专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]微芯片、分析设备以及分析方法-CN201680012801.7有效
  • 增原慎;加藤义明;南亮辅;渡边俊夫 - 索尼公司
  • 2016-02-24 - 2020-09-22 - B01L3/00
  • 根据一些方面,提供了一种微流体装置,包括:样本保持室;以及连接到样本保持室的至少一个流路,被配置为将液体供应到所述样本保持室中,其中,所述样本保持室包括:第一内表面;以及光照射区域,与所述第一内表面相交,并且被配置为从所述样本保持室的外部接收光,以照射所述样本保持室内部的液体,其中,所述第一内表面包括至少一个凹部,所述凹部成形为容纳存在于液体内的气泡,并且其中,所述至少一个凹部位于所述光照射区域以外。
  • 芯片分析设备以及方法
  • [发明专利]结构制造方法和结构-CN201110243061.7无效
  • 增原慎 - 索尼公司
  • 2011-08-18 - 2012-07-11 - B29C67/00
  • 本发明提供了一种结构制造方法和结构,该结构制造方法包括:在基础材料上层叠第一膜;根据基础材料上的第一膜的表面的位置,利用能量束选择性地照射第一膜以在第一膜上形成图案的潜像;在第一膜的表面上层叠第二膜;以及将显影剂提供给第二膜,并且将连同第二膜一起选择性被移除的、第一膜的移除目标部分移除,由此对图案进行显影。
  • 结构制造方法
  • [发明专利]制造母盘的方法以及制造光盘的方法-CN200910179414.4无效
  • 增原慎;中冲有克;山崎刚;行本智美 - 索尼株式会社
  • 2009-10-09 - 2010-05-26 - G11B7/26
  • 本发明涉及制造母盘的方法以及制造光盘的方法。一种制造母盘的方法包括以下步骤:在母盘形成衬底上形成无机抗蚀剂层,在无机抗蚀剂层的表面形成含有高折射率材料的保护薄膜以形成无机抗蚀剂母盘,其中高折射率材料的折射率n满足n≥曝光光学系统的NA,并且高折射率材料混合在光透过材料中;使用曝光光学系统从保护薄膜上方在无机抗蚀剂母盘上执行NA>1的近场曝光;将保护薄膜从经受了曝光的无机抗蚀剂母盘上分离;通过对分离了保护薄膜的无机抗蚀剂母盘的显影,形成包括曝光部分和未曝光部分的突起/凹陷图案。
  • 制造母盘方法以及光盘
  • [发明专利]光盘制造方法、原盘制造方法和光盘-CN200910134490.3无效
  • 高桥谦作;中野淳;增原慎;坂本哲洋;高川繁树 - 索尼株式会社
  • 2009-04-21 - 2009-10-28 - G11B7/26
  • 本发明公开了光盘制造方法、原盘制造方法和光盘,其中,该光盘制造方法包括以下步骤:通过在基板上形成具有记录激光波长的17%以下的厚度的蓄热层并形成无机抗蚀层来制造预曝光原盘;通过执行记录激光照射,对原盘的无机抗蚀层执行具有凹坑和间隙的记录信号图样的曝光;通过在曝光之后执行显影处理来制造具有含凹坑和间隙的凹坑阵列形状的原盘;通过使用具有凹坑阵列形状的原盘来制造被转印凹坑阵列形状的压模;以及制造具有预定层结构的光盘,预定层结构包括被转印压模的凹坑阵列形状并在凹坑阵列形状上形成银或银合金反射膜的记录层。通过本发明,提高了高记录密度光盘的生产率。
  • 光盘制造方法
  • [发明专利]磁盘基板和光盘-CN200380107950.4无效
  • 福岛义仁;中野淳;增原慎;越田晃生 - 索尼株式会社
  • 2003-10-20 - 2006-02-08 - G11B7/24
  • 在磁盘基板上具有数据区域和偏心测定区域(14),数据区域是用于记录以及/或再生数据;偏心测定区域是形成螺旋状凹槽的凹槽区域和平面状的反射镜区域在空间上被相互交错设置。形成在该偏心测定区域上的凹槽区域的宽度、反射镜区域的宽度以及凹槽区域上的凹槽的间隔被选择成为现有的机械特性测定装置可以将形成在凹槽区域上的多条凹槽作为一条凹槽进行跟踪。
  • 磁盘光盘
  • [发明专利]光盘和光盘装置-CN98109351.5无效
  • 菅野正喜;篠田昌孝;金子正彦;服部真人;增原慎 - 索尼株式会社
  • 1998-05-28 - 2004-06-30 - G11B7/24
  • 一种新颖的光盘和一种光盘装置,这种光盘在具有与常规MD或MD数据的互换性的同时,还具有远大于这些光盘的容量。该光盘和该光盘装置考虑到伴随增大记录密度的歪斜限制。通过把随机码信号只记录在一个磁道上时产生的抖动设置为不大于8.4%,并且通过把同样将信号记录在两侧相邻磁道上时的抖动增大设置为不大于4.9%,来保证径向歪斜裕度不小于±0.7°,而在行走方向(周向)的歪斜裕度不小于±0.6°。
  • 光盘装置
  • [发明专利]光盘压模,制造光盘的方法和光盘-CN02801073.6无效
  • 中野淳;秋山雄治;增原慎 - 索尼公司
  • 2002-03-28 - 2003-12-03 - G11B7/26
  • 本发明涉及一种用于光盘的压模和一种用这种压模制造光盘的方法。把光刻胶施用于衬底(2)并且将该光刻胶曝光、显影并随后转印以形成一侧上形成有凹/凸构图的原模盘。原模盘(20)的这一侧被蚀刻以将构成凹/凸构图的突出部分的宽度变窄,然后,原模盘(20)上宽度减小了的凹/凸构图被转印以形成压模(30)。形成在压模(30)上的凹/凸构图被转印以在光盘的衬底上形成预定的构图。
  • 光盘制造方法
  • [发明专利]光记录介质和光盘装置-CN01803911.1有效
  • 市村功;大里洁;中野淳;增原慎 - 索尼公司
  • 2001-11-20 - 2003-02-05 - G11B7/24
  • 本发明提供了一种光记录介质和可以防止交叉写入光盘装置,被数值孔径为0.85±0.1的透镜(12,14)会聚的波长为405±5nm的光被聚焦在光记录介质上,进行记录或播放,具有在表面上形成有凹槽(2)的基板(1),形成在该基板上并具有与凹槽相应的外形的光记录层(3),和形成在光记录层上的透光型保护层(4);仅远离用于记录或播放的光的发射侧一侧,即相当于外形凹进部分的区域,和靠近光的发射侧一侧,即相当于凸起部分的区域其中之一用作记录区域;使记录道间距为0.32±0.01μm;使凹进部分相对凸起部分的深度(D2)在19至24nm范围内。
  • 记录介质光盘装置

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