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- [发明专利]光盘制造方法、原盘制造方法和光盘-CN200910134490.3无效
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高桥谦作;中野淳;增原慎;坂本哲洋;高川繁树
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索尼株式会社
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2009-04-21
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2009-10-28
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G11B7/26
- 本发明公开了光盘制造方法、原盘制造方法和光盘,其中,该光盘制造方法包括以下步骤:通过在基板上形成具有记录激光波长的17%以下的厚度的蓄热层并形成无机抗蚀层来制造预曝光原盘;通过执行记录激光照射,对原盘的无机抗蚀层执行具有凹坑和间隙的记录信号图样的曝光;通过在曝光之后执行显影处理来制造具有含凹坑和间隙的凹坑阵列形状的原盘;通过使用具有凹坑阵列形状的原盘来制造被转印凹坑阵列形状的压模;以及制造具有预定层结构的光盘,预定层结构包括被转印压模的凹坑阵列形状并在凹坑阵列形状上形成银或银合金反射膜的记录层。通过本发明,提高了高记录密度光盘的生产率。
- 光盘制造方法
- [发明专利]光记录介质和光盘装置-CN01803911.1有效
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市村功;大里洁;中野淳;增原慎
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索尼公司
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2001-11-20
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2003-02-05
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G11B7/24
- 本发明提供了一种光记录介质和可以防止交叉写入光盘装置,被数值孔径为0.85±0.1的透镜(12,14)会聚的波长为405±5nm的光被聚焦在光记录介质上,进行记录或播放,具有在表面上形成有凹槽(2)的基板(1),形成在该基板上并具有与凹槽相应的外形的光记录层(3),和形成在光记录层上的透光型保护层(4);仅远离用于记录或播放的光的发射侧一侧,即相当于外形凹进部分的区域,和靠近光的发射侧一侧,即相当于凸起部分的区域其中之一用作记录区域;使记录道间距为0.32±0.01μm;使凹进部分相对凸起部分的深度(D2)在19至24nm范围内。
- 记录介质光盘装置
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