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2019-10-01 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种在对多种气体进行混合时使气体均匀地混合的气体混合装置和基板处理装置。在上表面被封闭的圆筒部的底面中央部设置有气体流出路，沿着气体流出路的开口缘以隔着间隔的方式配置相对于圆筒部的中心呈旋转对称的多个气体流导向壁。另外，使气体流导向壁的周向的一个端部向靠圆筒部的中心部的位置屈曲。而且，在气体流导向壁与圆筒部的内周面之间的靠气体流导向壁周向的另一侧的位置处连接有第一气体流入管～第三气体流入管。从第一气体流入管～第三气体流入管供给的气体成为沿气体流导向壁的外周面流动后沿处于周向的一侧的气体流导向壁的内周面流动的涡流，来在气体流出路中被混合。
气体混合装置处理

[发明专利]组入有水凝胶的层叠细胞膜片-CN201480030846.8有效
发明人： 山下润;田畑泰彦;松尾武彦 -专利权人：爱心细胞有限公司
申请日： 2014-05-30 - 公布日： 2018-04-20 - 主分类号： C12N5/0735 文献下载
摘要：本发明涉及含有活细胞的层叠细胞膜片及其制作方法。具体地，本发明提供层叠细胞膜片的方法，其包含使用水凝胶，优选地使用明胶水凝胶来层叠细胞膜片的步骤，并提供通过该方法制作的层叠细胞膜片以及包含层叠细胞膜片的医药组合物或治疗剂。
组入有水凝胶层叠细胞膜片

[发明专利]微波加热处理装置和处理方法-CN201210584999.X有效
发明人：池田太郎;河西繁;山下润;伴昌和 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-12-28 - 公布日： 2013-07-03 - 主分类号： H05B6/64 文献下载
摘要：本发明提供电力的利用效率和加热效率优异、能够对被处理体进行均匀的处理的微波加热处理装置和处理方法。在微波加热处理装置（1）中，在处理容器（2）的顶部（11），四个微波导入口（10）分别配置为以其长边和短边与四个侧壁部（12A、12B、12C、12D）的内壁面平行，且配置于相互变更90°角度的旋转位置。各微波导入口（10）配置为，在沿与各自的长边垂直的方向平行移动的情况下，不与具有平行的长边的其它微波导入口（10）重叠。
微波加热处理装置方法

[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法-CN201180006900.1无效
发明人：米泽亮太;高桥哲朗;大崎良规;铃木公贵;齐藤智博;山下润;佐藤吉宏;盐泽俊彦;山崎幸一;古木和弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-03-30 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：在电介质板（28）和盖部件（13）的支撑部（13a）之间具有环状的O型环（29a），并且在该O型环（29a）的外周侧设置有用于在处理容器（1）的上部配置的盖部件（13）的支撑部（13a）和电介质板（28）之间形成缝隙（d）的垫片（60）。即使处理容器（1）内的等离子体的热导致盖部件（13）和电介质板（28）热膨胀，通过缝隙（d），盖部件（13）和电介质板（28）也不会接触、摩擦，能够防止电介质板（28）的破损和颗粒的产生。
等离子体处理装置方法

[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法-CN201110276265.0无效
发明人：门田太一;北川淳一;山下润;中村秀雄 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-09-15 - 公布日： 2012-04-04 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供等离子体处理装置及等离子体处理方法。该等离子体处理装置是向载置被处理体的载置台的电极供给偏压用高频电力的方式的等离子体处理装置，抑制等离子体电位的振动，生成稳定的等离子体，并防止由金属制的相对电极的溅蚀导致产生污染。在盖构件(27)的内周侧形成有扩张突出部(60)。扩张突出部(60)面向等离子体生成空间(S)地形成，是起到隔着等离子体生成空间(S)与载置台(5)的电极(7)成对的相对电极的功能的主要部分。相对电极表面积与偏压用电极面积之比(相对电极表面积/偏压用电极面积)优选在1～5的范围内。
等离子体处理装置方法

[实用新型]冰箱-CN201120124005.7有效
发明人： 山下润;真下拓也;天生胜久;东中悠二;野口明裕;谷口一寿;塚本健一 -专利权人：株式会社东芝;东芝家用电器控股株式会社;东芝家用电器株式会社
申请日： 2011-04-25 - 公布日： 2012-03-07 - 主分类号： F25D11/00 文献下载
摘要：提供一种冰箱，使散热性能提高，并且能够将冷凝器设置在机械室中。具有：机械室(16)，配设有压缩机(20)；前壁(22)，将机械室(16)与冷冻室(14)前后分隔；管道(42)，在机械室(16)内，沿着前壁(22)形成，在上部开口有空气出口(34)，在下部开口有作为空气入口的吸气口(40)；冷凝器(48)，收纳在管道(42)内；和送风扇(50)，将从管道(42)排出的空气向压缩机(20)输送。
冰箱

[发明专利]等离子体处理装置-CN200980137715.9无效
发明人： 山下润;伊佐和裕;中村秀雄;北川淳一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-09-29 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：在对埋设于载置台(5)的电极(7)供给偏压用的高频电力的等离子体处理装置(100)中，在对于作为电极的载置台(5)作为相对电极作用的铝制的盖部(27)的暴露于等离子体中的表面，涂覆保护膜(48)，优选Y2O3膜(48)。在形成处理容器(1)的下侧部分的第一部分(2)和形成处理容器(1)的上侧部分的第二部分(3)，设置有绝缘性的上部衬套(49a)和形成得更厚的绝缘性的下部衬套(49b)。防止不希望出现的短路和异常放电，形成稳定的高频电流路径。
等离子体处理装置

[发明专利]基板处理装置和基板载置台-CN200980136399.3有效
发明人： 山下润 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-09-16 - 公布日： 2011-08-17 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置和基板载置台。该基板处理装置用于在被保持为真空的处理容器内对基板(W)进行等离子体处理，在处理容器内具备载置基板(W)的基板载置台(5)。基板载置台(5)包括：由AlN构成的载置台主体(51)；设置在载置台主体(51)内的基板加热用发热体(56)；覆盖载置台主体(51)的表面的石英制的第一盖体(54)；使基板(W)升降的多个升降销(52)；在载置台主体(51)内插通升降销(52)的多个插通孔(53)；在第一盖体(54)的与插通孔(53)对应的位置形成的多个开口(54a)；和将开口(54a)的内表面的至少一部分与插通孔(53)内周面的至少一部分覆盖的与第一盖体(54)分体设置的石英制的第二盖体(55)。
处理装置基板载置台

[发明专利]基板处理装置和暴露于等离子体的部件-CN201010167322.7无效
发明人：村冈直;山下润;植田笃 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-01-31 - 公布日： 2010-09-29 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置和暴露于等离子体的部件，该基板处理装置包括：收容被处理基板的处理容器；以及在该处理容器内生成等离子体的等离子体生成机构，所述基板处理装置用于对所述处理容器内的被处理基板实施规定的等离子体处理，其中，在所述处理容器内，暴露于等离子体的部位的至少一部分涂敷有硅膜。
处理装置暴露等离子体部件

[发明专利]等离子体处理装置-CN200980100872.2无效
发明人：中村秀雄;山下润;北川淳一;壁义郎;福田良则 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-03-31 - 公布日： 2010-09-22 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置。在向埋设有载置台(5)的电极(7)供给偏压用的高频电力的等离子体氧化处理装置(100)中，在相对于载置台(5)作为相对电极起作用的铝制的盖部(27)的内周的暴露于等离子体的表面，涂敷作为保护膜的硅膜(48)。与硅膜(48)相邻在第二容器(3)和第一容器(2)的内面设置有上部衬里(49a)和壁厚形成为比该上部衬里(49a)厚的下部衬里(49b)，防止向这些部分的短路或异常放电，形成适当的高频电流路径，提高电力消耗效率。
等离子体处理装置

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