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[发明专利]增加波导组合器的占空比范围-CN201980089309.3有效
发明人： 尼哈尔·兰詹·莫汉蒂;马修·E·科尔布恩 -专利权人：元平台技术有限公司
申请日： 2019-02-01 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G02B1/12 文献下载
摘要：公开了用于制造倾斜结构的技术。在一种实施方案中，在材料层中制造倾斜的表面浮雕结构的方法包括：在中间掩模层的顶部上形成薄的硬掩模，使用该薄的硬掩模以倾斜角蚀刻中间掩模层以形成倾斜的中间掩模，以及使用该倾斜的中间掩模以倾斜角蚀刻材料层以在材料层中形成倾斜的表面浮雕结构。中间掩模层的特征在于大于材料层的蚀刻速率的蚀刻速率。
增加波导组合范围

[发明专利]用于波导显示器的具有利用平坦化形成的可变深度的光栅-CN201980036995.8有效
发明人：马修·E·科尔布恩;朱塞佩·卡拉菲奥雷;马蒂厄·查尔斯·拉乌尔·莱博维奇;尼哈尔·兰詹·莫汉蒂 -专利权人：元平台技术有限公司
申请日： 2019-03-13 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：制造系统执行蚀刻相容膜在衬底上的沉积。蚀刻相容膜包括第一表面和与第一表面相反的第二表面。制造系统执行对蚀刻相容膜的部分去除，以在第一表面上产生具有相对于衬底的多个深度的表面轮廓。制造系统执行将第二材料沉积在蚀刻相容膜中所产生的轮廓上。制造系统执行第二材料的平坦化，以根据在蚀刻相容膜中产生的轮廓中的多个深度，获得第二材料的多个蚀刻高度。制造系统对沉积在平坦化的第二材料上的光致抗蚀剂执行光刻图案化，以获得在第二材料中的多个蚀刻高度和一个或更多个占空比。
用于波导显示器具有利用平坦形成可变深度光栅

[发明专利]高折射率材料的H2-CN202210442191.1在审
发明人： 尼哈尔·兰詹·莫汉蒂 -专利权人：元平台技术有限公司
申请日： 2018-10-30 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： H01J27/02 文献下载
摘要：本申请涉及高折射率材料的H2辅助的倾斜蚀刻。公开了用于制造倾斜结构的技术。在一个实施例中，一种在材料层中制造倾斜结构的方法包括：将第一反应性气体注入到反应性离子源发生器中，在反应性离子源发生器中生成包括反应性离子的等离子体，从等离子体中提取至少一些反应性离子以形成朝向材料层的准直的反应性离子束，以及将第二反应性气体注入到材料层上。准直的反应性离子束和第二反应性气体物理地和化学地蚀刻材料层，以形成倾斜的表面浮雕结构。在一些实施例中，第一反应性气体包括低分子量气体(例如，H2或He)。在一些实施例中，反应性离子源发生器的内腔的表面层包括氧化物材料(例如，氧化铝或Y2O3)层。
折射率材料 base sub

[发明专利]高折射率材料的H2-CN201880079718.0有效
发明人： 尼哈尔·兰詹·莫汉蒂 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2018-10-30 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：公开了用于制造倾斜结构的技术。在一个实施例中，一种在材料层中制造倾斜结构的方法包括：将第一反应性气体注入到反应性离子源发生器中，在反应性离子源发生器中生成包括反应性离子的等离子体，从等离子体中提取至少一些反应性离子以形成朝向材料层的准直的反应性离子束，以及将第二反应性气体注入到材料层上。准直的反应性离子束和第二反应性气体物理地和化学地蚀刻材料层，以形成倾斜的表面浮雕结构。在一些实施例中，第一反应性气体包括低分子量气体(例如，H2或He)。在一些实施例中，反应性离子源发生器的内腔的表面层包括氧化物材料(例如，氧化铝或Y2O3)层。
折射率材料 base sub

[发明专利]波导显示器中的向外耦合抑制-CN202080051493.5在审
发明人：朱塞佩·卡拉菲奥雷;尼哈尔·兰詹·莫汉蒂;史宇;李熙允;帕西·萨里科;黄宁峰 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2020-07-31 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：一种用于投影仪显示器的光瞳复制波导包括透明材料的板，以用于经由全内反射在板中传播显示光。衍射光栅由板支撑。衍射光栅包括基底中的多个倾斜的条纹，以用于通过衍射将来自板的显示光向外耦合到闪耀衍射级中。显示光的较大部分被向外耦合到闪耀衍射级中，而显示光的较小部分被向外耦合到非闪耀衍射级中。衍射光栅沿衍射光栅厚度方向的折射率对比度分布是对称的，并且折射率对比度在折射率对比度分布的中间比在折射率对比度分布的两侧更大，由此显示光的向外耦合到非闪耀衍射级中的部分减少。
波导显示器中的向外耦合抑制

[发明专利]波导显示器中的向外耦合抑制-CN202080047564.4在审
发明人：朱塞佩·卡拉菲奥雷;尼哈尔·兰詹·莫汉蒂;史宇;李熙允;帕西·萨里科;黄宁峰 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2020-07-31 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：一种用于投影仪显示器的光瞳复制波导包括透明材料平板，以用于通过全内反射在平板中传播显示光。衍射光栅由平板支撑。衍射光栅包括基底中的多个锥形倾斜的条纹，以用于通过衍射将来自平板的显示光向外耦合到闪耀衍射ord652‑WO‑01er中。显示光的较大部分被向外耦合到闪耀衍射级中，而显示光的较小部分被向外耦合到非闪耀衍射级中。锥形条纹导致衍射光栅的占空比沿着衍射光栅的厚度方向变化，以便于抑制显示光的被向外耦合到非闪耀衍射级中的部分。
波导显示器中的向外耦合抑制

[发明专利]倾斜表面浮雕结构上的外覆层的平坦化-CN201980093193.0在审
发明人： 尼哈尔·兰詹·莫汉蒂 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：公开了用于在倾斜表面浮雕结构上产生外覆层的技术以及使用该技术获得的设备。在一些实施例中，平坦化表面浮雕结构上的外覆层的方法包括使用离子束以掠射角移除外覆层的一部分。外覆层包括平坦表面部分和非平坦表面部分。每个非平坦表面部分包括第一倾斜侧和面向第一倾斜侧的第二倾斜侧。掠射角被选择成使得每个非平坦表面部分的第一倾斜侧相对于离子束被相邻的平坦表面部分遮蔽，从而离子束不会到达每个非平坦表面部分的至少第一倾斜侧，而是到达每个非平坦表面部分的第二倾斜侧。
倾斜表面浮雕结构覆层平坦

[发明专利]使用原子层沉积的外覆倾斜表面浮雕结构-CN201980093112.7在审
发明人： 尼哈尔·兰詹·莫汉蒂 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2019-12-26 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：公开了用于外覆倾斜结构的技术和使用该技术获得的设备。在一些实施例中，在衬底上的表面浮雕结构上形成外覆层的方法包括接收具有表面浮雕结构的衬底。表面浮雕结构包括相对于衬底倾斜的多个脊，以及每个在两个相邻脊之间的多个槽。该方法还包括在多次循环的每次循环中，在多个脊的表面和多个槽的底部上沉积外覆材料的均匀层。外覆材料的沉积层和多个脊共同在衬底上形成光耦合结构。外覆层的表面是平坦的。
使用原子沉积倾斜表面浮雕结构

[发明专利]可变蚀刻深度的光栅-CN202080016924.4在审
发明人：安基特·沃拉;尼哈尔·兰詹·莫汉蒂;奥斯汀·莱恩;马修·E·科尔布恩;艾略特·弗兰克 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2020-02-25 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本文公开了用于制造直的或倾斜的可变蚀刻深度的光栅的技术。用于在基底中制造可变蚀刻深度的光栅的光致抗蚀剂材料对具有短于300nm的波长的光是敏感的，并且具有与基底的蚀刻速率相当的蚀刻速率。包括光致抗蚀剂材料的光致抗蚀剂材料层的暴露部分的深度与暴露剂量相关联。在使用灰度级掩模的暴露和显影之后，光致抗蚀剂材料层具有不均匀的厚度。使用直蚀刻或倾斜蚀刻工艺来蚀刻具有不均匀厚度的光致抗蚀剂材料层和下面的基底，以在基底中形成直的或倾斜的可变蚀刻深度的光栅。可变蚀刻深度的光栅的特征在于对应于在蚀刻之前光致抗蚀剂材料层的不均匀厚度的不均匀深度概况。
可变蚀刻深度光栅

[发明专利]用于波导显示器的具有可变深度的光栅-CN201980037149.8在审
发明人：马修·E·科尔布恩;朱塞佩·卡拉菲奥雷;马蒂厄·查尔斯·拉乌尔·莱博维奇;尼哈尔·兰詹·莫汉蒂 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2019-04-09 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种制造系统，用于制造具有可变折射率的自对准的光栅元件，该制造系统包括图案化系统、沉积系统以及蚀刻系统。该制造系统对一种或更多种光刻抗蚀剂进行光刻图案化，以在衬底上产生叠层。制造系统执行保护性涂层在叠层上的共形沉积。制造系统执行第一折射率的第一光致抗蚀剂在保护性涂层上的沉积。制造系统执行对第一光致抗蚀剂的去除，以实现第一厚度阈值。制造系统执行第二折射率的第二光致抗蚀剂在第一光致抗蚀剂上的沉积。第二折射率大于第一折射率。制造系统执行对第二光致抗蚀剂的去除，以实现第二厚度阈值，以形成光栅的一部分。
用于波导显示器具有可变深度光栅

[发明专利]离子束蚀刻机中的反应性增强-CN201880081653.3在审
发明人： 尼哈尔·兰詹·莫汉蒂 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2018-06-07 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了用于制造倾斜结构的技术。在一个实施例中，一种在材料层中制造倾斜结构的方法包括：将第一反应性气体注入到反应性离子源发生器中，在反应性离子源发生器中生成包括反应性离子的等离子体，从等离子体中提取至少一些反应性离子以形成朝向材料层的准直的反应性离子束，以及将第二反应性气体注入到材料层上。准直的反应性离子束和第二反应性气体物理地和化学地蚀刻材料层，以形成倾斜的表面浮雕结构。
离子束蚀刻中的反应增强

[发明专利]具有可转换机械性能的纳米压印光刻材料-CN201910330128.7在审
发明人：奥斯汀·莱恩;马修·E·科尔布恩;朱塞佩·卡拉菲奥雷;尼哈尔·兰詹·莫汉蒂 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2019-11-19 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本申请公开了具有可转换机械性能的纳米压印光刻材料。描述了一种利用具有可转换机械性能的NIL材料的方法。该方法包括施加压印掩模到纳米压印光刻(NIL)材料层。NIL材料层由模量水平低于柔性阈值的NIL材料组成。所述NIL材料层具有当改变时引起NIL材料的模量水平的改变的内部特性。方法进一步包括从压印掩模分离压印NIL材料层，NIL材料的低模量水平使得在分离后所述压印NIL材料层的形状保持不变。通过改变NIL材料的内部特性来增加NIL材料的模量水平，模量水平的增加超过强度阈值以产生第一压印层，该第一压印层的结构保持不受后续工艺的影响。
材料层压印机械性能纳米压印光刻可转换压印层后续工艺结构保持形状保持掩模分离低模量掩模施加申请

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