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[发明专利]基板处理装置以及基板处理装置的监视方法-CN202310044723.0在审
发明人：清水进二;山田亮;增井达哉;出羽裕一;宫胁美和 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2023-01-30 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种即使在处理槽内贮存有处理液也能够以更高精度监视处理槽的内部的技术。基板处理装置(100)使多个基板(W)浸渍在处理液内来一并处理多个基板(W)。基板处理装置(100)具备处理槽(10)以及摄像头(30)。处理槽(10)贮存处理液。摄像头(30)与处理槽(10)相比设在铅垂上方，拍摄处理槽(10)的内部生成多个拍摄图像数据。控制部(90)基于多个拍摄图像数据的累计生成使在处理液的液面产生的摇晃的亮度分布平滑化的平滑图像数据，基于该平滑图像数据监视处理槽(10)的内部。
处理装置以及监视方法

[发明专利]基板检测装置、基板处理装置及基板检测方法-CN202211677587.0在审
发明人：清水进二;山田亮;增井达哉;出羽裕一;宫胁美和 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：提供一种用户能够容易识别异常种类的基板检测装置、基板处理装置及基板检测方法。基板检测装置(102)具备照明部(60)、摄像头(50)、报知部(70)和控制部(103)。照明部(60)向包含插入于多个保持槽中的多个基板(W)在内的拍摄区域照射照明光，多个保持槽包含于基板保持部并沿着规定的排列方向排列。摄像头(50)对拍摄区域进行拍摄而生成拍摄图像数据。控制部(103)进行检测处理，即基于拍摄图像数据检测多个基板(W)中的某一个基板(W)斜着插入的斜插异常、以及在多个保持槽中的某一个保持槽中插入了两个以上基板(W)的多插异常中的至少某一方，并使报知部(70)报知所检测出的异常。
检测装置处理方法

[发明专利]衬底处理装置及衬底处理方法-CN201811084085.0有效
发明人：犹原英司;角间央章;冲田有史;增井达哉 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-09-17 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供能够掌握衬底的被处理面的中央侧及外周侧的处理结束时间点的衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置具备：衬底旋转部，所述衬底旋转部将衬底保持为水平并使其旋转；喷嘴，所述喷嘴向通过衬底旋转部进行旋转的衬底的被处理面供给处理液；拍摄部，所述拍摄部对包含多个对象区域的拍摄区域进行拍摄，所述对象区域是在向衬底供给了处理液时形成了液膜的区域；和检测部，所述检测部参照拍摄部的拍摄结果，基于多个对象区域的各自的亮度值的变化，来检测多个对象区域的各自的处理结束时间点。另外，拍摄区域至少包含被处理面的中央侧的区域和外周侧的区域作为多个对象区域。因此，能掌握衬底的被处理面的中央侧及外周侧的处理结束时间点。
衬底处理装置方法

[发明专利]用于基板处理监视的设定信息的设定方法、基板处理装置的监视方法以及基板处理装置-CN202180043923.3在审
发明人：冲田有史;犹原英司;角间央章;增井达哉;出羽裕一 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-06-04 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种用于基板处理监视的设定信息的设定方法，具备：设置制程工序(S12)，对使基板处理装置内的第一监视对象物移动的移动机构进行控制，使所述第一监视对象物移动至第一停止位置；设置拍摄工序，与设置制程工序(S12)并行地执行，并由照相机对第一监视对象物进行拍摄；以及设定工序(S16)，基于在设置拍摄工序中由照相机取得并包含停止于第一停止位置的第一监视对象物的第一图像数据和表示第一监视对象物的至少一部分的第一参照图像数据，检测第一图像数据内的第一监视对象物的位置，并将该位置设定为与所述第一停止位置相关的适当位置。
用于处理监视设定信息方法装置以及

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN202180038150.X在审
发明人：沖田有史;犹原英司;角间央章;增井达哉;出羽裕一 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-05-12 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供可根据更适当的图像数据来进行对多个监视对象分别进行监视处理的技术。本发明的基板处理方法具备：保持步骤，将基板搬入腔室的内部并将基板加以保持；供给步骤，在腔室的内部对基板供给流体；拍摄步骤(S12)，由照相机对腔室的内部按序地进行拍摄来获取图像数据；条件设定步骤(S11)，从腔室内的多个监视对象候补中确定监视对象，并根据监视对象来变更图像条件；及监视步骤(S13)，根据具有与监视对象对应的图像条件的图像数据，进行对监视对象的监视处理。
处理方法装置

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN202180040992.9在审
发明人：冲田有史;犹原英司;角间央章;增井达哉;出羽裕一 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-05-28 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：在第一吐出工序中，对设于供给管的阀输出开信号，从喷嘴(30)的前端向基板(W)的主面吐出处理液。在移动工序中，在对阀输出闭信号的时间点以后，使喷嘴(30)移动。在拍摄工序中，至少在对阀输出闭信号的时间点以后使摄像机依次拍摄，取得多个图像数据。在设定工序中，检测多个图像数据的每一个中的喷嘴(30)的位置，追踪喷嘴(30)的位置变化，在比喷嘴(30)的前端靠下侧设定判定区域(R11)。在漏液监视步骤中，基于多个图像数据的每一个中的判定区域(R11)内的像素，监视从喷嘴(30)的前端落下的处理液的有无。
处理方法装置

[发明专利]状态检测装置以及状态检测方法-CN202210786506.4在审
发明人：冲田有史;犹原英司;角间央章;增井达哉;出羽裕一 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-07-04 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明涉及状态检测装置以及状态检测方法，在抑制检测精度的降低的同时检测卡盘销的开闭状态。状态检测装置具有：至少1个卡盘销，其用于保持基板；拍摄部，其拍摄卡盘销，将获得的至少1个图像作为对象图像；匹配坐标计算部，其利用对象图像和表示卡盘销的至少1个图像即基准图像进行匹配处理，计算匹配坐标，所述匹配坐标是表示图像间的匹配分数最高的情况下的基准图像在对象图像中的位置的坐标；检测部，其根据匹配坐标，检测卡盘销的开闭状态。
状态检测装置以及方法

[发明专利]可动部位置检测方法、基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统-CN201980056745.0有效
发明人：冲田有史;犹原英司;角间央章;增井达哉 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-07-24 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：差异运算部(92)计算基准图像(80)中的各卡盘销(26)的位置与对象图像(82)中的各卡盘销(26)的位置之间的差异。判定区域设定部(932)在对象图像(82)中设定用于检测喷嘴(30)的位置的判定区域(DR)。此时，判定区域设定部(932)根据作为标识部的各卡盘销(26)之间的位置差异，对基准图像(80)中设定的基准判定区域(SDR)的位置进行修正，从而在对象图像(82)中设定判定区域(DR)。
部位检测方法处理装置以及系统

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201980065740.4在审
发明人：犹原英司;冲田有史;角间央章;增井达哉 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-09-25 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：提供一种能够拍摄喷出到基板的端部的液柱状的处理液的基板处理装置。基板处理装置具有基板保持部20、杯构件40、升降机构44、第一喷嘴31以及相机70。基板保持部20保持基板W并使基板W旋转。杯构件40包围基板保持部20的外周。升降机构44以使杯构件40的上端部位于比基板保持部20保持的基板W高的上端位置的方式，使杯构件40上升。第一喷嘴31在比上端位置低的位置具有喷出口，从喷出口向基板W的端部喷出第一处理液。相机70拍摄从基板W的上方的拍摄位置观察的拍摄区域，该拍摄区域包含从第一喷嘴31的喷出口喷出的第一处理液。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201980065636.5在审
发明人：犹原英司;冲田有史;角间央章;增井达哉 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-09-25 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：提供一种能够监视喷出到基板的端部的液柱状的处理液的着落位置的基板处理方法。基板处理方法具有保持工序、旋转工序、上升工序、斜面处理工序、拍摄工序以及监视工序。在保持工序中，使基板保持部保持基板。在旋转工序中，使基板保持部旋转来使基板旋转。在上升工序中，使包围基板保持部的外周的杯构件上升，使杯构件的上端位于比基板的上表面高的上端位置。在斜面处理工序中，从位于比该上端位置低的位置的喷嘴的喷出口向基板的上表面的端部喷出处理液。在拍摄工序中，使相机对从基板的上方的拍摄位置观察的拍摄区域进行拍摄，获得拍摄图像，在该拍摄区域中包括从喷嘴喷出的处理液以及映现在基板的上表面的喷出液的镜像。在监视工序中，基于拍摄图像中的处理液与该镜像，监视处理液的着落位置。
处理方法以及装置

[发明专利]基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统-CN201980054879.9在审
发明人：樋口鲇美;犹原英司;冲田有史;岩畑翔太;角间央章;增井达哉 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-07-04 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理方法具有第一工序至第六工序。保持基板(第一工序)。开始利用相机进行拍摄，从而生成拍摄图像(第二工序)。开始从第一喷嘴向基板喷出处理液(第三工序)。停止从第一喷嘴喷出处理液，开始从第二喷嘴喷出处理液(第四工序)。基于针对拍摄图像的图像处理，求出从第二喷嘴喷出处理液的开始时刻与从第一喷嘴喷出处理液的停止时刻之间的时间差(第五工序)。在判定为时间差在规定范围外时，以使时间差处于规定范围内的方式调整开始时刻及停止时刻中的至少任一者(第六工序)。
处理方法装置以及系统

[发明专利]基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统-CN201980054884.X在审
发明人：犹原英司;冲田有史;角间央章;增井达哉 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-07-03 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：相机(70)通过连续拍摄在处理区间(PS1)内移动的喷嘴(30)来获取摄影图像。基准图像登记部(90)对通过拍摄位于处理区间(PS1)的第一端(TE1)及第二端(TE2)的喷嘴(30)而获得的第一基准图像及第二基准图像(RP1、RP2)进行登记。位置偏离检测部(91)具有：图像判定部(910)，对于利用相机拍摄在处理区间(PS1)内移动的喷嘴(30)而获得的实际图像(GP)，根据既定的判定规则，判定是否为与所述第一端及所述第二端分别对应的图像；以及图像比较部(912)，将第一基准图像及第二基准图像(RP1、RP2)与由图像判定部(910)判定为与第一端及第二端分别对应的实际图像(GP)进行比较。
处理方法装置以及系统

[发明专利]教师数据生成方法以及吐出状态的判断方法-CN201980055179.1在审
发明人：沖田有史;犹原英司;增井达哉;角间央章 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-08-21 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： B05D3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种可生成与吐出喷嘴的吐出状态相应的教师数据的教师数据生成方法。生成教师数据的方法，包括：保持步骤、处理液吐出步骤、摄像步骤及教师数据生成步骤。在保持步骤中，将基板大致水平地保持于基板保持机构。在处理液吐出步骤中，自吐出喷嘴向基板的主表面吐出处理液。在摄像步骤中，利用相机在包含处理液吐出步骤的至少一部分期间内，对以包含吐出喷嘴、及处理液吐出步骤中所吐出的处理液的至少一部分的方式被调整的摄像区域进行摄像，取得多个图像数据。在教师数据生成步骤中，针对多个图像数据中的至少一个，将与该图像数据中所映现的处理液吐出状态相应的标签赋予至该图像数据，生成教师数据。
教师数据生成方法以及吐出状态判断

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN202010840506.9在审
发明人：角间央章;沖田有史;犹原英司;增井达哉;出羽裕一 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2020-08-19 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种不需要基准图像也能够判定基板是否被正常地保持的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具有：保持部，用于保持基板；拍摄部，用于在包括被保持的基板的外缘部的拍摄范围内对基板的多个部位进行拍摄，并且输出基板的多个图像数据；提取部，用于从多个图像数据之间的差分图像提取基板的外缘部；以及判定部，用于基于差分图像中的基板的外缘部，判定基板的保持状态。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN202010805951.1在审
发明人：角间央章;沖田有史;犹原英司;增井达哉;出羽裕一 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2020-08-12 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明提供一种提高对移动的喷嘴的位置检测精度的基板处理装置。基板处理装置具有用于拍摄喷嘴并输出喷嘴的图像数据的拍摄部，用于根据图像数据检测喷嘴的位置的位置检测部。位置检测部在停止区域中，通过使用基准图像数据对图像数据进行匹配处理，从而检测喷嘴的位置，在移动区域中，将在停止区域检测到的喷嘴的位置作为基准，通过在连续的图像数据之间进行循轨处理来检测喷嘴的位置。
处理装置方法

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