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- [发明专利]图案描绘装置-CN202010601959.6有效
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小宫山弘树
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株式会社 尼康
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2016-06-17
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2023-06-16
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G03F7/20
- 本发明的图案描绘装置及图案描绘方法，稳定地维持描绘超详细图案所需的扫描线的配置精度或光学性能。图案描绘装置(EX)，使基板(P)上所聚光的光点(SP)沿着描绘线(SL)进行主扫描，并且使基板(P)进行副扫描，藉此于基板(P)上描绘既定图案；该图案描绘装置(EX)使由多面镜(PM)反射的第1光束(LBa)聚光并作为光点(SPa)而投射至第1描绘线(SLa)上，并且使由多面镜(PM)反射的第2光束(LBb)聚光并作为光点(SPb)而投射至第2描绘线(SLb)上。上述两条描绘线(SLa、SLb)于基板(P)上位于副扫描方向上的相同位置，且于主扫描方向上错开。
- 图案描绘装置
- [发明专利]基板处理装置-CN202010741934.6有效
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小宫山弘树;加藤正纪;铃木智也;奈良圭
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株式会社 尼康
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2016-10-26
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2023-06-16
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G03F7/20
- 曝光装置EX，一边将长条的基板P搬送于长边方向，一边于基板P上形成既定图案，其具备：圆筒卷筒DR，支承基板P；作为第1支承构件的本体框架21及第1光学平台23轴支圆筒卷筒DR；描绘装置11，隔着基板P与旋转卷筒DR对向配置，于基板P上形成图案；作为第2支承构件的第2光学平台25保持描绘装置11；旋转机构24，将第1光学平台23与第2光学平台25能旋转地连结；标尺部GPa,GPb，用以测量圆筒卷筒DR的位置变化；以及编码器读头EN1,EN2，检测标尺部GPa,GPb的刻度。
- 处理装置
- [发明专利]图案描绘装置-CN201910841697.8有效
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铃木智也;加藤正纪;小宫山弘树
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株式会社尼康
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2016-03-18
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2022-04-01
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G02B26/12
- 本发明的光束扫描装置(MD)，是一边将光束(LB)的点光(SP)投射于对象物(FS)的被照射面、一边进行该点光(SP)于该被照射面上沿扫描线(SLn)的一维扫描，其具备：射入光束(LB)的入射光学构件(M10)、将来自入射光学构件(M10)的光束(LB)为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件(PM)、射入经偏向的光束(LB)后投射于被照射面的投射光学系统(FT)、以及支承入射光学构件(M10)、扫描用偏向构件(PM)及投射光学系统(FT)、可绕与照射中心轴(Le)在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴(Mrp)旋转的支承架(40)，该照射中心轴相对该被照射面垂直通过以该点光(SP)的扫描在该被照射面上形成的扫描线(SLn)的中点。
- 图案描绘装置
- [发明专利]图案描绘装置及图案描绘方法-CN201910841678.5有效
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铃木智也;加藤正纪;小宫山弘树
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株式会社尼康
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2016-03-18
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2022-04-01
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G02B26/12
- 本发明涉及图案描绘装置及图案描绘方法，其中光束扫描装置(MD)，是一边将光束(LB)的点光(SP)投射于对象物(FS)的被照射面、一边进行该点光(SP)于该被照射面上沿扫描线(SLn)的一维扫描，其具备：射入光束(LB)的入射光学构件(M10)、将来自入射光学构件(M10)的光束(LB)为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件(PM)、射入经偏向的光束(LB)后投射于被照射面的投射光学系(FT)、以及支承入射光学构件(M10)、扫描用偏向构件(PM)及投射光学系(FT)、可绕与照射中心轴(Le)在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴(Mrp)旋转的支承架(40)，该照射中心轴系相对该被照射面垂直通过以该点光(SP)的扫描在该被照射面上形成的扫描线(SLn)的中点。
- 图案描绘装置方法
- [发明专利]图案描绘装置-CN201910836809.0有效
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铃木智也;加藤正纪;小宫山弘树
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株式会社尼康
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2016-03-18
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2021-12-07
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G02B26/12
- 本发明的光束扫描装置(MD)，是一边将光束(LB)的点光(SP)投射于对象物(FS)的被照射面、一边进行该点光(SP)于该被照射面上沿扫描线(SLn)的一维扫描，其具备：射入光束(LB)的入射光学构件(M10)、将来自入射光学构件(M10)的光束(LB)为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件(PM)、射入经偏向的光束(LB)后投射于被照射面的投射光学系(FT)、以及支承入射光学构件(M10)、扫描用偏向构件(PM)及投射光学系(FT)、可绕与照射中心轴(Le)在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴(Mrp)旋转的支承架(40)，该照射中心轴系相对该被照射面垂直通过以该点光(SP)的扫描在该被照射面上形成的扫描线(SLn)的中点。
- 图案描绘装置
- [发明专利]图案描绘方法-CN202010601953.9在审
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小宫山弘树
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株式会社尼康
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2016-06-17
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2020-09-15
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G03F7/20
- 本发明的图案描绘装置及图案描绘方法，稳定地维持描绘超详细图案所需的扫描线的配置精度或光学性能。图案描绘装置(EX)，使基板(P)上所聚光的光点(SP)沿着描绘线(SL)进行主扫描，并且使基板(P)进行副扫描，藉此于基板(P)上描绘既定图案；该图案描绘装置(EX)使由多面镜(PM)反射的第1光束(LBa)聚光并作为光点(SPa)而投射至第1描绘线(SLa)上，并且使由多面镜(PM)反射的第2光束(LBb)聚光并作为光点(SPb)而投射至第2描绘线(SLb)上。上述两条描绘线(SLa、SLb)于基板(P)上位于副扫描方向上的相同位置，且于主扫描方向上错开。
- 图案描绘方法
- [发明专利]图案描绘装置及图案描绘方法-CN201680035608.5有效
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小宫山弘树
-
株式会社尼康
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2016-06-17
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2020-07-17
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G02B26/12
- 本发明的图案描绘装置及图案描绘方法，稳定地维持描绘超详细图案所需的扫描线的配置精度或光学性能。图案描绘装置(EX)，使基板(P)上所聚光的光点(SP)沿着描绘线(SL)进行主扫描，并且使基板(P)进行副扫描，藉此于基板(P)上描绘既定图案；该图案描绘装置(EX)使由多面镜(PM)反射的第1光束(LBa)聚光并作为光点(SPa)而投射至第1描绘线(SLa)上，并且使由多面镜(PM)反射的第2光束(LBb)聚光并作为光点(SPb)而投射至第2描绘线(SLb)上。上述两条描绘线(SLa、SLb)于基板(P)上位于副扫描方向上的相同位置，且于主扫描方向上错开。
- 图案描绘装置方法
- [发明专利]基板处理装置-CN201680063524.2有效
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小宫山弘树;加藤正纪;铃木智也;奈良圭
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株式会社尼康
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2016-10-26
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2020-07-10
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G03F9/00
- 曝光装置EX，一边将长条的基板P搬送于长边方向，一边于基板P上形成既定图案，其具备：圆筒卷筒DR，支承基板P；作为第1支承构件的本体框架21及第1光学平台23轴支圆筒卷筒DR；描绘装置11，隔着基板P与旋转卷筒DR对向配置，于基板P上形成图案；作为第2支承构件的第2光学平台25保持描绘装置11；旋转机构24，将第1光学平台23与第2光学平台25能旋转地连结；标尺部GPa,GPb，用以测量圆筒卷筒DR的位置变化；以及编码器读头EN1,EN2，检测标尺部GPa,GPb的刻度。
- 处理装置
- [发明专利]光束扫描装置、光束扫描方法、及描绘装置-CN201680017014.1有效
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铃木智也;加藤正纪;小宫山弘树
-
株式会社尼康
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2016-03-18
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2020-05-29
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G02B26/12
- 本发明的光束扫描装置(MD)，是一边将光束(LB)的点光(SP)投射于对象物(FS)的被照射面、一边进行该点光(SP)于该被照射面上沿扫描线(SLn)的一维扫描，其具备：射入光束(LB)的入射光学构件(M10)、将来自入射光学构件(M10)的光束(LB)为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件(PM)、射入经偏向的光束(LB)后投射于被照射面的投射光学系(FT)、以及支承入射光学构件(M10)、扫描用偏向构件(PM)及投射光学系(FT)、可绕与照射中心轴(Le)在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴(Mrp)旋转的支承架(40)，该照射中心轴系相对该被照射面垂直通过以该点光(SP)的扫描在该被照射面上形成的扫描线(SLn)的中点。
- 光束扫描装置方法描绘
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