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[发明专利]应用于激光成像系统中不同厚度基板的标定方法及装置-CN201310659550.X有效
发明人：李显杰;赵飞 -专利权人： 天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2013-12-05 - 公布日： 2018-04-03 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种应用于激光成像系统中不同厚度基板的标定装置，所述标定装置包括工作平台、龙门、标定尺、斜垫块、图像采集设备CCD，单轴位移平台，所述吸盘放置于所述工作平台上，所述标定尺放置于所述斜垫块上且设置有等间距的固定图形，所述斜垫块放置于所述吸盘一侧，所述工作平台上设有龙门，所述CCD通过所述单轴位移平台与所述龙门上滑动连接。相应地，本发明提供了一种应用于激光成像系统中不同厚度基板的标定方法，本发明结构简单，测量误差较小，实用性较强，通过简单的结构能够实现标定CCD的测量变化，通过测量结果计算出CCD在图像采集过程中发生的偏移误差，对CCD的位移平台进行补偿。
应用于激光成像系统不同厚度标定方法装置

[实用新型]控制箱及用于LDI设备的控制箱装置-CN201621254945.7有效
发明人：杨振玲;刘涛;张昌清 -专利权人： 天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2016-11-21 - 公布日： 2017-09-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及控制箱技术领域，尤其涉及一种控制箱及用于LDI设备的控制箱装置。控制箱包括依次围接的第一侧板、第二侧板、第三侧板和第四侧板，第一侧板和第三侧板相对设置；控制箱还包括底板，底板、第一侧板、第二侧板、第三侧板和第四侧板形成箱体腔体；箱体腔体内设置有将箱体腔体分割成用于连接电子元件的第一区域和用于连接电气元件的第二区域的第一隔板，第一隔板垂直于底板。用于LDI设备的控制箱装置包括上述控制箱；本实用新型提供的控制箱及用于LDI设备的控制箱装置，以解决现有技术中存在的激光直接成像设备整机以及各个部件的制作、安装、维修更换以及运输过程中存在不便的技术问题。
控制箱用于 ldi 设备装置

[实用新型]对准镜筒、对准镜头及光刻机-CN201621254599.2有效
发明人：刘宝金;刘涛;王喜宝 -专利权人： 天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2016-11-21 - 公布日： 2017-06-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及光刻技术领域，尤其涉及一种对准镜筒、对准镜头及光刻机。对准镜筒包括第一镜筒和第二镜筒；第一镜筒沿长度方向设置有第一光路通道，第一光路通道贯穿第一镜筒；第二镜筒沿长度方向设置有第二光路通道，第二光路通道贯穿所述第二镜筒；第一镜筒的第一端与第二镜筒的第三端可拆卸连接，第一镜筒的长度方向与第二镜筒的长度方向重合；对准镜头包括上述对准镜筒，还包括第一镜片组和第二镜片组；光刻机包括上述对准镜头。本实用新型的目的在于提供一种对准镜筒、对准镜头及光刻机，以解决现有的对准镜筒存在的筒体细长，给机械加工和后期光学镜片的装配带来了难度的技术问题。
对准镜头光刻

[实用新型]用于LDI对位相机的标定装置-CN201620920607.6有效
发明人：周敏;刘涛;张昌清 -专利权人： 天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2016-08-22 - 公布日： 2017-06-30 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种用于LDI对位相机的标定装置，包括可移动的载物台、第一相机、第二相机、标定组件、支架和移动机构；所述第一相机和所述第二相机设置在所述支架上，且所述第一相机和所述第二相机的取景框朝向所述载物台；所述标定组件可拆卸的安装在所述载物台表面；所述载物台底部设置有所述移动机构，所述移动机构底部设置有用于支撑所述移动机构和所述支架的底座；所述第一相机、所述第二相机和所述移动机构分别与控制器电连接。本实用新型的有益效果为能够实现快速对位，能有效的提高对位相机标定精度，减少对位偏位等现象。
用于 ldi 对位相机标定装置

[实用新型]一种直写式光刻机的电控装置及直写式光刻机-CN201620920021.X有效
发明人：王新旺;刘涛;杨振玲 -专利权人： 天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2016-08-22 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及直写式光刻机设备技术领域，尤其涉及一种直写式光刻机的电控装置及直写式光刻机。其中，直写式光刻机的电控装置包括上位机、通信控制器件、激光器控制器件、聚焦控制器件、外围控制器件和温湿度监测器件；通信控制器件的一端与所述上位机电连接，另一端分别与激光器控制器件、聚焦控制器件、外围控制器件以及温湿度监测器件的输入端电连接；激光器控制器件的输出端与激光器电连接；聚焦控制器件的输出端与聚焦电机电连接；外围控制器件的输出端与外围设备电连接。直写式光刻机包括上述直写式光刻机的电控装置。本实用新型提供的直写式光刻机的电控装置及直写式光刻机，摆脱了上位机直接控制下位机的情况，接口连接稳定可靠。
一种直写式光刻装置

[实用新型]一种直写式光刻机控制面板的锁紧机构及直写式光刻机-CN201620920059.7有效
发明人：王昱山;刘涛;马强 -专利权人： 天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2016-08-22 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及直写式光刻机领域，尤其涉及一种直写式光刻机控制面板的锁紧机构及直写式光刻机。直写式光刻机控制面板的锁紧机构包括骨架和支撑装置；骨架固定连接在直写式光刻机的底座上；直写式光刻机上的控制面板与骨架可拆卸连接；直写式光刻机上的气动门保护板的一端与骨架固定连接，另一端与控制面板可拆卸连接；支撑装置固定连接在骨架上；支撑装置位于气动门保护板的下方，且与气动门保护板紧密接触。直写式光刻机包括上述直写式光刻机控制面板的锁紧机构，气动门保护板和控制面板。本实用新型提供的直写式光刻机控制面板的锁紧机构及直写式光刻机，具有结构简单新颖，稳定性强，便于拆装，且方便实用等诸多技术优势。
一种直写式光刻控制面板机构

[实用新型]光学引擎装置-CN201620920609.5有效
发明人：王喜宝;刘涛;张昌清 -专利权人： 天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2016-08-22 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种光学引擎装置，包括光源、用于调节收光的第一模块、用于使光能均匀稳定的第二模块；所述光源、所述第一模块与所述第二模块的中心线处于同一水平线上；所述光源、所述第一模块与所述第二模块依次耦合；所述光源依次通过所述第一模块与所述第二模块照射到被照明物体上。本实用新型的有益效果为可以为直写成像设备提供均匀的、稳定可靠的光能。
光学引擎装置

[实用新型]印制电路板自动定位装置-CN201620920608.0有效
发明人：祝锁;刘涛;张昌清 -专利权人： 天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2016-08-22 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种印制电路板自动定位装置，包括台面本体和定位插件；所述台面本体包括至少两条相互垂直的基准边，两条相互垂直的所述基准边的交点处形成定位原点，且所述台面上设有通孔；所述定位插件与所述通孔配合连接；多个所述定位插件将所述台面分成多个放置电路板的区域。本实用新型带来的有益效果为可以节约印制电路板的时间，提高印制电路板的生产效率。
印制电路板自动定位装置

[实用新型]一种PCB板上图案印刷的校准装置-CN201620920704.5有效
发明人：张秀颖;刘涛;王在超 -专利权人： 天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2016-08-22 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本实用新型涉及电路板设备技术领域，尤其涉及一种PCB板上图案印刷的校准装置。其包括直写式光刻机和干膜；直写式光刻机包括平台、支架、激光器和镜头；支架与平台固定连接；激光器和镜头固定设置在支架上；激光器和镜头设置在平台的正上方；干膜设置在平台上；干膜的表面设置有校准区；校准区内设置有多个结构件；多个结构件的边缘形状均相同，大小均不同；激光器发射的紫色光线落在校准区的内部；校准区在镜头的视角内部。本实用新型提供的PCB板上图案印刷的校准装置，提高了PCB板的可靠性，具有结构新颖，方便实用等诸多技术优势。
一种 pcb 图案印刷校准装置

[发明专利]多层矢量图形存储为曝光数据的方法及系统-CN201310520091.7在审
发明人：刘涛;赵飞;李显杰 -专利权人： 天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2013-10-29 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种多层矢量图形存储为曝光数据的方法，包括：将待曝光的多层矢量图形栅格化;将栅格化后的所述多层矢量图形数字化；将数字化后的所述多层矢量图形，利用八叉树分割法分割，对分割后的多层矢量图形数据，采用八叉树数据结构进行存储。相应地，本发明还公开了一种多层矢量图形存储为曝光数据的系统，本发明的有益效果为，本发明通过将多层矢量图形存储为曝光数据的方法及系统，解决了现有技术中由于多层矢量图形为多层，从而不能准确存储，进而无法准确光刻的问题，使人们可以低成本、高效地使用无掩模光刻技术。
多层矢量图形存储曝光数据方法系统

[发明专利]一种标定位移平台线性度的方法及系统-CN201310526171.3在审
发明人：李显杰;赵飞;陈勇 -专利权人： 天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2013-10-29 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种标定位移平台线性度的方法及系统，在激光成像系统中使用，包括：第1步，第一图像采集设备获取标定尺上第一固定图形位置进行定位，获取所述第一图像采集设备的位置坐标；第2步，第二图像采集设备从相邻所述第一固定图形的第二固定图形起始，沿同一方向依次获取所述标定尺上的固定图形位置进行定位，依次获取所述第二图像采集设备的位置坐标；第3步，计算图像采集设备变化的线性度，根据所述线性度值可以表征所述位移平台的线性度。本发明的有益效果为，本发明结构简单，测量误差较小，实用性较强，通过简单的结构能够实现实时有效的标定测量系统间的变化，通过测量的线性度对位移平台进行补偿。
一种标定位移平台线性方法系统

[发明专利]一种直写式光刻系统中内层对位的方法-CN201310520801.6在审
发明人：陈勇;李显杰 -专利权人： 天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2013-10-29 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种直写式光刻系统中内层对位的方法，包括，曝光电路板的正面电路图时，由打标装置同时将标记打在电路板的反面上，标记在电路板的下边框上的空白部位，同时将标记的相对于载体平台坐标系中位置数据（x_bi，y_bi）、i=0-n,其中n可以为7，转换到电路图的坐标系中，即为（x_Bi，y_Bi）、i=0-n，电路图的坐标系须以电路图的中心为基准，电路图在曝光反面时以绕于曝光运行方向的垂直方向翻转，即上下翻板。标记的相对于平台坐标系中位置数据（x_bi，y_bi）、i=0～n，是由系统中面阵CCD预先测量记录保存；上下翻板后做电路板反面曝光时，同样由系统中面阵CCD测量标记的位置坐标（x_ci，y_ci）、i=0-n，再与传递过来标记在电路图中坐标（x_Bi，y_Bi）、i=0-n进行分析，计算出电路图的旋转、平移数据，计算中计算旋转角再计算平移数据。
一种直写式光刻系统内层对位方法

[发明专利]一种多光路曝光设备的内层对位装置-CN201310520982.2在审
发明人：李显杰;陈勇 -专利权人： 天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2013-10-29 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种多光路曝光设备的内层对位装置，包括直线运动平台印刷电路板（PCB）、空间光调制器（SLM）、SLM成像镜筒、打标装置、图像采集设备、图像采集设备镜筒，所述PCB吸附在所述直线运动平台上，所述SLM下端连接有所述SLM成像镜筒，所述SLM成像镜投影在所述PCB上，所述打标装置固定在所述PCB一侧，所述图像采集设备下端连接有所述图像采集设备镜筒，所述图像采集设备通过所述图像采集设备镜筒采集所述PCB板上的图像。优选地，所述打标装置为uvLED或激光器，所述打标装置紧贴所述PCB安装。本发明的有益效果为，本发明的克服了标记各个空间光调制器SLM间相互扫描出图像不一致问题，运行操作简便，速度快，可以提高产能。
一种多光路曝光设备内层对位装置

[发明专利]一种对位精度检测方法及系统-CN201310518659.1在审
发明人：王艳升;李显杰 -专利权人： 天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2013-10-29 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种对位精度检测方法，包括如下步骤：第1步，利用试验板上的同一组对位标记来进行对准；第2步，利用所述对位标记进行第一次对准曝光，曝出第一组标尺；再次利用所述对位标记进行第二次对准曝光，曝出第二组标尺；第3步，所述试验板显影后观察两组标尺完全对齐的刻度线，获取X,Y两个方向的偏移方向与偏移量。本发明的有益效果为，本发明可对高对位精度镭射直接成像设备的重复对位精度与层间对位精度进行检测，具备自身影响转移的特征且精度高最小误差可达到1um，另外，利用本发明无需进行量测，直接观察便可以很精确的知道检测精度，避免了因量测设备的精度及量测误差的存在。
一种对位精度检测方法系统

[发明专利]一种利用灰度测试曝光能量的方法及系统-CN201310478284.0在审
发明人：王艳升;李显杰 -专利权人： 天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2013-10-14 - 公布日： 2014-01-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种利用灰度测试曝光能量的方法，所述方法在空间光调制器作为图形发生器的无掩模光刻系统中使用，所述曝光基底与所述微镜阵列相对匀速运动，控制所述与选取的曝光基底上的某一个像素点相对应的某一行M个微镜的翻转个数，根据所述翻转个数的不同获得不同的灰度值，与已知的感光干膜的能量格相对比，得到所述灰度值与所述曝光能量的对照关系数据；本发明提供一种利用灰度测试曝光能量的系统，所述系统在空间。本发明使用空间光调制器(SLM)进行灰度调制，可以按不同灰度灰阶实现STOUFFER21阶曝光尺功能，为客户准确寻找曝光条件提供方便、快捷的方法，并节约成本。
一种利用灰度测试曝光能量方法系统

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